-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-02-25
- 在线时间1739小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 -pqShDar|
vj{h*~
 C=PBF\RkKu D eXnE$XH 任务描述 mGL%<4R,
PjsQ+5[>
 deeOtco$LT ( ''`Ce 镀膜样品 f0 wQn09 关于配置堆栈的更多信息。 Hk6Dwe[y 利用界面配置光栅结构 ;Rwr5 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 gvy%`SSW - 涂层厚度：10纳米 [xI@)5Xk - 涂层材料。二氧化硅 (#Y2H - 折射率：扩展的Cauchy模型。 ZB ~D_S  $fn Fi|- 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 e j!C^ - 基板材料：晶体硅 2^qY, d L - 入射角度。75° y'4= aNXu"US+Sp  =gfLl1wY[
/3+7a\|mKr 椭圆偏振分析仪 w
#1l)+
lZ_i~;u4@v
 ?"sk" { 2!" N9Adt 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 \W1?Qc1] 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 u.!Pda 3s>& h-E
椭圆偏振分析仪 umls =i z bR ;H@Fdg?
 26\1tOj Np
B~~rLo: a 总结 - 组件... Ko -<4wu
C= hE@
 vQIoj31 Z,u:g c+*  -4hX - {kZhje^$vi 椭圆偏振系数测量 >_&+g n${
im1]:kr7 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 pV>/ "K
}A2@1TTPX
 O[`n{Vl/ Iqo4ING Ii 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 t3 bDi/m
^(&:=r.PC
 S)Ld^0w # <&=ZL N 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 M }@^8
tnKzg21% 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 UGR5ILf Txw,B2e)>
 +o_`k! * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) nTYqZ lI, ,L_p"A 仿真结果与参考文献的比较 =ohd L_6
Vr5a :u ' 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 m0\(a_0V
5(U.<
 !})+WSs'"s ]HC t%5 VirtualLab Fusion技术 x28B z*O
x{ZcF=4
NU_VUd2
)EcF[aO
 |/r@z[t
|
