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>e5zrgV 内容简介 {j(4m Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 urY`^lX~ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 OsW"CF2 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 w`yx=i# x;$|#]+
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ZcPUtun 目录 (b/d0HCND Preface 1 t\5c@j p 内容简介 2 .PVLWW 目录 i _=`x])mM 1 引言 1 EHf)^]Z 2 光学薄膜基础 2 d
O
A%F$Mk 2.1 一般规则 2 =xEk7'W6k 2.2 正交入射规则 3 Y4~vC[$x' 2.3 斜入射规则 6 &>}.RX]t 2.4 精确计算 7 $"fo^?d/s 2.5 相干性 8 ":WYcaSi 2.6 参考文献 10 ZW ye>] 3 Essential Macleod的快速预览 10
';l fS 4 Essential Macleod的特点 32 ^JhFI* 4.1 容量和局限性 33 j)D-BK&+ 4.2 程序在哪里? 33 UC9{m252 4.3 数据文件 35 6c\DJD 4.4 设计规则 35 #MTj)P, 4.5 材料数据库和资料库 37 o<4D=.g7D 4.5.1材料损失 38 ?M&4pO&Y 4.5.1材料数据库和导入材料 39 GEE
]Kr 4.5.2 材料库 41 H/i<_L P 4.5.3导出材料数据 43 S!j^|! 4.6 常用单位 43 Fe="EDh 4.7 插值和外推法 46 G:+16XCra 4.8 材料数据的平滑 50 me. /o(!? 4.9 更多光学常数模型 54 i>Iee^_( 4.10 文档的一般编辑规则 55 ]t/f<jKN^ 4.11 撤销和重做 56 .w'vD/q; 4.12 设计文档 57 O<`R~ 4.10.1 公式 58 g3rRhS 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 $Xt;A&l2? 4.10.3 沉积密度 59 S[U/qO)m 4.10.4 平行和楔形介质 60 '0Zm#g 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 EhXiv#CZ 4.10.4 性能 61 b[g.}'^yht 4.10.5 保存设计和性能 64 [_%,6e+ 4.10.6 默认设计 64 ^g]xU1] * 4.11 图表 64 IIP.yyh> 4.11.1 合并曲线图 67 A[9NP-~ 4.11.2 自适应绘制 68 b?k4InXh 4.11.3 动态绘图 68 S8*> kM' 4.11.4 3D绘图 69 jaqV[*440U 4.12 导入和导出 73 nO_!:6o". 4.12.1 剪贴板 73 5+FLSk 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 " dT>KQ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 t&f" jPu> 4.13 背景 77 @KJV1t` 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 &|z|SY]DL 4.15 生成Rugate 84 #NJ<[Gew 4.16 参考文献 91 ;Vo mFp L 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 e?vj+ZlS$f 5.1 Jobs 92 \1{_lynD 5.2 创建一个新Job(工作) 93 PSEWL6=]N 5.3 输入材料 94 S>EDL 5.4 设计数据文件夹 95 8bbVbP 5.5 默认设计 95 ^N{X " 6 细化和合成 97 "3ug}k 6.1 优化介绍 97 YE_6OLW 6.2 细化 (Refinement) 98 x:C@)CAr 6.3 合成 (Synthesis) 100 -R74/GBg 6.4 目标和评价函数 101 \P?--AIq< 6.4.1 目标输入 102 FoLDMx( 6.4.2 目标 103 h&$Py 6.4.3 特殊的评价函数 104 JilKZQmk 6.5 层锁定和连接 104 0lf"w@/ 6.6 细化技术 104 |YXG(;-BS 6.6.1 单纯形 105 w<mqe0 6.6.1.1 单纯形参数 106 DCK_F8 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 D9G0k[D, 6.6.2.1 Optimac参数 108 n531rkK- 6.6.3 模拟退火算法 109 (ic@3:xR 6.6.3.1 模拟退火参数 109 lux9o$ % 6.6.4 共轭梯度 111 iW-t}}Z>B 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 'yeh7oR 6.6.5 拟牛顿法 112 U-ULQ| 6U 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 hvL6zCi 6.6.6 针合成 113 qAbd xd[ 6.6.6.1 针合成参数 114 c*jr5 Y 6.6.7 差分进化 114 _UaPwJ 6.6.8非局部细化 115 iI}nW 6.6.8.1非局部细化参数 115 _&=9 Ke 6.7 我应该使用哪种技术? 116 G-sa
L* 6.7.1 细化 116 .:SfMr;G 6.7.2 合成 117 MKe *f% 6.8 参考文献 117 "|\94 7 导纳图及其他工具 118 ^[*AK_o_DQ 7.1 简介 118 Upu%.[7 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 )Jmw|B 7.2.1 四分之一波长规则 119 DSTx#* 7.2.2 导纳图 120 L% zuI& q 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 eNivlJ,K|@ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 l2r>|CGQ[ 7.5 斜入射导纳图 141 iAg}pwU 7.6 对称周期 141 sbpu
qOL 7.7 参考文献 142 U<|B7t4M 8 典型的镀膜实例 143 ?9CIWpGjU 8.1 单层抗反射薄膜 145 $/os{tzjd 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 3 k`NNA 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 B piEAwh 8.4 W-膜层 148 & |