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l&l&eOE 内容简介 FJo?~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5v6 x 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 (os}s8cIh 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 {`,dWjy{% ~t7?5b?*\ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Zp@j*P 目录 vYQ0e:P Preface 1 Qgx9JJ> 内容简介 2 .vsrZ_y? 目录 i h>\T1PM 1 引言 1 6'CZfs\ 2 光学薄膜基础 2
h[~JCYA 2.1 一般规则 2 ?'ID7mL 2.2 正交入射规则 3 *R1m= 2.3 斜入射规则 6 SQ%B"1&$D 2.4 精确计算 7 |Iei!jm 2.5 相干性 8 ~I[Z2&I 2.6 参考文献 10 q6DuLFatc* 3 Essential Macleod的快速预览 10 d-/{@
4 Essential Macleod的特点 32 6;s.%W 4.1 容量和局限性 33 50r3Kl0 4.2 程序在哪里? 33 Xc"l')1H 4.3 数据文件 35 k4:$LFw@ 4.4 设计规则 35 jb;!"HC 4.5 材料数据库和资料库 37 -]yM<dP 4.5.1材料损失 38 IoO t n 4.5.1材料数据库和导入材料 39 n
N.6?a 4.5.2 材料库 41 >np!f8+d"q 4.5.3导出材料数据 43 }j<:hDQP 4.6 常用单位 43 SFhi]48&V 4.7 插值和外推法 46 cV]c/*zA 4.8 材料数据的平滑 50 1;_tu 4.9 更多光学常数模型 54 SSG57N-T 4.10 文档的一般编辑规则 55 B(tLV9B3Q 4.11 撤销和重做 56 o/0cd 4.12 设计文档 57 r7B.@+QK 4.10.1 公式 58 wEd+Ds]$ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %siBCjvo= 4.10.3 沉积密度 59 ay~c@RXW 4.10.4 平行和楔形介质 60 wW2b?b{*Z 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 XC44]o4jx 4.10.4 性能 61 |2RoDW 4.10.5 保存设计和性能 64 \j
C[|LM& 4.10.6 默认设计 64 2J?ON|2M 4.11 图表 64 dCq-&3?t 4.11.1 合并曲线图 67 {jz?LM 4.11.2 自适应绘制 68 FuqMT` 4.11.3 动态绘图 68 z[Sq7bbYO 4.11.4 3D绘图 69 iCd$gwA>F 4.12 导入和导出 73 &CP0T:h 4.12.1 剪贴板 73 o[=h=&@5p 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 K4w %XVaH 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 FPAy.cljJ 4.13 背景 77 rl:6N*kK 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 e!V3 /*F 4.15 生成Rugate 84 vNdMPulr{ 4.16 参考文献 91 2rxZN\gyL 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 nsf.wHGZ"J 5.1 Jobs 92 GSlvT:k 5.2 创建一个新Job(工作) 93 dKk\"6 o
5.3 输入材料 94 ~|y$^qy?U 5.4 设计数据文件夹 95 ,_SE!iL 5.5 默认设计 95 GFA D 6 细化和合成 97 +
t%[$"$ 6.1 优化介绍 97 ".0~@W0 6.2 细化 (Refinement) 98
LYTx8 6.3 合成 (Synthesis) 100 H]]UsY` 6.4 目标和评价函数 101 6?B'3~r 6.4.1 目标输入 102 R1,.H92 6.4.2 目标 103 ,[gu7z^| 6.4.3 特殊的评价函数 104 }uZtAH| 6.5 层锁定和连接 104 ;Gf,I1d}{ 6.6 细化技术 104 o<1a]M| 6.6.1 单纯形 105 +V2\hq[{ 6.6.1.1 单纯形参数 106 BH`%3Mw 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 K;ncviGu 6.6.2.1 Optimac参数 108 a"ct"g= 6.6.3 模拟退火算法 109 b\{34z, 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ,=Q;@Z4 vJ 6.6.4 共轭梯度 111 .(
)rby 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 mZ%"""X\Ei 6.6.5 拟牛顿法 112 %R?B=W7;Q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 x6n( BMr 6.6.6 针合成 113 !UzMuGj 6.6.6.1 针合成参数 114 XIep3l* 6.6.7 差分进化 114 kdq<)>" 6.6.8非局部细化 115 v d{`*|x 6.6.8.1非局部细化参数 115
AqqD! 6.7 我应该使用哪种技术? 116 <^+x}KV I 6.7.1 细化 116 w(,K 6.7.2 合成 117 {pWb*~!k 6.8 参考文献 117 0\B31=N( 7 导纳图及其他工具 118 iY~.U`b` 7.1 简介 118 |qOoL*z 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 s%cfJe_k 7.2.1 四分之一波长规则 119 4J~ZZ 7.2.2 导纳图 120 HpXQD; 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "Y1]6
Zu 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 k vuSE 7.5 斜入射导纳图 141 ^i"~6QYE 7.6 对称周期 141 bmid;X| 7.7 参考文献 142 !^Ly#$-X 8 典型的镀膜实例 143 <2.87: 8.1 单层抗反射薄膜 145 ~10 >mg 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 `] fud{ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 >b1#dEY 8.4 W-膜层 148 c4Leh"ry 8.5 V-膜层 149 /W|=Or2oR 8.6 V-膜层高折射基底 150 n%R l$ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 8h?):e 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 qOqU
CRUe: 8.9 四层抗反射薄膜 153 n)<S5P? 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 $n><p>` 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ?'8(']/ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 bb4 `s0 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 n5NwiSE 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 #/,Wgs AC 8.15十五层宽带抗反射膜 159 Lu][0+- 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 w7d<Ky_C 8.17 1/4波长堆栈 162 Y[R;UJE`5 8.18 陷波滤波器 163 _\ & |