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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) tA,J~|+f: !4<A|$mQ 内容简介 q}0I`$MU Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^R)]_ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 pp{GaCi 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2- (}=N g6S-vSX, 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 \hb$v 目录 *J
>6i2M,u Preface 1 "3|OB, <;: 内容简介 2 &&m1_K 目录 i NS TO\36 1 引言 1 J!dv"Ww" 2 光学薄膜基础 2 A:(qF.Tm 2.1 一般规则 2 I)0_0JXs 2.2 正交入射规则 3 Tj\hAcD 2.3 斜入射规则 6 h?}S|>9 2.4 精确计算 7 l Ft&cy2 2.5 相干性 8 KoWG:~>| 2.6 参考文献 10 k,8^RI07@ 3 Essential Macleod的快速预览 10 =UWW(^M#[: 4 Essential Macleod的特点 32 PlT_]p 4.1 容量和局限性 33 iP:^nt? 4.2 程序在哪里? 33 ,^<39ng 4.3 数据文件 35 <X5ge>. 4.4 设计规则 35 Asq&Z$bB_ 4.5 材料数据库和资料库 37 v6E5#pse8 4.5.1材料损失 38 zy8+~\a+Y& 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ;XlCd[J< 4.5.2 材料库 41 gQ%mVJB{( 4.5.3导出材料数据 43 '?fGI3b~/ 4.6 常用单位 43 q|IU+r:! 3 4.7 插值和外推法 46 RzFxO 4.8 材料数据的平滑 50 Cy B4apJ 4.9 更多光学常数模型 54 5B8fz;l= B 4.10 文档的一般编辑规则 55 {0AlQ6.@> 4.11 撤销和重做 56 `Hv"^o 4.12 设计文档 57 D~`RLPMk 4.10.1 公式 58 0tPwhJ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 +&J1D8 4.10.3 沉积密度 59 d-W*`:Q 4.10.4 平行和楔形介质 60 HqV4!o9' 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 S&k/Pc 4.10.4 性能 61 Bsd~_y}8 4.10.5 保存设计和性能 64 f8UO`*O 4.10.6 默认设计 64 jIHY[yDT 4.11 图表 64 sEZ2DnDI 4.11.1 合并曲线图 67 322-'S3< 4.11.2 自适应绘制 68 hewc5vrL 4.11.3 动态绘图 68 "GJ.`Hj 4.11.4 3D绘图 69 vBM<M3 4.12 导入和导出 73 m6 Y0,9 4.12.1 剪贴板 73 9#~jlq( 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 BGOS( 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 1]A\@( 4.13 背景 77 Zw%:mZN
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 i~M-V=Zg 4.15 生成Rugate 84 ?[WUix; 4.16 参考文献 91 Mpk7$=hjc 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 fZJM'+J@A 5.1 Jobs 92 $"}*#<Z 5.2 创建一个新Job(工作) 93 D4$"02" 5.3 输入材料 94 AUfcf* 5.4 设计数据文件夹 95 4X}TG 5.5 默认设计 95 1-.i^Hal 6 细化和合成 97 l2wu>Ar7. 6.1 优化介绍 97 3hzz*9/n 6.2 细化 (Refinement) 98 :`<MlX 6.3 合成 (Synthesis) 100 U^K8^an$ 6.4 目标和评价函数 101 d`j<Bbf- 6.4.1 目标输入 102 &Wk:>9]Jrb 6.4.2 目标 103 ) :Px`] 5 6.4.3 特殊的评价函数 104 r/0AM}[!*j 6.5 层锁定和连接 104 F<dhG>E9 6.6 细化技术 104 ?#nk}=;g8 6.6.1 单纯形 105 CwyE8v 6.6.1.1 单纯形参数 106 :x^e T 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 J @IKXhb7_ 6.6.2.1 Optimac参数 108 ?[DVYP 6.6.3 模拟退火算法 109 jxYze/I 6.6.3.1 模拟退火参数 109 NpbZt;%t 6.6.4 共轭梯度 111 gl2l%]=\' 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 W&3,XFnI_ 6.6.5 拟牛顿法 112 -KG1"g,2 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 !RjC0, 6.6.6 针合成 113 .hoVy*I 6.6.6.1 针合成参数 114 XG5T`>Yl 6.6.7 差分进化 114 kn`O3cW/ 6.6.8非局部细化 115 1&Mpx!K*T 6.6.8.1非局部细化参数 115 Wrt5eYy 6.7 我应该使用哪种技术? 116 qK%#$JgqA 6.7.1 细化 116 (S6>^:;=~ 6.7.2 合成 117 n*#HokX 6.8 参考文献 117 O>"
|5wj 7 导纳图及其他工具 118 _BCq9/ 7.1 简介 118 1p<*11 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 DV*e.Y> 7.2.1 四分之一波长规则 119 c s:E^ 7.2.2 导纳图 120 ZK<c(,oZ^ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 8zjJshE/ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 L/5th}m
7.5 斜入射导纳图 141 bcAk$tA2 7.6 对称周期 141 y~VLa 7.7 参考文献 142 &F'n
>QT9q 8 典型的镀膜实例 143 s>{\^T7y 8.1 单层抗反射薄膜 145 NZ+TTMv 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 20:![/7:! 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 OhM_{]* 8.4 W-膜层 148 DD[<J:6 8.5 V-膜层 149 0^F!-b^z 8.6 V-膜层高折射基底 150 &F*eo`o}6 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 T]\'D&P~D 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 xF
3Z> 8.9 四层抗反射薄膜 153 dMI G2log 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Q*e\I8R} 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 `y{[e j 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 {c<cSrfI 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 "DX2Mu= 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 bJw{ U. 8.15十五层宽带抗反射膜 159 mKUm*m#< |