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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 }I9\=jT
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 7P.C~,+D%P t/#[At5p= 任务描述 C$b$)uI;
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 K.dgQ-v n OtrO"K 镀膜样品 v](7c2; 关于配置堆栈的更多信息。 Ck/4 h Z 利用界面配置光栅结构 $
GL$
iA 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 "fL:scq@0 - 涂层厚度：10纳米 m("!
M~1 - 涂层材料。二氧化硅 w`UB_h#Bl - 折射率：扩展的Cauchy模型。 qR- -lvO  qWfG@hn 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 `/Zi=.rr - 基板材料：晶体硅 A|O7W|"W - 入射角度。75° #y~ ^!fdp9 ry/AF  +q|2j>k@
/q ;MihK 椭圆偏振分析仪 . u>IjK^
+>@<'YI<
 YrS%Yvhj0 =P<gZ-Cm 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 H $ 9--p 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 ik=~`3Zp0 +FP*RNM
椭圆偏振分析仪 1NtN-o)N? `i< ;5s!rX
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P%]li`56-c 总结 - 组件... HW;,Xz P=
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Bv}Jo Eb7qM.Q] &  #joGIw G9TK)Nz 椭圆偏振系数测量 Y 4sf 2w
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c k 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 }xJ9EE*G/
GU8b_~Gk?
 Xm8
1axyf UN>!#Ji:$ 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 0zCe|s.S&
{'4h.PB+r
 *Em 9R RY2`v
pv 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 g4cmYg3
'j6PL; ~c 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 ~@S5*(&8 f^@`[MJj1C
 O,>1GKw"\ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) I2hX; pk, (Hb
i+IHV 仿真结果与参考文献的比较 W' hE,
/-TJtR4> 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 br*L|s\P\9
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#"&h'V VirtualLab Fusion技术 D *R F._
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