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A}# Mrb 内容简介 xa:P(x3[ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2{\Y<%. 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ~ME=!;<_ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ;?9~^,l -)GfSk
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 @hv]
[(< 目录 !j@ 8:j0WY Preface 1 x&wUPo{ 内容简介 2 @ck2j3J/ 目录 i 4g9VE;Gd 1 引言 1 &gfQZxT 2 光学薄膜基础 2 <j'#mUzd 2.1 一般规则 2 va.wdk g 2.2 正交入射规则 3 <rI~+J]s 2.3 斜入射规则 6 ,58[WZG 2.4 精确计算 7 umeb&\:8S- 2.5 相干性 8 XDF",N) 2.6 参考文献 10 {3>^nMv@e 3 Essential Macleod的快速预览 10 s zg1.& 4 Essential Macleod的特点 32 Qt$Q/<8U 4.1 容量和局限性 33 "%Ak[04' 4.2 程序在哪里? 33 }e$);A| 4.3 数据文件 35 V !$m{)Y 4.4 设计规则 35 #S5vX<"9 4.5 材料数据库和资料库 37 K!X8KPo 4.5.1材料损失 38 KpL82 4.5.1材料数据库和导入材料 39 5+r#]^eQY- 4.5.2 材料库 41 w pvaTHo 4.5.3导出材料数据 43 LO229`ARr| 4.6 常用单位 43 )yk
LUse+ 4.7 插值和外推法 46 i
F Ab"VA 4.8 材料数据的平滑 50 |(fWT}tg 4.9 更多光学常数模型 54 E =E 4.10 文档的一般编辑规则 55 %-dGK)? 4.11 撤销和重做 56 ]iPdAwc.1 4.12 设计文档 57 (\T?p9 4.10.1 公式 58 xab[ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ?@#<>7V 4.10.3 沉积密度 59 Xo,BuK&G 4.10.4 平行和楔形介质 60 4_ 3\4 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 O_033& 4.10.4 性能 61 K;Ktx>Z/ 4.10.5 保存设计和性能 64 S}+n\pyQ 4.10.6 默认设计 64 Jad'8}0J 4.11 图表 64 AjpQb~\ 4.11.1 合并曲线图 67 Msf yIB 4.11.2 自适应绘制 68 83h6>D b 4.11.3 动态绘图 68 x>K em$z 4.11.4 3D绘图 69 S=o/n4@} 4.12 导入和导出 73 _%x|,vo`( 4.12.1 剪贴板 73 '=r.rW5 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 q7;)&_' 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
84k;d; 4.13 背景 77 @!-= :<h 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ,^3D"Tky 4.15 生成Rugate 84 +VJl#sc/; 4.16 参考文献 91 &EMm<(.]a 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 X'5te0v`3 5.1 Jobs 92 hZy"@y3Yq 5.2 创建一个新Job(工作) 93 2c}kiqi{ 5.3 输入材料 94 eI@O9<.& 5.4 设计数据文件夹 95 IL<5Suz: 5.5 默认设计 95 nQ mkDPjU 6 细化和合成 97 e='3gzz 6.1 优化介绍 97 tqHXzmsjW 6.2 细化 (Refinement) 98 |YH1q1l 6.3 合成 (Synthesis) 100 sbRg=k&Ns 6.4 目标和评价函数 101 Yd@9P2C 6.4.1 目标输入 102 <1"6`24 6.4.2 目标 103 l|DOsI'r 6.4.3 特殊的评价函数 104 te1lUQ 6.5 层锁定和连接 104 pDu~84!]) 6.6 细化技术 104 ' _N > 6.6.1 单纯形 105 .EI/0"^ 6.6.1.1 单纯形参数 106 zdY`c 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 1$c*/Tc:E 6.6.2.1 Optimac参数 108 .AKx8=f 6.6.3 模拟退火算法 109 0^;{b^!( 6.6.3.1 模拟退火参数 109 C?zC|0 6.6.4 共轭梯度 111 *d@}'De{8 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 :`_wy-}V 6.6.5 拟牛顿法 112 bo]k9FC 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 /OViqZ;9 6.6.6 针合成 113 L)Kn8 6.6.6.1 针合成参数 114 (A1 !)c 6.6.7 差分进化 114 FrB19 6.6.8非局部细化 115 LG;xZQx' 6.6.8.1非局部细化参数 115 BKN]DxJ6 6.7 我应该使用哪种技术? 116 pPh$Jvo] 6.7.1 细化 116 &We'omq 6.7.2 合成 117 \A':}<Rj 6.8 参考文献 117 nwz}&nR 7 导纳图及其他工具 118 xe
6x! 7.1 简介 118 m0 `wmM 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ,]o32@ 7.2.1 四分之一波长规则 119 0evG 7.2.2 导纳图 120 @#sQ7eMoy 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 _wm"v19 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ~=}56yxl[ 7.5 斜入射导纳图 141 6MZfoR 7.6 对称周期 141 D|OX]3~ 7.7 参考文献 142 ,"&v |