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1. 建模任务 uaQ&&5%%J 1.1. 模拟条件 (4)3W^/kk? 光源: EML Emitter (Unit source) [w%#<5h 偶极子方向: Polarization 8)Tj
H' Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) tvWH04T 波长: 380~780 nm (10 nm step) \FI^Vk 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) O~Uw&Bq E0bFx5e5fu 1.2 堆栈结构 &y3B)#dIJ E2yz=7sv5
6IF|3@yD ._BB+G 2. 建模过程 Rk[8Bd?
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3DX|] 2.1创建新的项目文件 A[Cg/
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M]s[ "0O zlX!xqHj 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 WRMz]|+}4 2<.Vv\
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HU3Vv<lz anitqy#E 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) I;iR(Hf)?q .5k^f5a
Y_shy6"KH JE%i-UVH+; 3. 结果分析 y84XoDQ ) hPVX()O! 极坐标图结果 Hrv),Ce ;G$)MS'nB
vcD'~)G(* &.*T\3UO 等高线图结果 e6es0D[>5 fsb=8>}63}
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