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1. 建模任务 ]RQQg,|D 1.1. 模拟条件 ^ ;$f-e 光源: EML Emitter (Unit source) c% 0h!zF 偶极子方向: Polarization LC\Ys\/,U Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) Vl?R?K=`~J 波长: 380~780 nm (10 nm step) `yHV10 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) Ni{ (=&*= (9$/r/-a 1.2 堆栈结构 q0w5ADd C 9,p -
 r%$-F2.p z8= Gc$w! 2. 建模过程 {`~{%2ayq7
$d!Sl
a 2.1创建新的项目文件 >NW
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 n4ce)N@ j 46f Q 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 oWo"` "P
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 V4 Pf?g MlsF?"H p 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) ,$sq]_t * "ER8\
 or ~o' W UdKj 3. 结果分析 g^ ^%4 Y
EUe2<G 极坐标图结果 0;3;Rs
lVXgp'!#j
 7|T5N[3?l, -Z<e`iFQS 等高线图结果 } !& w<wR
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