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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 q$|0)}
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 )FV6, B3eNFS 任务描述 +R9%~Z.=
K,G,di
 U-1VnX9m a" ^#!G<+ 镀膜样品 QYH."7X
> 关于配置堆栈的更多信息。 u*U_7Uw$ 利用界面配置光栅结构 K_Z+]]$# 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 '1Y<RD>x - 涂层厚度：10纳米 k+f1sV[4} - 涂层材料。二氧化硅 R
!Fx)xj - 折射率：扩展的Cauchy模型。 ZRX^^y N  $v W^n4! 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 j6RJC - 基板材料：晶体硅 \ hrBq^I - 入射角度。75° n}VbdxlN $1b]xQ  FoQ?U=er
)CFk `57U 椭圆偏振分析仪 3Hy%SN(
u"* J[M~
 3,%nkW =!(S<]; 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 !~ ?W \b\: 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 -e &$,R>; U.Pa7tn
椭圆偏振分析仪 /4(Z`e;0 D7EXqo
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YomwjKyu P 总结 - 组件... P_kaIPP
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 %uh R'8" _RN/7\  gkSGRshf #8S [z5 ` 椭圆偏振系数测量 XCW+ pUX
an-\k*w 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 0@o;|N"i
UEN YJ*tnP
 Lr K9F^c yBr$ 0$ 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 T_3V/)%@
czXI?]gg,
 zNNzsT8na *U( 1iv0 n 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 2qt=jz\s
( K^YD K 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 m]bL)]Z z~GVvgd
 OJnP P> * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) 2 q2p=H>& \/?
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6~ 仿真结果与参考文献的比较 $ijx#a&O
tpN]evp| 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 ~+sne7
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 Q3 K;kS Rh wt < VirtualLab Fusion技术 `=_7I?
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