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T;XEU%:LK 内容简介 qAUqlSP5 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 GNS5v-"H 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 M=HW2xn 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 BG_m}3j eS8tsI 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ;{
u{FL 目录 'g$~ij ;x Preface 1 D|/Azy.[ 内容简介 2 gQ3Co ./ 目录 i {";5n7<<) 1 引言 1 dE!{=u(!i 2 光学薄膜基础 2 W"? |O Q' 2.1 一般规则 2 A8&yB;T$y 2.2 正交入射规则 3 WCA`34( 2.3 斜入射规则 6 izsAn"v
2.4 精确计算 7 6e&Y%O'8 2.5 相干性 8 rVowHP 2.6 参考文献 10 EKZ40z` 3 Essential Macleod的快速预览 10 767xCP 4 Essential Macleod的特点 32 LbOjKM^- 4.1 容量和局限性 33 %Ez%pT0TQ# 4.2 程序在哪里? 33 {\[u2{ 4.3 数据文件 35 }WS%nQA 4.4 设计规则 35 #qWa[kB 4.5 材料数据库和资料库 37 &1YAPxX 4.5.1材料损失 38 ZfM(%rx 4.5.1材料数据库和导入材料 39 7].tt 4.5.2 材料库 41 }C!N$8d, 4.5.3导出材料数据 43 '<5Gf1 @| 4.6 常用单位 43 o7S,W?;=5
4.7 插值和外推法 46 = q9>~E{} 4.8 材料数据的平滑 50 +RQlMAB 4.9 更多光学常数模型 54 sCU<1=
4.10 文档的一般编辑规则 55 |K| c 4.11 撤销和重做 56 Bm2"} = 4.12 设计文档 57 (|L0s) 4.10.1 公式 58 Zc(uK{3W- 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 QyQ&xgS 4.10.3 沉积密度 59 YA9Xe+g 4.10.4 平行和楔形介质 60 ?RJ
)u 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 $50A!h 4.10.4 性能 61 wZ/Zc}
. 4.10.5 保存设计和性能 64 <x@brXA 4.10.6 默认设计 64 3<sYxA\?w 4.11 图表 64 Cfqgu;m 4.11.1 合并曲线图 67 %Ez= 4.11.2 自适应绘制 68 iV;X``S 4.11.3 动态绘图 68 @T[}]e 4.11.4 3D绘图 69 oV"#1lp* 4.12 导入和导出 73 SE/GT:} 4.12.1 剪贴板 73 Wm\HZ9PN 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 $}RBK'cr} 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 sc
dU 4.13 背景 77 ?
hU0S 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 _tDSG] 4.15 生成Rugate 84 N
GP}Z4 4.16 参考文献 91 AX3iB1):K 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 uz-O%R- 5.1 Jobs 92 +Qy0K5Ee 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ZdG?fWWA 5.3 输入材料 94 +|(-7" 5.4 设计数据文件夹 95 [yj-4v%u` 5.5 默认设计 95 ~5LlIpf36| 6 细化和合成 97 1KwUp0%& 6.1 优化介绍 97 w5zrEk# 6.2 细化 (Refinement) 98 !9w3/Gthj 6.3 合成 (Synthesis) 100 S9BwCKH 6.4 目标和评价函数 101 A/ppr. 6.4.1 目标输入 102 >
Q[L,I 6.4.2 目标 103 anLSD/'4W 6.4.3 特殊的评价函数 104 x?T.ItW:K 6.5 层锁定和连接 104 ;Z:zL^rvn 6.6 细化技术 104
%T9'dcM 6.6.1 单纯形 105 'Pk14`/ 6.6.1.1 单纯形参数 106 i$`OOV=/e 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 AcC'hr.N+ 6.6.2.1 Optimac参数 108 ^|Bpo( 6.6.3 模拟退火算法 109 PEA<H0 6.6.3.1 模拟退火参数 109 |S0]qt? 6.6.4 共轭梯度 111 $'m&RzZ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 79}voDFd 6.6.5 拟牛顿法 112 k)l*L1Y4: 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 VI:EjZ/|a 6.6.6 针合成 113 O [Q;[@ 6.6.6.1 针合成参数 114 ^uZ!e+ 6.6.7 差分进化 114 [+7 Nu 6.6.8非局部细化 115 eAkC-Fm
6.6.8.1非局部细化参数 115 #s"|8# 6.7 我应该使用哪种技术? 116 sT&O %( 6.7.1 细化 116 .Y@)3 6.7.2 合成 117 X MkyX&y 6.8 参考文献 117 _4!SO5T 7 导纳图及其他工具 118 %~z/, [wk 7.1 简介 118 ^5BLuN6 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 8|9JJ<G7 7.2.1 四分之一波长规则 119 ZH
o#2{F 7.2.2 导纳图 120 s>d /9 b 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 -wA^ao 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 f[S$Gu4- 7.5 斜入射导纳图 141 c5KJ_Nfi 7.6 对称周期 141 ZW+[f$X 7.7 参考文献 142 ZH@BHg|}H 8 典型的镀膜实例 143 g 0=Q>TzY 8.1 单层抗反射薄膜 145 ^;KL` 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ?/EyfTex 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 BK+(Uf;g 8.4 W-膜层 148 Kz v*` 8.5 V-膜层 149 \I3={ii0 8.6 V-膜层高折射基底 150 ZD)pdNX 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 9!aQ@ J^ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Stq
[[S5P 8.9 四层抗反射薄膜 153 QH?}uX'x)G 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 K5oVB,z) 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 mAI< |