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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) +9}' s{ jM;d>Gymx 内容简介 k#-[ M.i Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 bF7`] 83 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 %SFw~%@3&~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ;lk f+,; :!hk~#yvJ9 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ]d~MEa9Y| 目录 # m_\1&g Preface 1 ;9Hz{ej 内容简介 2 p?KCVvx$ 目录 i *ig5Q(b*N 1 引言 1 ~EPjZ3 ? 2 光学薄膜基础 2 ;p .j 2.1 一般规则 2 &,Uc>L%m 2.2 正交入射规则 3 >d)|r 2.3 斜入射规则 6 1URT2$2p 2.4 精确计算 7 [ y$j9 2.5 相干性 8 @)06\h 2.6 参考文献 10 DvU~%%(0^ 3 Essential Macleod的快速预览 10 r$Kh3EEF`E 4 Essential Macleod的特点 32 8g&uE*7N 4.1 容量和局限性 33 Y}*Ctdrl 4.2 程序在哪里? 33 F'fM?!( 4.3 数据文件 35 Q&tFv;1w6 4.4 设计规则 35 ]IL3 $eR 4.5 材料数据库和资料库 37 Ab/v_mA; 4.5.1材料损失 38 v UJ sFR 4.5.1材料数据库和导入材料 39 )vxVg*.Ee 4.5.2 材料库 41 T`j 4.5.3导出材料数据 43 H74NU_ 4.6 常用单位 43 ye9QTK6$, 4.7 插值和外推法 46 Es_SCWJ 4.8 材料数据的平滑 50 _zAc 5rS 4.9 更多光学常数模型 54 b49|4
4.10 文档的一般编辑规则 55 E]D4'] 4.11 撤销和重做 56 cC*zj\O 4.12 设计文档 57 AJdlqbd'+ 4.10.1 公式 58 h%4~0 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <%T%NjNPQ 4.10.3 沉积密度 59 zkw0jX~ 4.10.4 平行和楔形介质 60 |J@| 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 <PH3gyC 4.10.4 性能 61 P1vF{e 4.10.5 保存设计和性能 64 c'>8pd 4.10.6 默认设计 64 Au%Wrk3j 4.11 图表 64 0`zm>fh} 4.11.1 合并曲线图 67 zhD`\&G. 4.11.2 自适应绘制 68 )i?{;%^ 4.11.3 动态绘图 68 mk$Yoz 4.11.4 3D绘图 69 >V77X+! 4.12 导入和导出 73 rGP?
E3 4.12.1 剪贴板 73 "dFdOb"O- 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 rQAbN6 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 E}E7VQjM 4.13 背景 77 =D;UMSf 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 xNkwTDN5 4.15 生成Rugate 84 _~(MA-l 4.16 参考文献 91 *&~sr 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 s7X~OF(# 5.1 Jobs 92 CgaB) `. 5.2 创建一个新Job(工作) 93 k
N
uN4/ 5.3 输入材料 94 gDjd{+LUo 5.4 设计数据文件夹 95 gPn%`_d5 5.5 默认设计 95 w2RESpi 6 细化和合成 97 =[O<.'aG- 6.1 优化介绍 97 yBD.Cs@ 6.2 细化 (Refinement) 98 QB
oZCLv 6.3 合成 (Synthesis) 100 <'+R%6 6.4 目标和评价函数 101 pU\xzL D 6.4.1 目标输入 102 _dB0rsCnU% 6.4.2 目标 103 0n =9TmE 6.4.3 特殊的评价函数 104 gs<qi'B 6.5 层锁定和连接 104 +"fM &F] 6.6 细化技术 104 Ve')LY< 6.6.1 单纯形 105 )PanJHtU 6.6.1.1 单纯形参数 106 5Rt0h$_J 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Uz m[e%/` 6.6.2.1 Optimac参数 108 E2ayK> , 6.6.3 模拟退火算法 109 /s-jR]#VA 6.6.3.1 模拟退火参数 109 8P'En+uE1| 6.6.4 共轭梯度 111 ^me}k{x 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 oVxV,oH( 6.6.5 拟牛顿法 112 U_=wL 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 FcbA)7dD 6.6.6 针合成 113 ~,3v<A[5Vi 6.6.6.1 针合成参数 114 cWy*K4O 6.6.7 差分进化 114 %i
JU)N! 6.6.8非局部细化 115 IU;pkgBj0Y 6.6.8.1非局部细化参数 115 ,nuDoc 6.7 我应该使用哪种技术? 116 'AlSq:gZ 6.7.1 细化 116 PSrt/y! 6.7.2 合成 117 LMhY"/hAXa 6.8 参考文献 117 eG2qOq$[ 7 导纳图及其他工具 118 K:Xrfn{s 7.1 简介 118 v"?PhO/{= 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 D;#Yn M3 7.2.1 四分之一波长规则 119 n3@g{4~ 7.2.2 导纳图 120 [laL6 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 IbNTdg]/F` 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 OYRR'X.E 7.5 斜入射导纳图 141 C`K9WJOD 7.6 对称周期 141 S0o,)`ZB 7.7 参考文献 142 `peJ s~V 8 典型的镀膜实例 143 y^+[eT& |