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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 BtZm_SeA
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 vUA`V\ N`fY%"5U> 任务描述 :g_ +{4
-7Wmq[L /
 cH ?]uu( <{j9|mt 镀膜样品 f}3 bYF 关于配置堆栈的更多信息。 Yb*}2 利用界面配置光栅结构 U {v_0\ES 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 vS< e/e+ - 涂层厚度：10纳米 9 rz "@LM - 涂层材料。二氧化硅 w"J(sVy4 - 折射率：扩展的Cauchy模型。 \ 02e
zG  h~t]WN 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 Sj+#yct - - 基板材料：晶体硅 oQO3:2a - 入射角度。75° ~46ed3eGzi B$j,: ^  iqYc& }k,
e{/\znBS% 椭圆偏振分析仪 7ac3N
!s:|D dv
 xa:P(x 3[ X)S4rW% 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 }_x oT9HUr 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 I+SL0 ] 2 '~e,"O
椭圆偏振分析仪 J4; " .Y= n\4+xZr
 ^,gKA\Wli
oY: " nE 总结 - 组件... |@nXl ZE
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HN! l-z  2UquN0 # L R[6l 椭圆偏振系数测量 ^C{a'
wv$=0 z F 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 M?o`tWLhF
+Xk!)Ge5E*
 rO~D{)Nu ;I0/zeM% 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 %JZIg!
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 i%iU_` RVe3@|9(G 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 o2L/8q.
xXtDGP 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 rRW&29A |(N4x(xl
 _)Ms9RN * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) Z3d&I]Tf {*m?t 7 仿真结果与参考文献的比较 Q=[&~^ Y)
d=pq+ 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 =Ev } v
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 K67x.P Z wU3Q VirtualLab Fusion技术 7iJl W&W
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