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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 u :H: N]
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 qB3E EI496bsRHm 任务描述 WEtPIHruyt
R?M>uaxn
 C7K]c4T [S9"' ^H 镀膜样品 TX;)}\ 关于配置堆栈的更多信息。 ^0- e.@ 利用界面配置光栅结构 )iFXa<5h 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 $W%-Mm - 涂层厚度：10纳米 6 [?5hmc"w - 涂层材料。二氧化硅 z bg GK7 - 折射率：扩展的Cauchy模型。 KDb`g}1Q  ~K"nm {. 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 wNU; gz - 基板材料：晶体硅 Ss_}@p ^ - 入射角度。75° .A0fI";Q eD7qc1*G 
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T FAR>8Nm 椭圆偏振分析仪 [LO=k|&R
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 wB&5 q!{! _!_1=|[ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 }F"98s W 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 SM8_C!h: 9E NI %Jz
椭圆偏振分析仪 6b9J3~d\E x2'pl
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Ubgn^ +AI 总结 - 组件... z:Z-2W V2o
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 9Q!Z9n"8~) \BN$WV  dMCoN8W jw`05rw: 椭圆偏振系数测量 a=`]
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w )B ?j 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 sN2m?`?"G
BC\W`K
 WIuYSt)h r-yUWIr
S 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 *,IK4F6>:
>239SyC-,
 -*i_8` A=IpP}7 J 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 x/ wgD'?
V )1.)XC 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 vB}c6A4'U LrT EF
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 3 W]gn8 * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) 5[4nFa}R:5 6 q>}M 仿真结果与参考文献的比较 j>B* 8*Ss
1U/RMN3` 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 j/fniyJ)
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 zBu@a:E%H p$qk\efv*4 VirtualLab Fusion技术 i q oXku
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