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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 ,zltNbu\.(
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 | 1RVm?~i d 8DU[p 任务描述 Y}1c>5{bE
xbm%+
 l6y}>] nuXL{ tg6 镀膜样品 D%abBE1 关于配置堆栈的更多信息。 0z8?6~M;< 利用界面配置光栅结构 ca{MJz' 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 $[ A\i<# - 涂层厚度：10纳米 1^4:l!0D - 涂层材料。二氧化硅 Aj)Q#Fd[ - 折射率：扩展的Cauchy模型。 Ic9L@2m  BG+i tyH 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 ?B1Zfu0 - 基板材料：晶体硅 iCE!Tm DT - 入射角度。75° u3C_Xz M'PZ{6;  R7kkth
&ASR2J 椭圆偏振分析仪 yGdX>h
=/!lK&
 @"-\e|[N wQSye*ec 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 G
a V&y 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 gvA}s/ e@ Lxduq
椭圆偏振分析仪 IT1YF.i x,!Dd
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_^r};}- } 总结 - 组件... kh5a >OX
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 P.'.KZJ:WD STp9Gh-  V4n~Z+k DB5J3r81 椭圆偏振系数测量 m G jB{Q+
9 {&g.+ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 P:"R;YCvE
d:@+dS
 i6WH^IQ M
/MGapmqV9 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 {^WK#$]
;xZ+1 zmL0
 eDJnzh83 / jG?PZ =m 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 Q":_\inF
MJ|tfQwhx 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 ]n!V HwUaaK
 ipu!{kJ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) H9mN nZ_k {821e&r 仿真结果与参考文献的比较 c/|{yp$Ga>
W,xdj! ^t 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 x+X@& S
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 /Y #8.sr k=]e7~! VirtualLab Fusion技术 (Q*q# U
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