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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 se=^K#o
v* <rNZI
 |R!ozlL{} KHJ wC v 任务描述 [cl+AV "
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 K~S*<? Sl<1Rme=w 镀膜样品 ib!TXWq 关于配置堆栈的更多信息。 _p'@.P 利用界面配置光栅结构 +o" CMI 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 {Ja (+NQ - 涂层厚度：10纳米 EIyFGCw|U - 涂层材料。二氧化硅 imAOYEH7} - 折射率：扩展的Cauchy模型。 Ck" db30.  C+5X8 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 WXDo`_{R - 基板材料：晶体硅 suGd &eP| - 入射角度。75° <8Nr;96IA k%kEW%I yG  ]+B.=mO_
2efdJ&eIV 椭圆偏振分析仪 yx:+Xy*N
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 U[8F{LX U|\ .)h= 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 YG8)`X qC 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 niW"o -} <hTHY E=
椭圆偏振分析仪 %.l={B,i Fa v++ z
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Q09 }5 总结 - 组件... EN":}!E:
2 >j0,2
 a l6y=;\jZ l"DHG`kb  <m V FC _2{_W9k 椭圆偏振系数测量 5 ;XYF0
u U> L ( 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 -"i $^Q`
DG0I- "s
 :l1 -s] b0 9xf"D 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 lz36;Fp
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 g7*U uh# @o^$/AE? 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 H) "]I3
SE6 ( 3f$ 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 !J X7y%J Ak kF6d+
 ABk DOG2br * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) WWZ<[[ > F'|e :h 仿真结果与参考文献的比较 -1v9
~9yK MUf 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 5y\35kT'
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 5$HG#2"Kb# q 9j~|GE| VirtualLab Fusion技术 I }0 ? d
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