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o2'Wu:Y" 内容简介 =H3tkMoi2 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 `lQ;M?D 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 8d2\H*a9~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 H>W8F2VT C
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 1=7ASS9 目录 ;b:'i&r
Preface 1 D6H?*4f] 内容简介 2 R7U%v"F>` 目录 i 9K#3JyW* 1 引言 1 -cijLlz%+ 2 光学薄膜基础 2 reNf?7G+m 2.1 一般规则 2 .6T0d
4,1 2.2 正交入射规则 3 ]%y>l j?Y 2.3 斜入射规则 6 yCA8/)>Gm 2.4 精确计算 7 \=7jp|{Yl 2.5 相干性 8 d,?Tq 2.6 参考文献 10 nJGs ,~" 3 Essential Macleod的快速预览 10 El@*Fo 4 Essential Macleod的特点 32 ZX64kk+ 4.1 容量和局限性 33 vzFpXdt 4.2 程序在哪里? 33 [8^q3o7n 4.3 数据文件 35 GGhk~H4OP 4.4 设计规则 35 NPS*0 y/ 4.5 材料数据库和资料库 37 hxK;f 4.5.1材料损失 38 fBctG~CJH 4.5.1材料数据库和导入材料 39 n=bdV(?4 4.5.2 材料库 41 r uGeN 4.5.3导出材料数据 43 R"9wVM;*c 4.6 常用单位 43 huS*1xl 4.7 插值和外推法 46 jS~Pdz 4.8 材料数据的平滑 50 :)D7_[i 4.9 更多光学常数模型 54 p7@R+F\.}; 4.10 文档的一般编辑规则 55 Y#XRn_2D 4.11 撤销和重做 56 QxdC[t$Lp 4.12 设计文档 57 ($kw*H{Ah^ 4.10.1 公式 58 ?h&?`WO( 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 )S(Ly. 4.10.3 沉积密度 59 "I)zi]vk 4.10.4 平行和楔形介质 60 8\!E )M|4 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Y}v3J(l 4.10.4 性能 61 Hj|&P/jY]* 4.10.5 保存设计和性能 64 TKv!wKI 4.10.6 默认设计 64 w$6Z}M1d 4.11 图表 64 iGu%_-S 4.11.1 合并曲线图 67 n\l?+)S * 4.11.2 自适应绘制 68 |[IyqWG9 4.11.3 动态绘图 68 #}FUa u$ 4.11.4 3D绘图 69 ,d,2Q 4.12 导入和导出 73 m|B= 4.12.1 剪贴板 73 (=Cb)/s0 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 %:d7Ts&?Z 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 +Gt9!x}#e 4.13 背景 77 *>KBDFI 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 NeG`D' 4.15 生成Rugate 84 5EcVW|( 4.16 参考文献 91 j*G: 8Lg 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 H{vKk 5.1 Jobs 92 $VvgzjrH 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Vv}R
S@4U 5.3 输入材料 94 ^ls@Gr7`P 5.4 设计数据文件夹 95 `.@sux!lu 5.5 默认设计 95 X!ruQem / 6 细化和合成 97 ;_e9v, 6.1 优化介绍 97 5M~{MdF|. 6.2 细化 (Refinement) 98 ;na%*G` 6.3 合成 (Synthesis) 100 3X`9&0:j% 6.4 目标和评价函数 101 KU/r"lMNlU 6.4.1 目标输入 102 w,LmAWZ4Y 6.4.2 目标 103 {uaDpRt 6.4.3 特殊的评价函数 104 gCb+hQq\ 6.5 层锁定和连接 104 5'I+%66?h$ 6.6 细化技术 104 7;fC%Fq 6.6.1 单纯形 105 GXVx/)H 6.6.1.1 单纯形参数 106 *y?HaU 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 4SJ aAeIZ 6.6.2.1 Optimac参数 108 QDg5B6>$ 6.6.3 模拟退火算法 109 P3&s<mh 6.6.3.1 模拟退火参数 109 D4!;*2t 6.6.4 共轭梯度 111 0% rDDB 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 }}=n]_f 6.6.5 拟牛顿法 112 7 H 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 pT]hPuC 6.6.6 针合成 113 _xaum 6.6.6.1 针合成参数 114 #T_!-;(Z 6.6.7 差分进化 114 Uz^N6q 6.6.8非局部细化 115 #&}-
q
RA 6.6.8.1非局部细化参数 115 vn^O m-\ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 K
{'
atc 6.7.1 细化 116 q !z"YpYB 6.7.2 合成 117 8(%F{&<; 6.8 参考文献 117 )A7^LLzG 7 导纳图及其他工具 118 rUb{iU;~m 7.1 简介 118 ZL6HD n! 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 gu(:'5cX 7.2.1 四分之一波长规则 119 c`!e#w 7.2.2 导纳图 120 d&FXndC4F 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 c,~uurVi 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 yxt"vm;
7.5 斜入射导纳图 141 5E'/8xp bB 7.6 对称周期 141 "/Qz?1>l+ 7.7 参考文献 142 )}@D\(/@ 8 典型的镀膜实例 143 )j36Y =r3 8.1 单层抗反射薄膜 145 ?Ij(B}D 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 f CU] 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Zd[rn:9\ 8.4 W-膜层 148 =GX5T(P8k 8.5 V-膜层 149 +;KUL6 8.6 V-膜层高折射基底 150 Ib# -M;{ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 *-nO,K>y` 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 eJ?oz^ 8.9 四层抗反射薄膜 153 ZbYC3_7w 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 u5oM;#{@- 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 MYS`@%ZV#k 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 90Ki.K 0 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Fc5.?X- 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 JQ1MuE' 8.15十五层宽带抗反射膜 159 MbRTOH 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 V+E8{|dYL 8.17 1/4波长堆栈 162 v76Gwu$d 8.18 陷波滤波器 163 ^^N|:80 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 `}Zqmfs 8.20 褶皱 165 TJ"-cWpO1 8.21 消偏振分光器1 169 lx:$EJ 8.22 消偏振分光器2 171 <L-F3Buu 8.23 消偏振立体分光器 172 hC\
l
\y 8.24 消偏振截止滤光片 173 +8Lbz^# 8.25 立体偏振分束器1 174 NU=ru/ 8.26 立方偏振分束器2 177 xb,d,(^ ]R 8.27 相位延迟器 178 A & |