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时间地点 ;MRC~F= 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 QSs$ 协办单位:苏州黉论教育咨询有限公司 j~L1~@ 授课时间:随时随地学习 gHh.|PysW 授课地点:黉论教育网校 ?lwQne8/ 课程费用:4500 元(包含课程材料费、开票税金) r)#"$Sm 授课讲师:讯技光电高级工程师 QY\wQjwuW 学员要求:不需要任何软件基础 j'40>Ct=i cVHE}0Xd( 课程简介 xm10 当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用 (8-lDoW 所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如 ks#Z~6+3 高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是 >5@vY?QXO 截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需 n\"LN3 要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化,设计好之后,即刻进行 =Wy`X0h 制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到, (jE:Q2" 则要修改设计,重新分析直到合格为止。 ,S0~:c:) 课程涵盖 Macleod 软件所有模块、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间 cD`O+WA2K 针对实例,演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员 C.B}Py+
快速知悉软件的各项功能的同时,并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜 7fTg97eF 领域的具体应用。 //u76nQ n`T[eb~ ]|LaMMD 课程大纲: 3&nc' 1. 软件基础入门 %V1T!< 软件简介 pdha"EV 软件计算方法简介 i[\u-TF 程序基本框架和全局参数设置 a={qA4N 程序中使用的各种术语的定义 - QI`npsnV 2. 图表 ecZOX$'5 绘图和制表来表示性能3D 绘图-用两个变量绘图表示性能 YB3=ij!K 交互式绘图的使用 ZUJOBjb`
K 3. 材料管理 cASHgm 材料的获取 v_h*:c 材料的导入与导出 N5Mz=UgB 材料数据平滑与插值 0\ w[_H 用包络法推导介质膜的光学常数 Ry S{@=si 利用光谱仪的测量值计算基底光学常数 )9 jQ_ 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) :QL p`s 4. 薄膜设计与优化简介 FYS83uq0 优化与合成功能说明 9x{prCr 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate fO(S+} Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) fToI,FA 膜层锁定和链接 }Y ];ccT 减反膜优化 g2<S4 高反膜优化 K/+C6Y? 滤光片优化 pP,bW~rk 斜入射光学薄膜 32P ]0&_O 5. 反演工程 slfVQ809 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差) r+pjv_R 使用反演工程来控制对设计的搜索,该设计代表实际生产的产品 kK|+W, 6. 分析工具 |6^ K 颜色模型和分析工具 %{abRBny 公差工具和良品率预估 /- 4B)mL 灵敏度分析 xumv I{ :]QxT8B 7. 附加模块-Vstack qJt gnk| 非平行平面镀膜 >D62l*V C) 棱镜镀膜透反吞吐量评估8. 附加模块-DWDM R_n-&d'PP 光通信用窄带滤光片模拟 7!nAWlQ&-E 9. 附加模块-Runsheet&Simulator Qo *]l_UO; 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 >{Z=cv/6o 镀膜沉积过程噪声信号模拟 S\!E;p o|q#A3%? 10. 附加模块-Function `_^=OOn
如何在 Function 中编写脚本 3y ,?>- 案例:自定义画图 s9Z2EjQV 案例:太阳能抗反射薄膜分析 V7_??L%Ct` 案例:膜厚变化颜色变化 @ R Bw T #?6RoFgMe We?:DM
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