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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 -yKx"Q9F
LRNgpjE}
 (6##\}L& 9 YCJc Dab 任务描述 x;d*?69f]
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p4 镀膜样品 uLok0"} 关于配置堆栈的更多信息。 a "*DJ& 利用界面配置光栅结构 1u 4) 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 bvVEV - 涂层厚度：10纳米 #
`}(x;ge
- 涂层材料。二氧化硅 Z)=S. ) - 折射率：扩展的Cauchy模型。 JBY`Y ]V3  3q +C8_: 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 pO^goo V\ - 基板材料：晶体硅 XN+~ g.0 - 入射角度。75° FdrH, L< 3U)Gp  ""LCyKu
/]pBcb|< 椭圆偏振分析仪 <HReh>)[
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 WO=X*O ne ~M@'=Q*~ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 $F>
#1:=v< 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 <A% } ldEZ _g^
椭圆偏振分析仪 :)/%*<vq, | g o jb
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>GR L5Iow 总结 - 组件... ( ?luV#{5
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 G-5wv *Ru@F:  2?=R_&0 Q ]
T `6Hz! 椭圆偏振系数测量 Iud]*5W
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椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 M6$9-
R~9\mi5^UH
 v4X\LsOP l # -4}95 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 )HLe8:PG~
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 oH;0_! +f#o ij 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 EN
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5f.G^A: _X 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 o;.6Y `-fJ >G4EiJS
 'g3!SdaLF * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) [A@K)A$f hXxgKi% 仿真结果与参考文献的比较 NF/@'QRT
f>g< :.k* 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 MjGeH>c
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 >.P/fnvJ iw`,\ V& VirtualLab Fusion技术 -}2'P)Xp
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