价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 )?D w) s5
课程共三十节 Rd|xw%R\mb
课程简介：
M RZ/%OZ. 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
ZA! yw7~ 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
Or9`E( 课程大纲：
r1o_i;rg 1. 软件基础入门
oyt#C HX 软件简介
{;[W'Lc 软件计算方法简介
2ij /! 程序基本框架和全局
参数设置
wg0hm#X 程序中使用的各种术语的定义
e |&}{JP{[ 
X1GpLy)p 2. 图表
L^Q q[> 绘图和制表来表示性能
5J 0Sc 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
ZUiI nO 交互式绘图的使用
2B<0|EGtzw 3. 材料管理
Y#[>j4<T 材料的获取
xO nW~Z 材料的导入与导出
klqN9d9k
材料数据平滑与插值
^,;AM(E 用包络法推导介质膜的光学常数
5lp }; 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
C6P(86? 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
v@KP~kp 4. 薄膜设计与优化简介
SF#Rc>v 优化与合成功能说明
{6uh Ub
优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
XnCrxj 膜层锁定和链接
:lGH31GG 减反膜优化
8fI&-uP{g 高反膜优化
HGJfj*JH 滤光片优化
4X^{aIlshk 斜入射光学薄膜
Ml Bw=Nr 5. 反演工程
v!b
8_0~u6 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
tm[e?+Iq 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
o"5[~$O 6. 分析工具
F Jj # 颜色模型和分析工具
LtDQgel" 公差工具和良品率预估
Edi`x5"l 灵敏度分析
>*"6zR2 o 7. 附加模块-Vstack
5HAI K c 非平行平面镀膜
vKCgtk 棱镜镀膜透反吞吐量评估
- Ze{d$ 8. 附加模块-DWDM
"Nx3_mQ 光通信用窄带滤光片
模拟 3{;W!/&> 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
d|, B* N(w 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
\h&ui]V 镀膜沉积过程噪声信号模拟
%j*i= 10. 附加模块-Function
,*w 如何在Function中编写脚本
V&>\U?q: 案例：自定义画图
h)746T ) 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
ZX
Sl+k . 案例：膜厚变化颜色变化
