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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 @ aN=U=
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 qZ_fQ@ 8!Mz r1: 任务描述 {&u7 kWD|
=k<4mlok^
 '#
IuY AnE_<sPA 镀膜样品 [piF MxZP 关于配置堆栈的更多信息。 ~K$"PK s3 利用界面配置光栅结构 vp75u93 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 CSqb)\8Oi* - 涂层厚度：10纳米 ],}afa!A - 涂层材料。二氧化硅 ;E? hz - 折射率：扩展的Cauchy模型。 +' Y( V&  #JR ,C
-w 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 MD
?F1l"}% - 基板材料：晶体硅 !0csNg ! - 入射角度。75° dIfs 8%kl dMs39j  :n>ccZeMv
+=*m! 7Mr 椭圆偏振分析仪 B XK::M+
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 ogc('HqF^' @+\S!o3m 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 bu"68A;> 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 Xlqz8cI \abAPo
椭圆偏振分析仪 OBw`!G*w ,7fc41O3V
kF+ }.x%
aa0`y 总结 - 组件... qzH q j;
6mF{ImbRbS
 }@:QYTBi } aO^:dl5  x'@32gv jqX@&}3@ 椭圆偏振系数测量 Rgfc29(8
N,/BudF o 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 b,rH&+ 2H
,h@R' f !
 KCJN< U7]<U-.& 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 %CxEZPe$
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 %l8*t$8 )H ;pGM: 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 {HIR>])o
y Nri nYw 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 $*AC>i\ e' U"`)S
 lJ:M^.Em0 * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) n%0]V Xx# e~+(7_2 仿真结果与参考文献的比较 e}'#Xv
]DC;+;8Jc 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 gf68iR.Gs
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 o~v_PD[S {J,6iP{>ZN VirtualLab Fusion技术 %s$rP
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