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v%!'vhf_K 内容简介 r(DW,xoK0 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 PpWdZ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Lu9`(+ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @r9[& 53O}`xX!6 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 "d
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! 目录 f/3rcYR;y Preface 1 r
l>e~i 内容简介 2 r>Cv@4/j 目录 i -@?4Tfl 1 引言 1 26[m7\O 2 光学薄膜基础 2 9M Ug/ 2.1 一般规则 2 Bl/Z _@ 2.2 正交入射规则 3 FN"Ye*d 2.3 斜入射规则 6 :3.!?mOe2 2.4 精确计算 7 'NSfGC%7R 2.5 相干性 8 h}yfL@ 2.6 参考文献 10 c);vl% 3 Essential Macleod的快速预览 10 ~Zo;LSI 4 Essential Macleod的特点 32 prO ~g 4.1 容量和局限性 33 Bf8[(oc~ 4.2 程序在哪里? 33 a}5/?/ 4.3 数据文件 35 U}^`R,C 4.4 设计规则 35 yL"UBe}v 4.5 材料数据库和资料库 37 "eZ~]m}L0 4.5.1材料损失 38 %{ +>\0x 4.5.1材料数据库和导入材料 39
Wz)@k2 4.5.2 材料库 41 3eR c>^wh 4.5.3导出材料数据 43 ]Ia}H+ & 4.6 常用单位 43 Zx
U?d 4.7 插值和外推法 46 A!IZIT5)m 4.8 材料数据的平滑 50 cxc-|Xori 4.9 更多光学常数模型 54 ZfnJ&H' 4.10 文档的一般编辑规则 55 ;(Kj-,> 4.11 撤销和重做 56 $64sf?aZ># 4.12 设计文档 57 OSIf>1 4.10.1 公式 58 \.Z
/ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 -v{LT=,O 4.10.3 沉积密度 59 ~w"e 2a 4.10.4 平行和楔形介质 60 wrAcVR 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 RKD$'UWX 4.10.4 性能 61 e1Bqd+ 4.10.5 保存设计和性能 64 L)9uBdF 4.10.6 默认设计 64 -$ha@bCWO 4.11 图表 64 DQhs tXX 4.11.1 合并曲线图 67 ewVks>lbz 4.11.2 自适应绘制 68 "P8(R 4.11.3 动态绘图 68 y_{fc$_& 4.11.4 3D绘图 69 &Rt^G 4.12 导入和导出 73 (gjCm0#_% 4.12.1 剪贴板 73 LjPpnjU 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 r;SOAucX 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 '.IR|~ Y 4.13 背景 77 sPRo=LB 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 DH!_UV 4.15 生成Rugate 84 ,Y`TP4Ip 4.16 参考文献 91 }$@ EpM 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 67]!xy 5.1 Jobs 92 ie}?}s 5.2 创建一个新Job(工作) 93 H'%#71 5.3 输入材料 94 `Tc"a_p9t 5.4 设计数据文件夹 95 9"f 5.5 默认设计 95 .wf$]oQQ 6 细化和合成 97 ]BaK8mPl 6.1 优化介绍 97 Hgbrlh 6.2 细化 (Refinement) 98 51Q~/ 6.3 合成 (Synthesis) 100 m4,inA:o 6.4 目标和评价函数 101 z,c=."<z 6.4.1 目标输入 102 -> `R[k 6.4.2 目标 103 y;=/S?L.: 6.4.3 特殊的评价函数 104 Y3bZ&G) 6.5 层锁定和连接 104 ub]"b[j\1 6.6 细化技术 104 !+_X q$9_ 6.6.1 单纯形 105 lD6PKZ\RIj 6.6.1.1 单纯形参数 106 DsH#?h<-o 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 `2,F!kCt 6.6.2.1 Optimac参数 108 cHX~-:KOr 6.6.3 模拟退火算法 109 X][=(l!;w7 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ]
D+'Ao^' 6.6.4 共轭梯度 111 cXbQ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 jPEOp#C 6.6.5 拟牛顿法 112 5Yr$tl\k 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 *}=z^;_oq 6.6.6 针合成 113 MR/gLm(8( 6.6.6.1 针合成参数 114 8SoTABHV 6.6.7 差分进化 114 7',WLuD 6.6.8非局部细化 115 *Ke\Yb 6.6.8.1非局部细化参数 115 E(Zm6~ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 =i>i,>bv 6.7.1 细化 116 EM!9_8 f 6.7.2 合成 117 +Sak_*fq 6.8 参考文献 117 Yz? 8n 7 导纳图及其他工具 118 \-CL}Z}S 7.1 简介 118 F?XiP.`DR 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 0N):8`dY 7.2.1 四分之一波长规则 119 o "1X8v 7.2.2 导纳图 120 F.-:4m(Z 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 B~2M/&rM\ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 5G l:jRu 7.5 斜入射导纳图 141 ,D2nUk 7.6 对称周期 141 pMzlpmW;P 7.7 参考文献 142 B}^l'p_u 8 典型的镀膜实例 143 K[l5=)G0L 8.1 单层抗反射薄膜 145 3]h*6V1$ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 F&a)mpFv3c 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 GuKiNYI_ 8.4 W-膜层 148 ?[2>x{5Z 8.5 V-膜层 149 3o`c`;H%p 8.6 V-膜层高折射基底 150 @.} @K 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 'm k_s4J 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 l`."rei%) 8.9 四层抗反射薄膜 153 mZ~f?{ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 \nU_UH 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 F< |