-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-04-02
- 在线时间1761小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) PO"lY'W.U (V6bX]< 内容简介 Ldz]FB| Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5U475& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Ie.
on ) 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 K/
On|C #! R>`l(S ct3i^,i
~TRC-H 目录 $3HqVqF^R Preface 1 [Xu8~c X 内容简介 2 ,w#lUgp 目录 i I
</P_:4G 1 引言 1 UGO;5! 2 光学薄膜基础 2 _f%s] 2.1 一般规则 2 c]|vg=W 2.2 正交入射规则 3 |})s 0TU 2.3 斜入射规则 6 Hloe7+5UD 2.4 精确计算 7 ]H
n:c'aT 2.5 相干性 8 kzRvLs4xM 2.6 参考文献 10 7_1 Iadb 3 Essential Macleod的快速预览 10 y5j:+2|I 4 Essential Macleod的特点 32 jy!]MAP#Gk 4.1 容量和局限性 33 ES+CAwqf 4.2 程序在哪里? 33 M?h{'$T 4.3 数据文件 35 _k2R^/9Ct% 4.4 设计规则 35 YP02/*' 4.5 材料数据库和资料库 37 3<r7"/5 4.5.1材料损失 38 ]AY 4bm 4.5.1材料数据库和导入材料 39 zVS{X=u 4.5.2 材料库 41 FLMiW]?x 4.5.3导出材料数据 43 ]jhi"BM 4.6 常用单位 43 I_ZJnu< 4.7 插值和外推法 46 {zcG%b WJ 4.8 材料数据的平滑 50 U7g`R@ 4.9 更多光学常数模型 54 k={D!4kKz 4.10 文档的一般编辑规则 55 F+H]{ss> 4.11 撤销和重做 56 gGVt( ^ 4.12 设计文档 57 7p.8{zQ* 4.10.1 公式 58 Z?o0Q\}1 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Qf=^CQ=lV 4.10.3 沉积密度 59 yQrgOdo,w 4.10.4 平行和楔形介质 60 Z2]0brV 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 FFw(`[A_ 4.10.4 性能 61 .:j{d}p} 4.10.5 保存设计和性能 64 XS&Pc 4.10.6 默认设计 64 mw 5>[ 4.11 图表 64 `VwG]2 I 4.11.1 合并曲线图 67 b/UXO$_~- 4.11.2 自适应绘制 68 fF0K]. 4.11.3 动态绘图 68 HKJCiQ|k 4.11.4 3D绘图 69 9Ad%~qciY 4.12 导入和导出 73 \7LL neq 4.12.1 剪贴板 73
(sKg*G2 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 LG,? ,%_s 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 wMCMrv: 4.13 背景 77 "> Qxb.Y} 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 vX }iA|`# 4.15 生成Rugate 84 pqO3(2F9 4.16 参考文献 91 5>9Q<* 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 }SSg>.48w 5.1 Jobs 92 i
7]o[ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 */K[B(G 5.3 输入材料 94 2@a'n@- 5.4 设计数据文件夹 95 )isS^O$qH 5.5 默认设计 95 HAO-|=c4 6 细化和合成 97 GhfhR^P 6.1 优化介绍 97 .$-;`&0cZ 6.2 细化 (Refinement) 98 |2^mCL.r 6.3 合成 (Synthesis) 100 = cxO@Fu 6.4 目标和评价函数 101 ti+e U$ 6.4.1 目标输入 102 ?/&X_O 6.4.2 目标 103 Nt8"6k_ 6.4.3 特殊的评价函数 104 *I?-A(e 6.5 层锁定和连接 104 N#M>2b<A/T 6.6 细化技术 104 : _Y^o 6.6.1 单纯形 105 -`q!mdA2 6.6.1.1 单纯形参数 106 |gA@$1+} 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 "T5jz#H#/ 6.6.2.1 Optimac参数 108 zKP[]S- 6.6.3 模拟退火算法 109 TE&E f$h 6.6.3.1 模拟退火参数 109 9mvy+XD 6.6.4 共轭梯度 111 &G%AQpDW5 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ;0WAfu}#H 6.6.5 拟牛顿法 112 "-S!^h/v 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 "#wAGlH6> 6.6.6 针合成 113 Ut~YvWc9 6.6.6.1 针合成参数 114 )b nGZ8h99 6.6.7 差分进化 114 ^kNVQJiZyG 6.6.8非局部细化 115 x%X3FbF] 6.6.8.1非局部细化参数 115 LF.i0^#J 6.7 我应该使用哪种技术? 116 A(&\wd 6.7.1 细化 116 G--vwvL 6.7.2 合成 117 %rs2{Q2k 6.8 参考文献 117 >
U3>I^Y 7 导纳图及其他工具 118 JL_(%._J 7.1 简介 118 60~*$` 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 umPnw 7.2.1 四分之一波长规则 119 ^'Lp<YJs6 7.2.2 导纳图 120 CxaI@+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 7V=deYt_p 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Nkb%4ofKqu 7.5 斜入射导纳图 141 Pq~#SxA~ 7.6 对称周期 141 =4q 5KI 7.7 参考文献 142 o7we'1(O 8 典型的镀膜实例 143 1Mq"f7X8
8.1 单层抗反射薄膜 145 ;Uch 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 u^C\aujg 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 L~+aD2E { 8.4 W-膜层 148 r|Uz? 8.5 V-膜层 149 @ ~{TL 8.6 V-膜层高折射基底 150 7y& |