-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-01-12
- 在线时间1913小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 P{StF`>Y
)?6% d
 \uJ+~db= gp'k(rGH 任务描述 Np$ue
}yr
Y'+K U/H
 ` /B+ J 5x ZL v 镀膜样品 >8$Lqj^i 关于配置堆栈的更多信息。 ~K(mt0T ) 利用界面配置光栅结构 2gEF$?+q? 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 Tv~Ho&LS - 涂层厚度：10纳米 <l eE.hhf. - 涂层材料。二氧化硅 KYz@H#M - 折射率：扩展的Cauchy模型。 G %K&f1q%  g\iSc~%? 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 k_gl$`A - 基板材料：晶体硅 <B @z>V - 入射角度。75° M<Dvh y[ M.EL^;r  HLc3KYIk
Ev3,p`zS._ 椭圆偏振分析仪 ]A1'+!1$
i4M%{]G3Y
 -uhVw_qq # sJ5#T iX 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 "QBl
"<<s 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 jI<_(T W o,93]
椭圆偏振分析仪 4Bt)t#0 -e0?1.A$
 l70 1$>>
]c6h'} 总结 - 组件... 2 ~V"[26t
`-?`H>+OG
 z2#k /3%o= :0bjP Qj  8~|v:qk ]x%sX|Rj 椭圆偏振系数测量 Id8e%)
cu)B!#<!& 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 C@pn4[jTl
pkTVQdtRG
 E[BM0.#bZ lB!M;2^)X 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 W[>qiYf^b
)lJi7 ^,
 d\8j!F^= %CU wD 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 _!w69>Nj
V`1x 7Rc>LI*
' * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) b+L !p.:
u_FN'p =. 仿真结果与参考文献的比较 r >sXvzv
JEP9!y9y 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 [lu+"V,<LJ
w?Cho</Xu
 *Y!RU{w+Z '+c@U~d*7 VirtualLab Fusion技术 vZ^U]h V
%:sP #BQM
 gtqtFrleG
}?HWUAL\
 KUU ZN
|
