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m0: IFE($ 内容简介 w:|BQ, Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 X^?M4 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Rl. YF+YH 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @w8MOT$ tAI<[M@
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ^
#6Ei9di 目录 2|LgUA?< Preface 1 7K 8tz} 内容简介 2 tX<.
Ud 目录 i C
EzTErn 1 引言 1 ?)8OC(B8q 2 光学薄膜基础 2 sPu@t&$
2.1 一般规则 2 Wfw6(L 2.2 正交入射规则 3 gc
ce]QS 2.3 斜入射规则 6 !|G 8b' 2.4 精确计算 7 TJ&Z/k3- 2.5 相干性 8 5IwQ<V 2.6 参考文献 10 (M>[D!Yt 3 Essential Macleod的快速预览 10 aSN"MTw. 4 Essential Macleod的特点 32 C78V/{ 4.1 容量和局限性 33 I;Sg9`k= 4.2 程序在哪里? 33 1<Z~Gw4 4.3 数据文件 35 TQor-Cymz 4.4 设计规则 35 g RX`61 4.5 材料数据库和资料库 37 L.cGt"{ 4.5.1材料损失 38 >ZE8EL 4.5.1材料数据库和导入材料 39 "@!B"'xg 4.5.2 材料库 41 9d\B*OU 4.5.3导出材料数据 43 P5qY|_ 4.6 常用单位 43 {JJq/[j 4.7 插值和外推法 46 1ymq7F(2 4.8 材料数据的平滑 50 &
V*_\ 4.9 更多光学常数模型 54 8hKyp5(%l 4.10 文档的一般编辑规则 55 -0 e&>H% 4.11 撤销和重做 56 yV'<l
.N 4.12 设计文档 57 i*T>,z 4.10.1 公式 58 xu]>TC1 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 B%.XWW$ 4.10.3 沉积密度 59 O%>FKU>(? 4.10.4 平行和楔形介质 60 nVO|*Bnf) 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ~> xVhd 4.10.4 性能 61 }'"4q 4.10.5 保存设计和性能 64 "K!9^!4& 4.10.6 默认设计 64 /+11`B09 4.11 图表 64 %
T2C0P 4.11.1 合并曲线图 67 }Q=@$YIesD 4.11.2 自适应绘制 68 !9n!:"(r 4.11.3 动态绘图 68 5ree3 quh 4.11.4 3D绘图 69 3BTXX0yx 4.12 导入和导出 73 NV[_XXTv7 4.12.1 剪贴板 73 IK
/@j 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 TB8a#bK4 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 k~YZT 8 4.13 背景 77 jn+M L& 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 3
zF"GT 4.15 生成Rugate 84 kOQq+_Y
4.16 参考文献 91 7[b]%i 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 b{Qg$ZJeR 5.1 Jobs 92 B?-~f^*,jG 5.2 创建一个新Job(工作) 93 T##_?=22I 5.3 输入材料 94 _(TYR* 5.4 设计数据文件夹 95 t$*V*gK{ 5.5 默认设计 95 ^T{ww=/v 6 细化和合成 97 1z#0CX}Y/H 6.1 优化介绍 97 TqZ&X|G 6.2 细化 (Refinement) 98 M.[A%_|P 6.3 合成 (Synthesis) 100 %. zcE@7* 6.4 目标和评价函数 101 ]Zj6W9]m 6.4.1 目标输入 102 nVK`H@5fw 6.4.2 目标 103 z .xOT;t 6.4.3 特殊的评价函数 104 =VctG>ct| 6.5 层锁定和连接 104 '(qVA>S 6.6 细化技术 104 q3~RK[OCq 6.6.1 单纯形 105 knPo"GQW 6.6.1.1 单纯形参数 106 4;_<CB 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 2".^Ma^D! 6.6.2.1 Optimac参数 108 6pKb!JJ 6.6.3 模拟退火算法 109 PN +<C7/ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 QIcg4\d%s 6.6.4 共轭梯度 111 _kJ?mTk 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 C Q(;L{} 6.6.5 拟牛顿法 112 )]^xy&:| 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 (Vvs:h%H 6.6.6 针合成 113 us:V\V 6.6.6.1 针合成参数 114 dp&bcR) 6.6.7 差分进化 114 itp$c|{ 6.6.8非局部细化 115 EZz`pE 6.6.8.1非局部细化参数 115 R>3a?.X 6.7 我应该使用哪种技术? 116 5 GwXZ;(G 6.7.1 细化 116 <gdKuoY 6.7.2 合成 117 Gz>M`M`[4 6.8 参考文献 117 }`SXUM_sD` 7 导纳图及其他工具 118 @ZD/y%e 7.1 简介 118 nCj_4,O 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 v+3-o/G7 7.2.1 四分之一波长规则 119 L&i _ 7.2.2 导纳图 120 bay7%[BLB 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 P/'9k0zs) 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 =36e&z-# 7.5 斜入射导纳图 141 EK-Qa<[| 7.6 对称周期 141 mJ>@Dh3>G 7.7 参考文献 142 K)h\X~s 8 典型的镀膜实例 143 K~?M?sa 8.1 单层抗反射薄膜 145 o*L#S1yL 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 D>YbL0K>X~ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 p
PF]&:&-b 8.4 W-膜层 148 0>E0}AvkT 8.5 V-膜层 149 Ww
}qK|D 8.6 V-膜层高折射基底 150 h,D6MP 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 s`bC?wr5h 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 xyoh
B#'W 8.9 四层抗反射薄膜 153 [~
Wiy3n 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Fe4QWB6\U 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 T}?vp~./ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 mNvK|bTUT 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 4sVr]p` 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Cw=wU/) 8.15十五层宽带抗反射膜 159 PR&D67:Jy 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Ul<'@A8 8.17 1/4波长堆栈 162 BBub' 8.18 陷波滤波器 163 ATeXOe 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 }x[d]fcC 8.20 褶皱 165 s1[_Pk;! 8.21 消偏振分光器1 169 +18)e;
8.22 消偏振分光器2 171 QSn%~o05 8.23 消偏振立体分光器 172 9}4EW4
8.24 消偏振截止滤光片 173 xELnik_L2 8.25 立体偏振分束器1 174
`q ;79t 8.26 立方偏振分束器2 177 ~/@5& |