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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) "H#2 T=%,^ 内容简介 5*C#~gd&F Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ve<D[jQsk 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 JZB7?@h% 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |<gYzbq qi!+Ceo} #L
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WTbq)D(&[_ 目录 'a[|' Preface 1 f<?v.5($ 内容简介 2 +K {J*
n 目录 i g\:(1oY 1 引言 1 &]tZ6 2 光学薄膜基础 2 ].w~FUa 2.1 一般规则 2 ~qT5F)$B- 2.2 正交入射规则 3 Jpm=V*P 2.3 斜入射规则 6 NSI$uS6 2.4 精确计算 7 _TEjB:9eY 2.5 相干性 8 dg-nv]7 2.6 参考文献 10 `)?N7g[\u 3 Essential Macleod的快速预览 10 it77x3Mm
F 4 Essential Macleod的特点 32 }hRw{#*8 4.1 容量和局限性 33 Y`3V&8X 4.2 程序在哪里? 33 /-s-W<S[ 4.3 数据文件 35 ZMEU4?F 4.4 设计规则 35 n<3qr}ZG^ 4.5 材料数据库和资料库 37 4MUN1/DId` 4.5.1材料损失 38 4j_\_:$w< 4.5.1材料数据库和导入材料 39 h9RL(Kq{ 4.5.2 材料库 41 VH M&Y-G 4.5.3导出材料数据 43 j]P'xrWl]8 4.6 常用单位 43 eCFMWFhC 4.7 插值和外推法 46 , Ox$W 4.8 材料数据的平滑 50 )xm[m vt 4.9 更多光学常数模型 54 JCFiKt9n 4.10 文档的一般编辑规则 55 %[B^b)2 4.11 撤销和重做 56 Gu@n1/m@o 4.12 设计文档 57 m55|&Ux| 4.10.1 公式 58 X)Zc*9XA 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 mUA!GzJ~u- 4.10.3 沉积密度 59 Y<qWG8X 4.10.4 平行和楔形介质 60 uHeKttR- 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 .7BJq?K. 4.10.4 性能 61 AdD,94/ 4.10.5 保存设计和性能 64 *\gYs{, 4.10.6 默认设计 64 x4bmV@b 4.11 图表 64 !{q_Q ! 4.11.1 合并曲线图 67 717S3knlv 4.11.2 自适应绘制 68 #fy3i+ 4.11.3 动态绘图 68 qBF6LhR 4.11.4 3D绘图 69 YC[cQX 4.12 导入和导出 73 T_)G 5a 4.12.1 剪贴板 73 {:]u 6l 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 }i$ER,hXh 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 _$+BYK@ 4.13 背景 77 k@Qd:I;; 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 L9{y1'') 4.15 生成Rugate 84 q?y-s 4.16 参考文献 91 ;"B@QPX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 jZr"d*Y 5.1 Jobs 92 L8,/ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 d0V*[{ 5.3 输入材料 94 +?)R}\\ 5.4 设计数据文件夹 95 .no<#l 5.5 默认设计 95 l#IN)">1 6 细化和合成 97 vN&(__3(( 6.1 优化介绍 97 O@HL%ha 6.2 细化 (Refinement) 98 r17"i.n 6.3 合成 (Synthesis) 100 uA4xxY 6.4 目标和评价函数 101 qr4.s$VGs* 6.4.1 目标输入 102 NK\0X5##. 6.4.2 目标 103 }2h! 6.4.3 特殊的评价函数 104 1z3>nou2{ 6.5 层锁定和连接 104 T*z*x=<5 6.6 细化技术 104 ZiW&*nN?M
6.6.1 单纯形 105 n|fKwWB\ 6.6.1.1 单纯形参数 106 `ztp u
~? 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 `{%ImXQF 6.6.2.1 Optimac参数 108 @4G{L8Q} 6.6.3 模拟退火算法 109 } `Cc-X7 6.6.3.1 模拟退火参数 109 5[LDG/{Tys 6.6.4 共轭梯度 111 '>cZ7: 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 MzMVs3w| 6.6.5 拟牛顿法 112 +,]_TxL|C 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 8.HJoos 6.6.6 针合成 113 k%R(Qga 6.6.6.1 针合成参数 114 kho$At)V 6.6.7 差分进化 114 VpX*l3 6.6.8非局部细化 115 )>tT""yEl 6.6.8.1非局部细化参数 115 Ax6zx 6.7 我应该使用哪种技术? 116 s14D(:t( 6.7.1 细化 116 |?v .5|1 6.7.2 合成 117 5(thDZ ! 6.8 参考文献 117 b#-=Dbe 7 导纳图及其他工具 118 r:M0#
2 7.1 简介 118 JFdMYb 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 .P#t"oW} 7.2.1 四分之一波长规则 119 i0u`J 7.2.2 导纳图 120 K5 EJ#1ov 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 5/R
~<z 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 yU>ucuF 7.5 斜入射导纳图 141 q'9; 7.6 对称周期 141 H#M;TjR 7.7 参考文献 142 [HhaBy9 8 典型的镀膜实例 143 WDI3* 8.1 单层抗反射薄膜 145 m2HO .ljc 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Y() ZM 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Ej $.x6: 8.4 W-膜层 148 @~&|BvK% \ 8.5 V-膜层 149 <qVOd.9c 8.6 V-膜层高折射基底 150 HQSFl=Q 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Wo Z@ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {113B) 8.9 四层抗反射薄膜 153 {]%7-4E 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 cqaq~ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 )X3
|[4R 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 cd`P'GDF 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 XP[~ :+ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 V/xjI< |