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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) e^~t52] g^)> -$= 内容简介 &\sg~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 l@1f L%f 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 avO+1<`4B 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 oZ6xHdPc4 pRc(>P3; 6z%3l7#7Yi
r_)-NOp 目录 mm#U a/~1u Preface 1 9][Mw[k> 内容简介 2 rA*,)I_v@ 目录 i l0D.7>aj 1 引言 1 F]yclXf(' 2 光学薄膜基础 2 Xki/5roCQ| 2.1 一般规则 2 eV9:AN }K= 2.2 正交入射规则 3 l$m^{6IYc 2.3 斜入射规则 6 w?M*n<)
O 2.4 精确计算 7 AaTtYd 2.5 相干性 8 oE)c8rE 2.6 参考文献 10 U\VwJ2
{i 3 Essential Macleod的快速预览 10 9U}EVpD 4 Essential Macleod的特点 32 D{BH~IM 4.1 容量和局限性 33 Qg6m 4.2 程序在哪里? 33 fil6w</L 4.3 数据文件 35 Arp4$h 4.4 设计规则 35 DA@
{ d-A 4.5 材料数据库和资料库 37 8QC:ro 4.5.1材料损失 38 W]Ph:O^5c 4.5.1材料数据库和导入材料 39 G#@<bg3 4.5.2 材料库 41 6w1:3~a 4.5.3导出材料数据 43 Tg:NeAN7( 4.6 常用单位 43 ?!~au0 4.7 插值和外推法 46 :+Dn]:\ 4.8 材料数据的平滑 50 GMNf#;x 4.9 更多光学常数模型 54 BM&'3K_y 4.10 文档的一般编辑规则 55 G$@X>)2N8 4.11 撤销和重做 56 T}!7LNE 4.12 设计文档 57 3J,/bgL5 4.10.1 公式 58 #UWQ (+F 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 |um)vlN;9 4.10.3 沉积密度 59 Ci*TX 4.10.4 平行和楔形介质 60 '.kbXw0} 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
%;W8; 4.10.4 性能 61 $^
>n@Q@&L 4.10.5 保存设计和性能 64 _R-#I 4.10.6 默认设计 64 0]HK(,/h 4.11 图表 64 T3?kabbF 4.11.1 合并曲线图 67 N@d4) 4.11.2 自适应绘制 68 i-ogeR? 4.11.3 动态绘图 68 uo%O\}#u9 4.11.4 3D绘图 69 (U.&[B 4.12 导入和导出 73 'M'LJ.,"/ 4.12.1 剪贴板 73 "t\9@nzdX 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 R,^FJ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 @K+u+}
R 4.13 背景 77 5cE[s<= 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 z.H`a+cl 4.15 生成Rugate 84 g)p[A 4 4.16 参考文献 91 u8,T>VNVw 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 9n%W-R. 5.1 Jobs 92 }oU&J81 5.2 创建一个新Job(工作) 93 n&V(c&C 5.3 输入材料 94 1Gqtd^*; 5.4 设计数据文件夹 95 QB@*/Le 5.5 默认设计 95 C3<3 6 细化和合成 97 !EW]:u 6.1 优化介绍 97 VI+Y 4T@ 6.2 细化 (Refinement) 98 q;AQ6k( 6.3 合成 (Synthesis) 100 m76]INq 6.4 目标和评价函数 101 'V>+G>U 6.4.1 目标输入 102 oDP|>yXC) 6.4.2 目标 103 bQeYFY#^ 6.4.3 特殊的评价函数 104 s3knh&'zb 6.5 层锁定和连接 104 .LS.Z
4@ 6.6 细化技术 104 T(}da**X 6.6.1 单纯形 105 Ud9\;Qse 6.6.1.1 单纯形参数 106 V\xQM; 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ~G$OY9UC 6.6.2.1 Optimac参数 108 \C6m.%%={R 6.6.3 模拟退火算法 109 #nxx\,i> 6.6.3.1 模拟退火参数 109 gI%n(eY 6.6.4 共轭梯度 111 D"WkD j"M 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Bl1I "B 6.6.5 拟牛顿法 112 %B?5l^W@ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 qqAsh]Z 6.6.6 针合成 113 J+4uUf/d! 6.6.6.1 针合成参数 114 lGz0K5P{ 6.6.7 差分进化 114 @Uu\x~3y 6.6.8非局部细化 115 E:tUbWVp 6.6.8.1非局部细化参数 115 N1$P6ZF 6.7 我应该使用哪种技术? 116 hPH7(f|c{g 6.7.1 细化 116 Eg:p_F*lr 6.7.2 合成 117 2#[Y/p 6.8 参考文献 117 Z`!pU"O9l 7 导纳图及其他工具 118 INT2i8oU 7.1 简介 118 u`~{:V 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 sg y 7.2.1 四分之一波长规则 119 ^
Q}1&w% 7.2.2 导纳图 120 oF^B J8%Lm 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $5o<Mj 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 s [!SG`& 7.5 斜入射导纳图 141 2n=;"33%a 7.6 对称周期 141 93dotuF 7.7 参考文献 142 |)_R
bqZ 8 典型的镀膜实例 143 gdT_kb5HL8 8.1 单层抗反射薄膜 145 %!S 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 SrtmpQ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 tvUvd(8w 8.4 W-膜层 148 {?iqO? 8.5 V-膜层 149 buFtLPe 8.6 V-膜层高折射基底 150 :6 fQE#(s& 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ,+RO 5n 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 r?TK@^z 8.9 四层抗反射薄膜 153 f#t^<`7 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 m0,9yY::wj 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 MD)"r>k 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 O+$70 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 LA+MX0* 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 1`t?5|s>
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Uu+C<j&- 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 7y\g~?5N 8.17 1/4波长堆栈 162 x(`$D 8.18 陷波滤波器 163 \2,18E 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 {Jc!T:vJ 8.20 褶皱 165 Uk9g^\H<D 8.21 消偏振分光器1 169 h"ylpv+ 8.22 消偏振分光器2 171 }}_uN-m 8.23 消偏振立体分光器 172 m+UdT854 8.24 消偏振截止滤光片 173 $%JyM 8.25 立体偏振分束器1 174 :c t+.# 8.26 立方偏振分束器2 177 (0Cszm. 8.27 相位延迟器 178 ,LZ:y1z'V- 8.28 红外截止器 179 L'Zud,JKg 8.29 21层长波带通滤波器 180 d@tr]v5 B 8.30 49层长波带通滤波器 181 N 3c*S"1 8.31 55层短波带通滤波器 182 E2IV R]C2^ 8.32 47 红外截止器 183 =@ZtUjcJx 8.33 宽带通滤波器 184 R!,)?j; 8.34 诱导透射滤波器 186 ];;w/$zke 8.35 诱导透射滤波器2 188 @45 H8|:k 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ea0tx3' 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 njMy&$6a## 8.35 增益平坦滤波器 193 cloI 6%5r 8.38 啁啾反射镜 1 196 CE,Om^ 8.39 啁啾反射镜2 198 sCQup^\ 8.40 啁啾反射镜3 199 ?<'W~Rm6n 8.41 带保护层的铝膜层 200 hH}/v0_ jb 8.42 增加铝反射率膜 201 S$52KOo 8.43 参考文献 202 b<AE}UK 9 多层膜 204 hhAC@EGG 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 U_'q- *W 9.2 内部透过率 204 =7fh1XnW 9.3 内部透射率数据 205 vs|6ww 9.4 实例 206 g{hA,-3 9.5 实例2 210 !^fR8Tp9 9.6 圆锥和带宽计算 212 ->I{
:# 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 D~Ohw sL4 10 光学薄膜的颜色 216 acY[?L_6J 10.1 导言 216 B5HdC%8/} 10.2 色彩 216 !h>$bm 10.3 主波长和纯度 220 "n }fEVJ, 10.4 色相和纯度 221 ~^~RltY 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 K=TW}ZO 10.6 色差 226 Ko)T>8: 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 (B,t
1+% 10.8 颜色渲染指数 234 T1HiHvJ 10.9 色差计算 235 o%PoSZZ 10.10 参考文献 236 }#*zjMOz 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 "!6~*!]c 11.1 短脉冲 238 NoZ4['NI\ 11.2 群速度 239 E)wT+\ 11.3 群速度色散 241 14 'x-w^~k 11.4 啁啾(chirped) 245 MZW
Y 11.5 光学薄膜—相变 245 8/?uU]#Q 11.6 群延迟和延迟色散 246 Q
EGanpz 11.7 色度色散 246 P8 ,jA<W 11.8 色散补偿 249 %GCd?cFF 11.9 空间光线偏移 256 >ha Ixs`9 11.10 参考文献 258 1vK(^u[ 12 公差与误差 260 ku9FN 12.1 蒙特卡罗模型 260 C%?D E@k 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 a~>0JmM+N 12.2.1 误差工具 267 #'Y6UGJ\n 12.2.2 灵敏度工具 271 Po!JgcJ#\ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 _AHB|P I 12.2.2.2 灵敏度分布 275 9Q7cUoxY 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 /\uH[[s 12.3 参考文献 276 40d9/$uzh 13 Runsheet 与Simulator 277 [-Tt11 13.1 原理介绍 277 QqK{~I|l 13.2 截止滤光片设计 277 :G=1$gb 14 光学常数提取 289 wQrPS 14.1 介绍 289 2]RH)W86; 14.2 电介质薄膜 289 lPQ
Ut!xI 14.3 n 和k 的提取工具 295 <T.#A8c 14.4 基底的参数提取 302 @1-GPmj- 14.5 金属的参数提取 306 d>b,aj( 14.6 不正确的模型 306 :mV7)oWH 14.7 参考文献 311 *o\Y~U-so 15 反演工程 313 B0XBI0w^Y 15.1 随机性和系统性 313 ]#-/i2-K 15.2 常见的系统性问题 314 [(P[qEY 15.3 单层膜 314 (9 z.IH7}k 15.4 多层膜 314 QRZTT qG 15.5 含义 319 u3i|}` 15.6 反演工程实例 319 ,-IF++q 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ><
_Z 15.6.2 反演工程提取折射率 327 I;.!
hV>E 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 @uM3iO7& 16.1 光学性质的热致偏移 329 7- 3N 16.2 应力工具 335 ny_ kr`$42 16.3 均匀性误差 339 OG?j6qhpl 16.3.1 圆锥工具 339 a2=uM}Hsp 16.3.2 波前问题 341 {L-aXe{ 16.4 参考文献 343 v6DxxE2n 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 pT;-1c%: 17.1 引言 345 o`T< |