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qOVs9'R 内容简介 ;Oh4W<hH} Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 n8DWA`[ib 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ]1>U@oK 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Nc:, [8{l 4#MvOjA5[ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 7d*SZmD
目录 8`XT`H Preface 1 QijEb 内容简介 2 2T3v^%%j 目录 i
)T/"QF}<T 1 引言 1 p&ytUTna 2 光学薄膜基础 2 `d2}>
2.1 一般规则 2 KY9sa/xO 2.2 正交入射规则 3 !:PF |dZ 2.3 斜入射规则 6 Sd'!(M^k3 2.4 精确计算 7 &2C6q04b 2.5 相干性 8 /bv`_> 2.6 参考文献 10 xwhH_[ 3 Essential Macleod的快速预览 10 pV]m6!y& 4 Essential Macleod的特点 32 PXof-W 4.1 容量和局限性 33 t33/QW
r 4.2 程序在哪里? 33 JG @bl 4.3 数据文件 35 Y4e64`V) 4.4 设计规则 35 t<mT=(zt* 4.5 材料数据库和资料库 37 -fFM-gt^t 4.5.1材料损失 38 Q]9H9?}N? 4.5.1材料数据库和导入材料 39 A rC4pT 4.5.2 材料库 41 -bJht 4.5.3导出材料数据 43 H6X]D"Y, 4.6 常用单位 43 "PK\;#[W| 4.7 插值和外推法 46 ac%%*HN, 4.8 材料数据的平滑 50 FZ'|z8Dm 4.9 更多光学常数模型 54 `W,gYH7 4.10 文档的一般编辑规则 55 R L7OFfMe 4.11 撤销和重做 56 b3N>RPsHS 4.12 设计文档 57 ig:,: KN 4.10.1 公式 58 NPc]/n?vDj 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *ci,;-*C 4.10.3 沉积密度 59 XF(0>- 4.10.4 平行和楔形介质 60 _Bm/v^( 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 o ?@,f/"5 4.10.4 性能 61 V1 T?T9m 4.10.5 保存设计和性能 64 k0~mK7k 4.10.6 默认设计 64 ZnSDq_Uk 4.11 图表 64 3on]#/"1b 4.11.1 合并曲线图 67 ieXhOA 4.11.2 自适应绘制 68 i lk\&J~I 4.11.3 动态绘图 68 awLN>KI]</ 4.11.4 3D绘图 69 a]XQM$T$ 4.12 导入和导出 73 tn!z^W 4.12.1 剪贴板 73 ( P|Ph 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 .^j 6 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ]ZKmf}A)1P 4.13 背景 77 %>B?WR\yE 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 (]7&][ 4.15 生成Rugate 84 M&o@~z0 4.16 参考文献 91 qDZ?iTHQq 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?n<b:oO 5.1 Jobs 92 d7s? c 5.2 创建一个新Job(工作) 93 p.^glz >B 5.3 输入材料 94 Qz/o-W; 5.4 设计数据文件夹 95 pwAawm 5.5 默认设计 95 Q-o}Xnj*!L 6 细化和合成 97 ; mnV)8:F 6.1 优化介绍 97 YCZl1ry:V= 6.2 细化 (Refinement) 98 ;/?M&rX 6.3 合成 (Synthesis) 100 U,
_nEx 6.4 目标和评价函数 101 ^]:w5\DG 6.4.1 目标输入 102 )jkX&7x 6.4.2 目标 103 8JxJ>I-9p 6.4.3 特殊的评价函数 104 \|9@*]6: 6.5 层锁定和连接 104 j}R!'m(P' 6.6 细化技术 104 1vKc>+9 6.6.1 单纯形 105 ;mH O# 6.6.1.1 单纯形参数 106 |@#37 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 h?E[28QB 6.6.2.1 Optimac参数 108 C-!!1-Eq?: 6.6.3 模拟退火算法 109 L&V;Xvbu% 6.6.3.1 模拟退火参数 109 %
C~2k? 6.6.4 共轭梯度 111 &|>CW:)&1" 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ?HwW~aO 6.6.5 拟牛顿法 112 x<^+nTzN 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
s;V~dxAiv 6.6.6 针合成 113
~/Gx~P] 6.6.6.1 针合成参数 114 /RD@ [ 8 6.6.7 差分进化 114 {(;dHF%{ 6.6.8非局部细化 115 lnuf_;0 6.6.8.1非局部细化参数 115 $D{KXkrd 6.7 我应该使用哪种技术? 116 1OB,UU"S$ 6.7.1 细化 116 ~\_aT2j0 6.7.2 合成 117 `x%v&> 6.8 参考文献 117 sq
`f?tA? 7 导纳图及其他工具 118 4CA(` _i~ 7.1 简介 118 M#o.$+Uh 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 #'5|$ug[ 7.2.1 四分之一波长规则 119 S o>P)d$8+ 7.2.2 导纳图 120 >iD&n4TK 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 d%1Tv1={ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 *J[3f]PBmR 7.5 斜入射导纳图 141 l&3f<e 7.6 对称周期 141 U9k;)fK 7.7 参考文献 142
*Ju$A 8 典型的镀膜实例 143 O.61-rp 8.1 单层抗反射薄膜 145 Gx Z'" x 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 '
>a(| 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
o!:V=F 8.4 W-膜层 148 X(sHFVU+ 8.5 V-膜层 149 wdS4iQD 8.6 V-膜层高折射基底 150 ~)>O=nR 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 K_/-mwA v 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 eeKErpj8A 8.9 四层抗反射薄膜 153 TZ#(G 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 hM}rf6B 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8!8 yA 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 b[5$$_[ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 cp D=9k!*K 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 D7q%rO|F' 8.15十五层宽带抗反射膜 159 /.PjHTM< 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 .|>zQ(7YC 8.17 1/4波长堆栈 162 dkTewT6' 8.18 陷波滤波器 163
z&fXxp |