-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-01-28
- 在线时间1922小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 E.x<J.[Y
b^P \Kky
 Djp;\.$( >(W t 任务描述 b|.<rV'BTt
Z+Fh I^
 \ tU[,3
" @xL9[d 镀膜样品 2.a{,d 关于配置堆栈的更多信息。 r,G gMk 利用界面配置光栅结构 Qz<i{ r-z 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 ]6WP;.[ - 涂层厚度：10纳米 |A)a
='Ap - 涂层材料。二氧化硅 #\LYo{op/. - 折射率：扩展的Cauchy模型。 4"+v:t)z6{  Sjmq\A88dc 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 xUB{{ 8B:L - 基板材料：晶体硅 k,/2]{#53d - 入射角度。75° G|UeR=/ !@)tkhP  xwijCFI*
)},/=#C0 椭圆偏振分析仪 cMAY8$
*.-qbwOg
 V:8{MO(C\ }~ga86:n0 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 %cq8% RT 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 R+=Xr<`%U| `S]DHxS
椭圆偏振分析仪 S^SF!k= E c!R 3+
 )5s-"o<
s#(<zBZ9p# 总结 - 组件... ~H626vT37
Qy'-3GB
 DV~g 8-Z|$F"  +tv"j;z \r \wqz7 椭圆偏振系数测量 =#?=Lh
IOH6h= 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 JjBl j e
'&iAPc4=
 F#l!LER^1g SrvC34<7 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 f_r4*#&v
X}]g;|~SN
 .$r7q [ &jF[f4:7 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 ~qb-uT\(99
@?[}\9dW 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。
P{>-MT2E x1 1ug
 M_#^zo
"x * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) 4]E TF+ zWq&HBs 仿真结果与参考文献的比较 )9V8&,
RjG=RfB'V 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 M{`uI8vD
'<hg c
 ]iH~ 1 [ jsIT{a*] VirtualLab Fusion技术 W0 N*c*k
-F';1D!l%
 %`^{Hh`
w O *x0$
 |6zx
YuX
|
