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Z:FGSwT 内容简介 .9{Sr[P Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 gd^1c}UZX 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 a<7Ui;^@ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 f?kA,! -8;U1 ^# 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 +168!Jw; 目录 U1G"T(;s: Preface 1 \M(0@#-$C 内容简介 2 ++D-,>. 目录 i PCDsj_e 1 引言 1 =UYZ){rt9E 2 光学薄膜基础 2 H(9%SP@[c 2.1 一般规则 2 S]mXfB(mh 2.2 正交入射规则 3 ~c~N _b 2.3 斜入射规则 6 C-'n4AY^ 2.4 精确计算 7 (b%&DyOt 2.5 相干性 8 XcB!9AIO 2.6 参考文献 10 %Ez= 3 Essential Macleod的快速预览 10 V`qHNM/t 4 Essential Macleod的特点 32 f(!:_!m* 4.1 容量和局限性 33 2Sbo7e 4.2 程序在哪里? 33 C"no>A^ 4.3 数据文件 35 3tY\0y9 4.4 设计规则 35 Uu
~BErEC 4.5 材料数据库和资料库 37 9gR@Q%b) 4.5.1材料损失 38 D_ er( 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Lpd q^X 4.5.2 材料库 41 hvCX,^LoJ 4.5.3导出材料数据 43 }@%A@A{R 4.6 常用单位 43 sc
dU 4.7 插值和外推法 46 ?CIMez(h 4.8 材料数据的平滑 50 0mk-o 4.9 更多光学常数模型 54 s)X'PJ0&Bs 4.10 文档的一般编辑规则 55 5/4N Y 4.11 撤销和重做 56 w&<-pIa` 4.12 设计文档 57 s{x{/Bp(KK 4.10.1 公式 58 w:%3]2c 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 w6 0I;.hy 4.10.3 沉积密度 59 mTXeIng? 4.10.4 平行和楔形介质 60 |^p7:)cy 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 6S7 =+> 4.10.4 性能 61 @H[)U/. 4.10.5 保存设计和性能 64 |35"V3bs 4.10.6 默认设计 64 KY 085Fvs 4.11 图表 64 VBV y3fnj 4.11.1 合并曲线图 67
%GS^=Qr 4.11.2 自适应绘制 68 nv>|,&; 4.11.3 动态绘图 68 B>sSl1opI 4.11.4 3D绘图 69 2\Bt~;EIx 4.12 导入和导出 73 1_$ybftS 4.12.1 剪贴板 73 &,E^y,r 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ;s{k32e 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 sk*AlSlM 4.13 背景 77 W$&{jr-p 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 2_i/ F)W 4.15 生成Rugate 84
}>~';l 4.16 参考文献 91 lS<T|:gz@ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 aVTTpMY 5.1 Jobs 92 oAaUXkQE 5.2 创建一个新Job(工作) 93 T^FeahA7; 5.3 输入材料 94 ,pfHNK-u 5.4 设计数据文件夹 95 7;0$UYDU* 5.5 默认设计 95 <X]'": 6 细化和合成 97 ^f][;>c 6.1 优化介绍 97 Qb "\j 6.2 细化 (Refinement) 98 ig
G8L 6.3 合成 (Synthesis) 100 EVs.'Xg< 6.4 目标和评价函数 101 {[B^~Y>Lr 6.4.1 目标输入 102 ?+6w8j%\ 6.4.2 目标 103 c*F'x-TH 6.4.3 特殊的评价函数 104 |ci1P[y 6.5 层锁定和连接 104 #a7 Wx} 6.6 细化技术 104 ,c3gW2E 6.6.1 单纯形 105 /;P* ? 6.6.1.1 单纯形参数 106 EPO*{bN7O 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 }t.J;(ff: 6.6.2.1 Optimac参数 108 PeCU V6 6.6.3 模拟退火算法 109 bWp40&vx 6.6.3.1 模拟退火参数 109 4-ijuqjN 6.6.4 共轭梯度 111 k)l*L1Y4: 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 >v1E;-ZA 6.6.5 拟牛顿法 112 MZ9{*y[z 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 U9N1)3/u 6.6.6 针合成 113 ^)-* Ubzz 6.6.6.1 针合成参数 114 WEX6I16 6.6.7 差分进化 114 E<=h6Ha 6.6.8非局部细化 115 jGV+ ~a 6.6.8.1非局部细化参数 115 H|Vq 6.7 我应该使用哪种技术? 116 (y^[k {# 6.7.1 细化 116 +[W_Jz 6.7.2 合成 117 <$m=@@qg 6.8 参考文献 117 #p<1@, 7 导纳图及其他工具 118 4(2iR0N 7.1 简介 118 [}p/pj= 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 X MkyX&y 7.2.1 四分之一波长规则 119 /m>%=_nz 7.2.2 导纳图 120 t?bc$,S"\( 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 0LQ|J(u 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 }vzZWe 7.5 斜入射导纳图 141 <qGVOAnz+ 7.6 对称周期 141 (WoKrd.! 7.7 参考文献 142 IvJ;9d 8 典型的镀膜实例 143 xw1@&QwM 8.1 单层抗反射薄膜 145 [):&R1 |