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&y_? rH 内容简介 =LH}YUmd Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aSnp/g 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /-*hjX$n 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 )q?$p9 6!7Pm>ml 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 M StX*Zw 目录 ^o<[.
) Preface 1 qJs[i>P[W 内容简介 2 w^VSj%XH! 目录 i hFb
fNB3 1 引言 1 0-e 2 光学薄膜基础 2 m3
IP7h' 2.1 一般规则 2 (ppoW 2.2 正交入射规则 3 /#q")4Mf 2.3 斜入射规则 6 2*[Un( 2.4 精确计算 7 =Lw3
\5l 2.5 相干性 8 ,w\ wQn>]K 2.6 参考文献 10 ILG?r9x 3 Essential Macleod的快速预览 10 Kmry=`=A 4 Essential Macleod的特点 32 #vnT&FN0[ 4.1 容量和局限性 33 1$["79k 4.2 程序在哪里? 33 (wL3 + 4.3 数据文件 35 Ee?;i<u 4.4 设计规则 35 a&5g!;. 4.5 材料数据库和资料库 37 ^8742. 4.5.1材料损失 38 $pu3Ig$^ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ofwQ:0@ 4.5.2 材料库 41 STT2o= 4.5.3导出材料数据 43 kEAhTh&g* 4.6 常用单位 43 _g6wQdxT 4.7 插值和外推法 46 6F5,3& 4.8 材料数据的平滑 50 {!K;`I[]v 4.9 更多光学常数模型 54 zzf7S%1I 4.10 文档的一般编辑规则 55 -Cj_B\ 4.11 撤销和重做 56 UH40~LxIma 4.12 设计文档 57 *)%dXVf 4.10.1 公式 58 IA4+ad'\E 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 )fCMITq.| 4.10.3 沉积密度 59 9t}xXk 4.10.4 平行和楔形介质 60 T +\ B'" 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 nVTM3Cz 4.10.4 性能 61 ;eR{tH /4 4.10.5 保存设计和性能 64 N !IzB] 4.10.6 默认设计 64 A}4t9|/K6 4.11 图表 64 1~EO+ 4.11.1 合并曲线图 67 hO;9Y|y 4.11.2 自适应绘制 68 %c0z)R~ 4.11.3 动态绘图 68 4<yK7x 4.11.4 3D绘图 69 @W)/\AZ3 4.12 导入和导出 73 ^Jtl;Q 4.12.1 剪贴板 73 *R!]47Y d 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 9Z9l:}bO 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Ld~4nc$H8 4.13 背景 77 yM17H\ = 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Qdm(q:w 4.15 生成Rugate 84
S-P{/;c@ 4.16 参考文献 91 YAMfP8S 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 l'2H4W_+ 5.1 Jobs 92 &fHc"-U} 5.2 创建一个新Job(工作) 93 !&0a<~Wi 5.3 输入材料 94 ^6&_|f 5.4 设计数据文件夹 95 y {;u@o?T 5.5 默认设计 95 ~9i qD 6 细化和合成 97 G|V\^.f< 6.1 优化介绍 97 s<#N]mp' 6.2 细化 (Refinement) 98 ,Z4^'1{D 6.3 合成 (Synthesis) 100 O'Am
RJ 6.4 目标和评价函数 101 u7~mnl 6.4.1 目标输入 102 cl2ze 6.4.2 目标 103 QB9A-U<J 6.4.3 特殊的评价函数 104 .J:;_4x 6.5 层锁定和连接 104 |Ib.) 6.6 细化技术 104 ,N;v~D$Y 6.6.1 单纯形 105 2@5A&b 6.6.1.1 单纯形参数 106 -PXoMZx% 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 U[Nosh)hu\ 6.6.2.1 Optimac参数 108 My0!=4Any 6.6.3 模拟退火算法 109 mc~` 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Ir>2sTrm 6.6.4 共轭梯度 111 BWohMT 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ~RCg.&[ou 6.6.5 拟牛顿法 112 pNSst_!> 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 d{l{P]nr 6.6.6 针合成 113 A_]D~HH 6.6.6.1 针合成参数 114 T#Fn:6_= 6.6.7 差分进化 114 _4Ii5CNNU 6.6.8非局部细化 115 W`5a:"Vg 6.6.8.1非局部细化参数 115 <\Vi,, 6.7 我应该使用哪种技术? 116 :=Nb=&lst 6.7.1 细化 116 pbFYiu+ 6.7.2 合成 117 /xF 9:r 6.8 参考文献 117 7NeDs$ 7 导纳图及其他工具 118 xLZMpP5c 7.1 简介 118 {Bc#?n 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 O68b zi] 7.2.1 四分之一波长规则 119 WySNL#>a 7.2.2 导纳图 120 6g8M7<og9R 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +{'lZa 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 q1P :^<[ 7.5 斜入射导纳图 141 (A2U~j?Ry} 7.6 对称周期 141 6G$/NW=L 7.7 参考文献 142 vD_u[j] 8 典型的镀膜实例 143 M;V& |