-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-07-11
- 在线时间1813小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) IR8&4qOs z=_{jjs 内容简介 %Nl(Y@dD* Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 JW[\"`x! 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 f4T0Y["QA 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 WGluY>C; 9prsL#Fn b[;3KmUB
X/Rx]}[ 目录 5yiiPK$qr Preface 1 32LB*zc 内容简介 2 cEjdImAzU 目录 i ydqmuZ%2h# 1 引言 1 y]_8.
0zM 2 光学薄膜基础 2 g
Pj0H&,. 2.1 一般规则 2 KBqaI(( 2.2 正交入射规则 3 dd7nO
:] 2.3 斜入射规则 6 {/xs9.8:JX 2.4 精确计算 7 DjzBG*f/ 2.5 相干性 8 EJ ~kZ3 2.6 参考文献 10 },aWCvJL 3 Essential Macleod的快速预览 10 {ah~q}(P 4 Essential Macleod的特点 32 G=5t5[KC 4.1 容量和局限性 33 nCMa$+ 4.2 程序在哪里? 33 :U. )YHY 4.3 数据文件 35 i!$^NIcJ 4.4 设计规则 35 >[fVl8G_0 4.5 材料数据库和资料库 37 |z]2KjF&w- 4.5.1材料损失 38 {Y:ZY+ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 G+X[R^RD 4.5.2 材料库 41 ?g;ZbD 4.5.3导出材料数据 43 _+04M)q0 4.6 常用单位 43 <uKm%~xi< 4.7 插值和外推法 46 */^2RZg|W 4.8 材料数据的平滑 50 -A%?T" 4.9 更多光学常数模型 54 5J+V:Xu{ 4.10 文档的一般编辑规则 55 <h_P+ nz 4.11 撤销和重做 56 %;\G@q_p{ 4.12 设计文档 57 k
gu[!hD1 4.10.1 公式 58 -?B9>6h" 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 >`<2}Me6 4.10.3 沉积密度 59 soq".+Q 4.10.4 平行和楔形介质 60 99Yo1Q0 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 %FyygT b;S 4.10.4 性能 61 G(0y|Eq 4.10.5 保存设计和性能 64 2vkB<[tSs 4.10.6 默认设计 64 IiK(^:~% 4.11 图表 64 Az< 9hk 4.11.1 合并曲线图 67 V9E6W*IE 4.11.2 自适应绘制 68 z34>,0 4.11.3 动态绘图 68 $'kn K< 4.11.4 3D绘图 69 #jLaIXms 4.12 导入和导出 73 M=AvD(+ha 4.12.1 剪贴板 73 ljJz#+H2_ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 q#(/*AoU 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 7ZL#f![{ 4.13 背景 77 mheU#&| 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 `N,Vs n" 4.15 生成Rugate 84 a}Fk x 4.16 参考文献 91 zd9]qo 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 wVp4c?s 5.1 Jobs 92 !rXcGj(k 5.2 创建一个新Job(工作) 93 *F
szGn< 5.3 输入材料 94 %[nR|a< 5.4 设计数据文件夹 95 ?cO8'4 bq 5.5 默认设计 95 pYfV~Q^3 6 细化和合成 97 H9~%#&fF 6.1 优化介绍 97 ``|gcG 6.2 细化 (Refinement) 98 MV<!<Qmj 6.3 合成 (Synthesis) 100 Cfr<D3&,] 6.4 目标和评价函数 101 %K^gUd>,R 6.4.1 目标输入 102 bR'mV-2' 6.4.2 目标 103 "X5_-l 6.4.3 特殊的评价函数 104 ;V~rWzKM( 6.5 层锁定和连接 104 CzSZ>E$%U 6.6 细化技术 104 %'"HGZn b 6.6.1 单纯形 105 B [+(r 6.6.1.1 单纯形参数 106 Eq=wdI 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 p?V?nCv1O 6.6.2.1 Optimac参数 108 3ximNQ}S 6.6.3 模拟退火算法 109 |"R_-U 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ?Q96,T-)
c 6.6.4 共轭梯度 111 (LRM~5KVg 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 pgLtD};S 6.6.5 拟牛顿法 112 4bi NGl~ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 h`5YA89 6.6.6 针合成 113 ?GO
SeV 6.6.6.1 针合成参数 114 c~^CKgr~R9 6.6.7 差分进化 114 ufw3H9F(O 6.6.8非局部细化 115 z.3<{-n}0i 6.6.8.1非局部细化参数 115 w;
4jx(
6.7 我应该使用哪种技术? 116 ~H^'al2PK 6.7.1 细化 116 ^kn^CI6 6.7.2 合成 117 BTTLy^ 6.8 参考文献 117 i<T P: 7 导纳图及其他工具 118 7v_i>_m] 7.1 简介 118 ~)q g 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 |5xYT 'V 7.2.1 四分之一波长规则 119 V@D]bV@4 7.2.2 导纳图 120 OM.k?1%+M 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 S]&8St 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 b!0DH[XKV 7.5 斜入射导纳图 141 /gz:zThf{ 7.6 对称周期 141 0#oBXu 7.7 参考文献 142 (j' {~FB 8 典型的镀膜实例 143 E6Q]A~ 8.1 单层抗反射薄膜 145 /!GKh5| 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 7]Al*) 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 l{Jt s I 8.4 W-膜层 148 ]~-*hOcQ4 8.5 V-膜层 149 nbI=r+ 8.6 V-膜层高折射基底 150 5@P%iBA4(3 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 kE/`n],1U 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 AF^T~?t 8.9 四层抗反射薄膜 153 0"EoC 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Jyj0Gco 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 mxQR4"]jY 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ep+ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Q%ruQ# 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Sd},_Kh 8.15十五层宽带抗反射膜 159 OJAx:& |