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时间地点 4
+da 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 W+#}~2&Dv 协办单位:苏州黉论教育咨询有限公司 M3ecIVm8( 授课时间:随时随地学习 U6/m_`nc 授课地点:黉论教育网校 hW0,5>[7% 课程费用:4500 元(包含课程材料费、开票税金) kr/1Dsr4 授课讲师:讯技光电高级工程师 z4%Z6Y 学员要求:不需要任何软件基础 syWv'Y[k? SX_kr^# 课程简介 Y(#d8o}}# 当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用 ?`vM#) 所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如 Q9Y9{T 高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是 >)AE|j` 截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需 9 NGeh*` 要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化,设计好之后,即刻进行 J[<D/WIH 制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到, >.!5M L\ 则要修改设计,重新分析直到合格为止。 ~>Hnf_pZO 课程涵盖 Macleod 软件所有模块、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间 E]HND.`*> 针对实例,演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员 h 7(H%(^_ 快速知悉软件的各项功能的同时,并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜 HKEop 领域的具体应用。 aIzp\$NWVK Vz7w{HY 6k@% +<1 课程大纲: 5CH-:|(;= 1. 软件基础入门 eB(S+p? 软件简介 By51dk7 软件计算方法简介
rvwl 程序基本框架和全局参数设置 ^| FVc48{ 程序中使用的各种术语的定义 /VhE<}OtH 2. 图表 j(@g
绘图和制表来表示性能3D 绘图-用两个变量绘图表示性能 MrKU,- 交互式绘图的使用 q/rHHuY} 3. 材料管理 t9f4P^V` 材料的获取 ZZ]OR;8 材料的导入与导出 ={mPg+Ei' 材料数据平滑与插值 Mu_mm/U_ 用包络法推导介质膜的光学常数 ~kSnXJv 利用光谱仪的测量值计算基底光学常数 Ads<-.R 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Rktn/Vi 4. 薄膜设计与优化简介 <QkN}+B= 优化与合成功能说明 U'h[{ek 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate _ RT"1"r Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) XW&8T"q7 膜层锁定和链接 Pw^c2TQ 减反膜优化 [c
KI0 高反膜优化 ! 6p)t[s 滤光片优化 )]>i> 斜入射光学薄膜 z2s|.M]&-D 5. 反演工程 |4p<T!T 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差) oQ-|\?{;A 使用反演工程来控制对设计的搜索,该设计代表实际生产的产品 u':0"5} 6. 分析工具 -u3SsU)_%N 颜色模型和分析工具 qV, $bw 公差工具和良品率预估 k`2B9,z 灵敏度分析 +,F=
- c~pUhx1( 7. 附加模块-Vstack ^7s6J{< 非平行平面镀膜 $5Y^fwIK 棱镜镀膜透反吞吐量评估8. 附加模块-DWDM |bG [TOa 光通信用窄带滤光片模拟 Xb+if 9. 附加模块-Runsheet&Simulator xo)?XFM2 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 6(<~1{
X% 镀膜沉积过程噪声信号模拟 wsb=[$C Lm*LJ_+ B 10. 附加模块-Function >;' 1k' 如何在 Function 中编写脚本 wJeqa 案例:自定义画图 {HRxyAI! 案例:太阳能抗反射薄膜分析 6ImV5^l 案例:膜厚变化颜色变化 G|PIH# sNk>0 X[ Y(I*%=:$ H:{(CY?t 对此课程有兴趣可以扫码加微联系
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