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B6tcKh9d, 内容简介 j[$B\H Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 uznoyj6g 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 8CHb~m@^$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 s=H/b$v , aRJ!AZ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 l%sp[uqcg 目录 ,^MW)Gf< Preface 1 8\qCj.>S 内容简介 2 ka?IX9t\ 目录 i w\"n!^ms 1 引言 1 QOkE\ro 2 光学薄膜基础 2 &+E'1h10 2.1 一般规则 2 f_i"/xC-/ 2.2 正交入射规则 3 BiHiVhD_ 2.3 斜入射规则 6 &rl]$Mtt 2.4 精确计算 7 *_4n2<W$ 2.5 相干性 8 dO 1-c` 2.6 参考文献 10 % +kT 3 Essential Macleod的快速预览 10 O84v*=u A 4 Essential Macleod的特点 32 bqg]DO$* 4.1 容量和局限性 33 w8m8r`h 4.2 程序在哪里? 33 >gX0Ij#G 4.3 数据文件 35 O?C-nw6kP 4.4 设计规则 35 z:ru68 4.5 材料数据库和资料库 37 j61BP8E 4.5.1材料损失 38 +E q~X=x 4.5.1材料数据库和导入材料 39 E< zT 4.5.2 材料库 41 @yU!sE: 4.5.3导出材料数据 43 :/yr(V{ 4.6 常用单位 43 $L<_uqSk 4.7 插值和外推法 46 fG8}= xH_& 4.8 材料数据的平滑 50 4pfix1F g 4.9 更多光学常数模型 54 5C Y@R 4.10 文档的一般编辑规则 55 X%4uShM 4.11 撤销和重做 56 c:?#zX 4.12 设计文档 57 \J,- <wF 4.10.1 公式 58 |"Xi%CQ2 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 O?j98H
Sya 4.10.3 沉积密度 59 .gM>FUH3L 4.10.4 平行和楔形介质 60 jM3Y|}+ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 .q_uJ_qu- 4.10.4 性能 61 dPH!
V6r 4.10.5 保存设计和性能 64 zulf%aaL 4.10.6 默认设计 64 ;G%wc! 4.11 图表 64 9z|>roNe 4.11.1 合并曲线图 67 {0A[v}X ~ 4.11.2 自适应绘制 68 D_yY0rRM 4.11.3 动态绘图 68 yv!''F:9F 4.11.4 3D绘图 69 :"<B@Z 4.12 导入和导出 73 RKoP6LGw 4.12.1 剪贴板 73 DmXDg7y7s 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 +c]N]?k& 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 BqLtTo ?' 4.13 背景 77 8CnI%_Su 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 7+D'W7Yx 4.15 生成Rugate 84 |oBdryi 4.16 参考文献 91 /,rF$5G, 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 86^ZYh 5.1 Jobs 92 L6rs9su=7 5.2 创建一个新Job(工作) 93 k[r./xEv+t 5.3 输入材料 94 O)U$Ef 5.4 设计数据文件夹 95 RXx?/\~yd; 5.5 默认设计 95 B(en5| 6 细化和合成 97 (AM,4)lW, 6.1 优化介绍 97 (}~eD 6.2 细化 (Refinement) 98 _ntW}})K 6.3 合成 (Synthesis) 100 9s\i(/RxW 6.4 目标和评价函数 101 XD+cs.{5 6.4.1 目标输入 102 I?> - 6.4.2 目标 103 1VjeP
* 6.4.3 特殊的评价函数 104 {M)3GsP? 6.5 层锁定和连接 104 @KW+?maW 6.6 细化技术 104 S,"ChR 6.6.1 单纯形 105 }<\65 B$1 6.6.1.1 单纯形参数 106 ,s yA() 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 /ie3H,2 6.6.2.1 Optimac参数 108 Iu1Sj`A 6.6.3 模拟退火算法 109 }lNufu 6.6.3.1 模拟退火参数 109 H%NLL4&wu 6.6.4 共轭梯度 111 ZB^4 (F')H 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2,XqslB) 6.6.5 拟牛顿法 112 7u`}t83a 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 '#4mDz~ 6.6.6 针合成 113 ,a]~hNR*X 6.6.6.1 针合成参数 114 G%p!os\> 6.6.7 差分进化 114 qh(-shZ4Du 6.6.8非局部细化 115 soqNzdTB2 6.6.8.1非局部细化参数 115 P7>C4rmQ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 L"[wa.< 6.7.1 细化 116 S)'q:`tZo 6.7.2 合成 117 #o"HD6e 6.8 参考文献 117 Z;~E+dXC 7 导纳图及其他工具 118 #`vGg9 7.1 简介 118 <E}]t,'3 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 @'<j!CqQ
o 7.2.1 四分之一波长规则 119 DO- K 7.2.2 导纳图 120 a5U2[Ko80 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }_kI> 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 xZ @O"*{ 7.5 斜入射导纳图 141 8F\Msx 7.6 对称周期 141 (fGJP*YO 7.7 参考文献 142 ^$Eiz. 8 典型的镀膜实例 143 PM@s}( 8.1 单层抗反射薄膜 145 _@~kYz 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 #g`cih=QL 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 }PIGj} F/ 8.4 W-膜层 148 :AE;x& 8.5 V-膜层 149 ?9r,Y;,H 8.6 V-膜层高折射基底 150 3~3(G[w 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 &v9PT!R~ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 m/F(h-? 8.9 四层抗反射薄膜 153 Fx88R! 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 SiuO99'nV 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8apKp?~yW 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 U9p.Dh~)vG 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 1-]x 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 NK#"qK""k 8.15十五层宽带抗反射膜 159 @8M2'R\ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 .McoW7|Y 8.17 1/4波长堆栈 162 zc,9Qfn 8.18 陷波滤波器 163 xc]C#q 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 #&2N,M!Q 8.20 褶皱 165 SSsQu^A 8.21 消偏振分光器1 169 >yT@?!/Q>' 8.22 消偏振分光器2 171 >*i8RqU 8.23 消偏振立体分光器 172 9Or4`JOO 8.24 消偏振截止滤光片 173 OD/P*CQ_ 8.25 立体偏振分束器1 174 M Xt + 8.26 立方偏振分束器2 177 PN^1 8.27 相位延迟器 178 }Keon.N? 8.28 红外截止器 179 }Ka.bZS 8.29 21层长波带通滤波器 180 x< |