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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) _aY. >j:|3atb 内容简介 Z)5klg$c Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ki3 HcV 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 rmQ\RP W 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 #fN/LO (V)9s\Le_ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 pND48 g; 目录 g&kH'fR8 Preface 1 mtIMW9 内容简介 2 v4C3uNW 目录 i E[ 0Sst x 1 引言 1 qh H+m 2 光学薄膜基础 2 7JS#a=D# 2.1 一般规则 2 8F)=n \ 2.2 正交入射规则 3 -F1P28<? 2.3 斜入射规则 6 A6Q c;v+ 2.4 精确计算 7 yi|:}K$ 2.5 相干性 8 F^xaz^=`u 2.6 参考文献 10 \6i9q= 3 Essential Macleod的快速预览 10 {zu/tCq? 4 Essential Macleod的特点 32 K k`<f d 4.1 容量和局限性 33 jzQ I>u 4.2 程序在哪里? 33 c8q G\\t[ 4.3 数据文件 35 ]| z")gOE 4.4 设计规则 35 ~T7\8K+ $ 4.5 材料数据库和资料库 37 a}w&dE$!- 4.5.1材料损失 38 )%BT*)x 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ^(J-dK 4.5.2 材料库 41 ?`"<DH~:0B 4.5.3导出材料数据 43 &*jixqzvn 4.6 常用单位 43 y+= \z*9
4.7 插值和外推法 46 4L!e=>as"1 4.8 材料数据的平滑 50 PB@-U.Z 4.9 更多光学常数模型 54 B]i+,u 4.10 文档的一般编辑规则 55 y/H8+0sEk 4.11 撤销和重做 56 =^by0E2 4.12 设计文档 57 i6F P[6H1 4.10.1 公式 58 [:B W+6 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 r&=r/k2 4.10.3 沉积密度 59 *50ZinfoG 4.10.4 平行和楔形介质 60 ,rXW`7!2 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 w2'
3S#nZ 4.10.4 性能 61 a9L0f BRy 4.10.5 保存设计和性能 64 eZ[#+0J 4.10.6 默认设计 64 J09ZK8
hK 4.11 图表 64 %$^$'6\77 4.11.1 合并曲线图 67 >" i~ x 4.11.2 自适应绘制 68 >
d^r">!, 4.11.3 动态绘图 68 '&+Z , 4.11.4 3D绘图 69 JLt{f=`%F 4.12 导入和导出 73 aQC7 V !v 4.12.1 剪贴板 73 %N!h38N2 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 POkXd^pI 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Kgps_tY% 4.13 背景 77 ]D?oQ$q7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 4U:DJ_GN 4.15 生成Rugate 84 k#BU7Exij 4.16 参考文献 91 2~+'vi 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 N{|[R
5.1 Jobs 92 r*xq(\v 5.2 创建一个新Job(工作) 93 =xl7vHn7 5.3 输入材料 94 A-}PpH~.Z 5.4 设计数据文件夹 95 ^BQ>vI'.4 5.5 默认设计 95 *'s&/vEy 6 细化和合成 97 @b4b{d5[ 6.1 优化介绍 97 MI?]8+l 6.2 细化 (Refinement) 98 9[B<rz 6.3 合成 (Synthesis) 100 <ihhV e 6.4 目标和评价函数 101 k:@a[qnY 6.4.1 目标输入 102 l^)o'YS y 6.4.2 目标 103 }6F_2S3c 6.4.3 特殊的评价函数 104 s#M?
tyhj 6.5 层锁定和连接 104 "~B~{ _<j 6.6 细化技术 104 !x+MVJ] 6.6.1 单纯形 105 +
?[ ACZF 6.6.1.1 单纯形参数 106 7m vSo350 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ]KfghRUH 6.6.2.1 Optimac参数 108 % jYQ 6.6.3 模拟退火算法 109 N. ItyV 6.6.3.1 模拟退火参数 109 0q-0zXlSL 6.6.4 共轭梯度 111 Q3'(f9
x 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *)2x&~T*| 6.6.5 拟牛顿法 112 `kI?Af*;v 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 56/.*qa 6.6.6 针合成 113 ,K"r:)\ 6.6.6.1 针合成参数 114 1==P.d( 6.6.7 差分进化 114 vy>];!Cu 6.6.8非局部细化 115 eG a#$x?. 6.6.8.1非局部细化参数 115 \3J+OY 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Y0R\u\b 6.7.1 细化 116 P*?d6v,r 6.7.2 合成 117 x0N-[//YV 6.8 参考文献 117 E,"b*l. 7 导纳图及其他工具 118 /S-/SF:>g 7.1 简介 118 T +|J19 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 hnM9-hqm 7.2.1 四分之一波长规则 119 .2 N_? 7.2.2 导纳图 120 E1mI Xd;. 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 A=\'r<: 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 0jl:Yzo&\ 7.5 斜入射导纳图 141 Fj4l %= 7.6 对称周期 141 nA{ncTg1\ 7.7 参考文献 142 >n@>h$] 8 典型的镀膜实例 143 WHdqO8 8.1 单层抗反射薄膜 145 dK-
^ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 dT*f-W 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 js%4;
8.4 W-膜层 148 ,Yiq$Z{qQ 8.5 V-膜层 149 giA~+m~fN 8.6 V-膜层高折射基底 150 Cv?<}q 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 @eAGN|C5 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ,& \&::R 8.9 四层抗反射薄膜 153 ?[*@T2Ck 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 .$}Z:,aB
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 vh:UXE lm 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 oK(W)[u 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 .wt>.mUH 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 w2M
IY_N? 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ps{&WT3a 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ?$`1%Y9 8.17 1/4波长堆栈 162 8O;rp(N.n 8.18 陷波滤波器 163 lL(}dbT~N 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ,i$(yx? 8.20 褶皱 165 !pFKC) 8.21 消偏振分光器1 169 s\3Z?zm8 8.22 消偏振分光器2 171 T{ v< |