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1. 建模任务 Y2W{?<99 1.1. 模拟条件 gg@Ew4L& 光源: EML Emitter (Unit source) SI/3Dz[ 偶极子方向: Polarization Zb:S
IJ Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) WDF6.i ? 波长: 380~780 nm (10 nm step) J<MuWgx& 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) R'$1,ie 7T?T0x3> 1.2 堆栈结构 /X;!
F> Ygc.0VKMR
a0PClbf2. j`QXl 2. 建模过程 H](TSt<Q" q OV$4[r 2.1创建新的项目文件 y$+_9VzYB Dv}VmC""
Rts.jm>[ R<Ct{f! 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 ggUw4w/e :oytJhxU
P.3kcZ , RU 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) *~^M_wej VKu|=m2vB
?'U@oz8 B \Wb3JQ) 3. 结果分析 __i))2 (t"e#b(: 极坐标图结果 *R8P brN oiItQ4{<
t8uaNvUM}e y-_IMu.J` 等高线图结果 ; g\rY %Vhj<gN
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