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s)&R W#:X 内容简介 gu.))3D9 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 B8#f^}8 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 D<L{Z[ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ^MWW,` {Z~VO 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Sm I8&c 目录 MvjwP?J] Preface 1 k3|9U'r!c 内容简介 2 f.xSr! 目录 i u #QSa$P 1 引言 1 wCE fR!i 2 光学薄膜基础 2 0#[Nfe* 2.1 一般规则 2 WE8L?55_Au 2.2 正交入射规则 3 ljR?* P 2.3 斜入射规则 6 1nM?>j%k 2.4 精确计算 7 %^@0tT 2.5 相干性 8 l=OC?d*m 2.6 参考文献 10 %$-3fj7
3 Essential Macleod的快速预览 10 k}a!lI: 4 Essential Macleod的特点 32 Q ]koj!mMl 4.1 容量和局限性 33 9lwo/(s 4.2 程序在哪里? 33 HBkQ`T 4.3 数据文件 35 sAAIyPJts 4.4 设计规则 35 %RF 4.5 材料数据库和资料库 37 g=' 2~c 4.5.1材料损失 38 WRyv
>Y 4.5.1材料数据库和导入材料 39 KB-#):' 4.5.2 材料库 41 =|t1eSzc 4.5.3导出材料数据 43 Vblf6qaBs 4.6 常用单位 43 |P?B AWYeQ 4.7 插值和外推法 46 #2t\>7] 4.8 材料数据的平滑 50 B!C32~[ 4.9 更多光学常数模型 54 [8g\pPQ 4.10 文档的一般编辑规则 55
rlh6\Fa 4.11 撤销和重做 56 YO4ppL~xe 4.12 设计文档 57 w5G34[v 4.10.1 公式 58 [
^ \) 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 us *l+Jw,m 4.10.3 沉积密度 59 /]58:euR 4.10.4 平行和楔形介质 60 SxQDqoA~ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 |vE#unA 4.10.4 性能 61 20xGj?M 4.10.5 保存设计和性能 64 R}mWHB_h" 4.10.6 默认设计 64 8k}CR)3@C 4.11 图表 64 5N}|VGN 4.11.1 合并曲线图 67 #z5?Y2t7~^ 4.11.2 自适应绘制 68 .:Xe* Q 4.11.3 动态绘图 68 ^O9m11 4.11.4 3D绘图 69 yq^$H^_O
p 4.12 导入和导出 73 c^UM(bW 4.12.1 剪贴板 73 f*f9:xUY 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
]@
0V 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 78A4n C 4.13 背景 77 ;Awzm )Q 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ,
Vr6
4.15 生成Rugate 84 _'v )Fy 4.16 参考文献 91 F#9KMu<<cI 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 \shoLp
5.1 Jobs 92 Xq$0% WjG 5.2 创建一个新Job(工作) 93 E0'6 !9y 5.3 输入材料 94 ^8t*WphZC 5.4 设计数据文件夹 95 *\5H\s9< 5.5 默认设计 95 \3UdC{~ 6 细化和合成 97 uB9+E%jOdQ 6.1 优化介绍 97 n m$G4Q 6.2 细化 (Refinement) 98 V#FLxITk 6.3 合成 (Synthesis) 100
#rC+13 6.4 目标和评价函数 101 D'=`O6pK 6.4.1 目标输入 102 T3 /LUm 6.4.2 目标 103 C!A_PQ2y 6.4.3 特殊的评价函数 104 >@\-m 6.5 层锁定和连接 104 !kYmrj** 6.6 细化技术 104 +4Ra N`I 6.6.1 单纯形 105
DGUU1vA 6.6.1.1 单纯形参数 106 Eu}A{[^\ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 cA^7}}?e 6.6.2.1 Optimac参数 108 7E]l=Z`x 6.6.3 模拟退火算法 109 5rhdm?Ls0 6.6.3.1 模拟退火参数 109 L3Iz]D3s 6.6.4 共轭梯度 111 s;)tLJ! 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 t38T0Ao 6.6.5 拟牛顿法 112 N($]))~3& 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 aesFv)5DK 6.6.6 针合成 113 {uG_)G Fr0 6.6.6.1 针合成参数 114 n*|-"'j 6.6.7 差分进化 114 W12K93tO 6.6.8非局部细化 115 0 <;B2ce 6.6.8.1非局部细化参数 115 u-<s@^YG 6.7 我应该使用哪种技术? 116 od|.E$B 6.7.1 细化 116 m/h0J03'T 6.7.2 合成 117 ~-zC8._w3r 6.8 参考文献 117 ZaV@}=Rd8 7 导纳图及其他工具 118 )HHzvGsL) 7.1 简介 118 "*WXr$ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 T9.gs}B0 7.2.1 四分之一波长规则 119 ]].21 7.2.2 导纳图 120
)BB a 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 \FM- FQK 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Uh}yHD`K 7.5 斜入射导纳图 141 ;RYKqUE 7.6 对称周期 141 Lr &tpB< 7.7 参考文献 142 1jb@nxRjO 8 典型的镀膜实例 143 kDQXPp 8.1 单层抗反射薄膜 145 cke[SUH, 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ivk|-C'\ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 S]a$w5ZP 8.4 W-膜层 148 bL%)k61G_v 8.5 V-膜层 149 pq`MO
.R 8.6 V-膜层高折射基底 150 +cN2 KP 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 :4TcCWG 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 N"{o3QmA 8.9 四层抗反射薄膜 153 e%\K I\u 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ,%^0 4sl 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 pQi - 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 .?TVBbc%5 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 cR} =3|t 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 x@ )u:0 8.15十五层宽带抗反射膜 159 .BvV[`P 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 P{ o/F 8.17 1/4波长堆栈 162 G_@H:4$3 8.18 陷波滤波器 163 u8QX2| 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ^S@b* 8.20 褶皱 165 d0d2QRX 8.21 消偏振分光器1 169 #c_ZU\"h" 8.22 消偏振分光器2 171 vbU{Et\^ 8.23 消偏振立体分光器 172 P[~a'u 8.24 消偏振截止滤光片 173 :n4x}% 8.25 立体偏振分束器1 174 Qp}<8/BM\ 8.26 立方偏振分束器2 177 wim}}^H 8.27 相位延迟器 178 G.8ZISN/ 8.28 红外截止器 179 Rz<fz"/2< |