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nJJ9>#<g$ 内容简介 (VYY-%N` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 \%nFCK0 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 6Q<^,`/T 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Qp{gV Ys v\Zni4 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 M)Iu' 目录 ]:CU.M1 Preface 1 {@1C,8n; 内容简介 2 7 jq?zS| 目录 i BU[.P] 1 引言 1 uT8@p8 2 光学薄膜基础 2 G%
wVQ|1 2.1 一般规则 2 *')g}2iB 2.2 正交入射规则 3 i6R2R8 2.3 斜入射规则 6 %T]NM3|U 2.4 精确计算 7 mQmn &:R 2.5 相干性 8 J /3qJst 2.6 参考文献 10 D}|PBR 3 Essential Macleod的快速预览 10
zzsQfI# 4 Essential Macleod的特点 32 0-H! \IB 4.1 容量和局限性 33 IUco
8 4.2 程序在哪里? 33 yT Pi/=G 4.3 数据文件 35 ^06f\7A 4.4 设计规则 35 (lwrk( 4.5 材料数据库和资料库 37 8'Dp3x^W> 4.5.1材料损失 38 B .p&,K 4.5.1材料数据库和导入材料 39 BIf E+L( 4.5.2 材料库 41 /\L|F?+@ 4.5.3导出材料数据 43 fY@Y$S`Fh 4.6 常用单位 43 ;SAurG$ 4.7 插值和外推法 46 5~T`R~Uqb 4.8 材料数据的平滑 50 ;Ee!vqD2 4.9 更多光学常数模型 54 T9r"vw 4.10 文档的一般编辑规则 55 `oP<mLxle 4.11 撤销和重做 56 #L}YZ 4.12 设计文档 57 mA|&K8H 4.10.1 公式 58 h^klP: Q 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 {UpHHH:X# 4.10.3 沉积密度 59 (vm&&a@ 4.10.4 平行和楔形介质 60 -x~h.s, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 WPVur{?< 4.10.4 性能 61 V{17iRflf 4.10.5 保存设计和性能 64 F&US-ce:M 4.10.6 默认设计 64 !@mV$nTA 4.11 图表 64 "p>$^ 4.11.1 合并曲线图 67 ,L#Qy>MOb 4.11.2 自适应绘制 68 sBP.P7u 4.11.3 动态绘图 68 12 HBq8o 4.11.4 3D绘图 69 K;jV"R<9 4.12 导入和导出 73 ;cQhs7m(9 4.12.1 剪贴板 73 d (Ufj|; 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ,i>u>YNZ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ^)ouL25Z*2 4.13 背景 77 3R(GO.n=] 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Xd%c00"U 4.15 生成Rugate 84 CJ B
4.16 参考文献 91 Gt4| ] 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 IXb]\ ) 5.1 Jobs 92 Z;kRQ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 *yJCnoF 5.3 输入材料 94 x)eYqH~i 5.4 设计数据文件夹 95 1e`/N+6u 5.5 默认设计 95 WP, Ll\K)7 6 细化和合成 97 s%h|>l[lKT 6.1 优化介绍 97 5/j7 C> 6.2 细化 (Refinement) 98 l` 9<mL 6.3 合成 (Synthesis) 100 *,$cW,LN 6.4 目标和评价函数 101 W- Q:G=S- 6.4.1 目标输入 102 y,{=*2Yt 6.4.2 目标 103 s*`_Ka57]~ 6.4.3 特殊的评价函数 104 C/Vs+aW
n 6.5 层锁定和连接 104 2e_ssBbb 6.6 细化技术 104 Il(p!l<Xz# 6.6.1 单纯形 105 r|$@Wsb?# 6.6.1.1 单纯形参数 106 40TS=evG 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ,|hM`<"? 6.6.2.1 Optimac参数 108 qfp,5@p
6.6.3 模拟退火算法 109 ~jdvxoX- 6.6.3.1 模拟退火参数 109 VwfeaDJw 6.6.4 共轭梯度 111 ~`'!nzP5H 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 x]
[/9e 6.6.5 拟牛顿法 112 K)z{R n 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Yud]s~N 6.6.6 针合成 113 JCoDe. 6.6.6.1 针合成参数 114 *_G(*yAe( 6.6.7 差分进化 114 ]IbX< 6.6.8非局部细化 115 Oax*3TD 6.6.8.1非局部细化参数 115 nulCk33x'= 6.7 我应该使用哪种技术? 116 @c&}\#; 6.7.1 细化 116 f,Q oA 6.7.2 合成 117 rQ~7BlE 6.8 参考文献 117 D$C >ZF 7 导纳图及其他工具 118 3vx5dUgl, 7.1 简介 118 \Eq,4-q 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 HUF],[N 7.2.1 四分之一波长规则 119 m80e^ 7.2.2 导纳图 120 on?<3eED 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 W\mj?R 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 2$=U#!OtU 7.5 斜入射导纳图 141 Q]j[+e 7.6 对称周期 141 L%G/%*7;c 7.7 参考文献 142 ,(d\! T/]' 8 典型的镀膜实例 143 rG7E[kii 8.1 单层抗反射薄膜 145 oNW.-gNT 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Y,1ZvUOB 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 uw'>tb@ 8.4 W-膜层 148 "B18|#v 8.5 V-膜层 149 )8`7i{F 8.6 V-膜层高折射基底 150 W+HiH`Qb] 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 +NML>g#F~z 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 XY1D< |