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rv9qF |2r{ 内容简介 Tk|0
scjE^ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
Qk Gr{ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 iBV*GW 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 : b $
M e}(.u1 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 &EE6<-B- 目录 9} eIidw K Preface 1 :M1+[FT 内容简介 2 j9y,UT 目录 i y;;^o6Gnw 1 引言 1 hy
W4= 2 光学薄膜基础 2 g#Zb}^ 2.1 一般规则 2 i*.Z~$ 2.2 正交入射规则 3 nITr5$f 2.3 斜入射规则 6 |pq z(j7 2.4 精确计算 7 xotq$r 2.5 相干性 8 "y_$!KY% 2.6 参考文献 10 G
U0zlG] C 3 Essential Macleod的快速预览 10 4w2V["?X1 4 Essential Macleod的特点 32 &fiDmUxj 4.1 容量和局限性 33 o~mY,7@a 4.2 程序在哪里? 33 qe`W~a9x 4.3 数据文件 35 kki]6_/n 4.4 设计规则 35 q'C'S#qqn 4.5 材料数据库和资料库 37 b]hRmW 4.5.1材料损失 38 Vxo3RwmR 4.5.1材料数据库和导入材料 39 by>,h4 4.5.2 材料库 41 k(u W( 6 4.5.3导出材料数据 43 +:/`&LOS- 4.6 常用单位 43 ndF
Kw 4.7 插值和外推法 46 C
[=/40D 4.8 材料数据的平滑 50 ZZ[5Z=te? 4.9 更多光学常数模型 54 AGLzA+6M 4.10 文档的一般编辑规则 55 zT!JHG 4.11 撤销和重做 56 ;,Lq*x2s 4.12 设计文档 57 luat1#~J 4.10.1 公式 58 V9B $_j4 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 2=["jP!B 4.10.3 沉积密度 59 >'Y] C\ 4.10.4 平行和楔形介质 60 vJl4.nk 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 e)cmZ8~S 4.10.4 性能 61 ?y]3kU 4.10.5 保存设计和性能 64 Qnr' KbK 4.10.6 默认设计 64 2s|[!:L5 4.11 图表 64 n?kU 4.11.1 合并曲线图 67 J*a`qU
4.11.2 自适应绘制 68 k3S**&i!CR 4.11.3 动态绘图 68 ^hY<avi6s 4.11.4 3D绘图 69 TQID-I 4.12 导入和导出 73 s49AF 4.12.1 剪贴板 73 AHn^^'&x[ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ={#r/x 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 oE-i`;\8 4.13 背景 77 o#%2N+w 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 xjR/K&[m 4.15 生成Rugate 84 /SlCcozFL~ 4.16 参考文献 91 `lcpUWn 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 *(D_g!a 5.1 Jobs 92 k9yA# 5.2 创建一个新Job(工作) 93 {{@3r5KGl 5.3 输入材料 94 D?X97jNm 5.4 设计数据文件夹 95 5:^dyF&sm{ 5.5 默认设计 95 O2 3f\pm& 6 细化和合成 97 A3Ltk 2< 6.1 优化介绍 97 g>VkQos5" 6.2 细化 (Refinement) 98 ew}C*4qH 6.3 合成 (Synthesis) 100 mgH4)!Z*56 6.4 目标和评价函数 101 KY2xKco 6.4.1 目标输入 102
(nvSB}? 6.4.2 目标 103 j&Z:|WniK 6.4.3 特殊的评价函数 104 h r* KDT^! 6.5 层锁定和连接 104 Q8z>0ci3o 6.6 细化技术 104 i&"I/!3Q@ 6.6.1 单纯形 105 15Yy&9D 6.6.1.1 单纯形参数 106 0o`0Td 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 l ^\5Jr03 6.6.2.1 Optimac参数 108 +de.!oY 6.6.3 模拟退火算法 109 VpTp*[8O 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ^[^uDE
< 6.6.4 共轭梯度 111 Bv3?WW 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 l EQn2+ 6.6.5 拟牛顿法 112 )Bd+jli|s 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Yx
XDRb\kW 6.6.6 针合成 113 mIl^ 6.6.6.1 针合成参数 114 MEq
()}7P 6.6.7 差分进化 114 ^t9"!K 6.6.8非局部细化 115 V`@@ufU} 6.6.8.1非局部细化参数 115 J^0co1Y0 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Lrr6z05F Q 6.7.1 细化 116 9dy"Y~c 6.7.2 合成 117 }IEYH&4! 6.8 参考文献 117 hvZW~
=75 7 导纳图及其他工具 118 2JtGS-t 7.1 简介 118 "o=h /q5& 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 PJh\U1Z 7.2.1 四分之一波长规则 119 O{SU,"!y 7.2.2 导纳图 120 ^N0hc!$ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 36&7J{MU 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 kTs)u\r. 7.5 斜入射导纳图 141 YR~g&E#U^ 7.6 对称周期 141 8oN4!#: 7.7 参考文献 142 F
N(&3Ull 8 典型的镀膜实例 143 UI>-5,X 8.1 单层抗反射薄膜 145 1`B5pcuI 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 4?72TBl] 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 dtm_~r7~ 8.4 W-膜层 148 C+-~Gmrb(7 8.5 V-膜层 149 X+bLLW>& 8.6 V-膜层高折射基底 150 /c__{?go 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ^>[DG]g 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 `=%[ 8.9 四层抗反射薄膜 153 %o+bO}/9 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 *"j_3vAx 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 o"QpV
>x 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Q.M3rRh 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 .R biF 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 &AOw(?2 8.15十五层宽带抗反射膜 159 0#sk ]Qz 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 U{eC^yjt"o 8.17 1/4波长堆栈 162 "0zMx`Dh 8.18 陷波滤波器 163 #@lr$^M
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 _.Uz!2 8.20 褶皱 165 < |