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\ LA 内容简介 trnjOm Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 zvYkWaa_Qz 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 xCFk1%qf 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 7)!(0.& y[Zl ,v7 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 m]}
E0 目录 vg"y$% Preface 1 7tMV*{+Z 内容简介 2 ``j..v, 目录 i <at/z9b 1 引言 1 v+f:VA 2 光学薄膜基础 2 :TJv<NZi' 2.1 一般规则 2 ,$EM3 2.2 正交入射规则 3 =Ig'Aw$ x 2.3 斜入射规则 6 Iq0_X7:{QI 2.4 精确计算 7 vBx*bZ 2.5 相干性 8 akHcN]sa2 2.6 参考文献 10 eU'DQp* 3 Essential Macleod的快速预览 10 8M*[RlUJB 4 Essential Macleod的特点 32 EQ'iyXhEe 4.1 容量和局限性 33 zJWBovT/ 4.2 程序在哪里? 33 :zdMV6s 4.3 数据文件 35 0{#,'sc; 4.4 设计规则 35 L&ySXc= 4.5 材料数据库和资料库 37 zOD5a=[1 4.5.1材料损失 38 A|1
TE$ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 S%<RV6{aiM 4.5.2 材料库 41 CwZ+Pn0 4.5.3导出材料数据 43 /KjRB_5~q} 4.6 常用单位 43 U1bhd}MoR 4.7 插值和外推法 46 azR<Y_tw 4.8 材料数据的平滑 50 P1)f-:; 4.9 更多光学常数模型 54 [~9rp]< 4.10 文档的一般编辑规则 55 ]C_g:|q 4.11 撤销和重做 56 Yh)yp? 4.12 设计文档 57 :L#t?~ 4.10.1 公式 58 ["|AD,$% 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 {I+ 4.10.3 沉积密度 59 n_\VG[f 4.10.4 平行和楔形介质 60 rq?:I:0 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 i <0H W 4.10.4 性能 61 J/S 47J~ 4.10.5 保存设计和性能 64 FVM:%S
JjT 4.10.6 默认设计 64 2-5AKm@K 4.11 图表 64 yPrp:%PS 4.11.1 合并曲线图 67 uH[d%y/ 4.11.2 自适应绘制 68 /3->TS 4.11.3 动态绘图 68 hNs970i 4.11.4 3D绘图 69 =xcA4"k 4.12 导入和导出 73 6}wXNTd 4.12.1 剪贴板 73 <6^MVaD 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 j_S/// 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 EM]~yn!+ 4.13 背景 77 ?#?[6t 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Fq/?0B8 4.15 生成Rugate 84 HPl!r0 h 4.16 参考文献 91 =S/$h}Vi 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 `l,=iy$ 5.1 Jobs 92 Z&FC:4!! 5.2 创建一个新Job(工作) 93 &EKP93
5.3 输入材料 94 |d^r"wbs3 5.4 设计数据文件夹 95 Gc2sY 0 5.5 默认设计 95 `3+yu'
Q' 6 细化和合成 97 ofbNg_K> 6.1 优化介绍 97 su6x
okt 6.2 细化 (Refinement) 98 U">J$M@ 6.3 合成 (Synthesis) 100 9z7^0Ruw 6.4 目标和评价函数 101 C{>@b:]p 6.4.1 目标输入 102 ModwJ
w 6.4.2 目标 103 N1$lG?
)+ 6.4.3 特殊的评价函数 104 jqxeON 6.5 层锁定和连接 104 WmU4~. 6.6 细化技术 104 dA>=#/" 6.6.1 单纯形 105 wuE] ju< 6.6.1.1 单纯形参数 106 (\m4o
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 [.4R ,[U 6.6.2.1 Optimac参数 108 l'=H,8LfA 6.6.3 模拟退火算法 109 eq.K77El{J 6.6.3.1 模拟退火参数 109 *Wk y# 6.6.4 共轭梯度 111 (7BG~T 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 S|!)_RL 6.6.5 拟牛顿法 112 f!hQ"1[ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 owL>w 6.6.6 针合成 113 WccTR
aq 6.6.6.1 针合成参数 114 {a`t1oX( 6.6.7 差分进化 114 v#*9rNEj0 6.6.8非局部细化 115 NIufL
}6\ 6.6.8.1非局部细化参数 115 &ywAzGV{s 6.7 我应该使用哪种技术? 116 P5s'cPX 6.7.1 细化 116 @
hH;d\W# 6.7.2 合成 117 ~_ss[\N 6.8 参考文献 117 ixF
'- 7 导纳图及其他工具 118 yO Ed8 7.1 简介 118 \Z9+U:n 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 JU+Uzp 7.2.1 四分之一波长规则 119 H.|v^e 7.2.2 导纳图 120 [1Pw2MC< 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
O\y#|=d 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 +U/+iI>0 7.5 斜入射导纳图 141 WLGk 7.6 对称周期 141 @wO"?w( 7.7 参考文献 142
'o=`1I 8 典型的镀膜实例 143 ]la8MaZ< |