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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) {9
O`/| =6&D4~R 内容简介 U5"Oh I Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Qs:r@"hE 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 }c%y0)fL 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 T"U t). e%6{P 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 99K+7G\{ 目录 R:N-y."La. Preface 1 QEa=!O 内容简介 2 7`HUwu 目录 i |m- `,
we 1 引言 1 (_ah~VnO 2 光学薄膜基础 2 BtChG] N| 2.1 一般规则 2 M7,MxwZ0k 2.2 正交入射规则 3 <>_WdAOuD 2.3 斜入射规则 6 ^<0 NIu} 2.4 精确计算 7
}8 _9V|E 2.5 相干性 8 i&)C, 2.6 参考文献 10 ()?co<@(l 3 Essential Macleod的快速预览 10 Xkom@F~] 4 Essential Macleod的特点 32 `gN68:B 4.1 容量和局限性 33 3:lp"C51 4.2 程序在哪里? 33 nD\os[ 3 4.3 数据文件 35 u^%')Ncp 4.4 设计规则 35 ]bb}[#AY 4.5 材料数据库和资料库 37 3ohcHQ/a 4.5.1材料损失 38 Ws)X5C=A 4.5.1材料数据库和导入材料 39 vp-7>Wj 4.5.2 材料库 41 %+a@|Z 4.5.3导出材料数据 43 XS8~jBjx 4.6 常用单位 43 9PK-r;2 4.7 插值和外推法 46 389.&`Q%Ut 4.8 材料数据的平滑 50 CL :M>( 4.9 更多光学常数模型 54 sA-W^*+ 4.10 文档的一般编辑规则 55 es+_]:7B9 4.11 撤销和重做 56 Gj`Y2X2r 4.12 设计文档 57 j%jd@z ]@ 4.10.1 公式 58 h./vTNMc 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 oh0|2IrM 4.10.3 沉积密度 59 a9zph2o-
4.10.4 平行和楔形介质 60 e uHu} 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 '.
Hp*9R 4.10.4 性能 61 iCRw}[[ 4.10.5 保存设计和性能 64 u%T$XG 4.10.6 默认设计 64 wn|@D< 4.11 图表 64 #aY<J:Nx 4.11.1 合并曲线图 67 g*?+~0"`Y 4.11.2 自适应绘制 68 p]z54 ~ 4.11.3 动态绘图 68
%%cSvPcz 4.11.4 3D绘图 69 Ty0T7D 4.12 导入和导出 73 m_02"' 4.12.1 剪贴板 73 Dh(T)yc 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 1idjX"' 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 afiK!0col2 4.13 背景 77 ak8^/1*@ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 {-N90Oe 4.15 生成Rugate 84 J&ECm+2 4.16 参考文献 91 dIa(</ } 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ) v5n "W 5.1 Jobs 92 0$ 9;pzr 5.2 创建一个新Job(工作) 93 qL5#.bR 5.3 输入材料 94 ro^6:w3O^ 5.4 设计数据文件夹 95 %_R|@cyD 5.5 默认设计 95 dN\P&"` 6 细化和合成 97 \.;ct 6.1 优化介绍 97 j /dE6d 6.2 细化 (Refinement) 98 ^Z4q1i)JO 6.3 合成 (Synthesis) 100 k-cIb@+" 6.4 目标和评价函数 101 4Re@ QOZ 6.4.1 目标输入 102 pebx#}]p- 6.4.2 目标 103 *tfDXQ^mN 6.4.3 特殊的评价函数 104 K1/gJ9+(\ 6.5 层锁定和连接 104 ,C,e/>+My 6.6 细化技术 104 +>:_kE]?nX 6.6.1 单纯形 105 QB3d7e)8> 6.6.1.1 单纯形参数 106 >+jbMAYSq 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Fr3d#kVR 6.6.2.1 Optimac参数 108 i=X* 6.6.3 模拟退火算法 109 #"p1Qea$ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 )Z8"uRTb0 6.6.4 共轭梯度 111 {I9N6BQ& 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Hdbnb[e 6.6.5 拟牛顿法 112 3pTS@ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 c."bTq4tJ 6.6.6 针合成 113 g\\1C2jG 6.6.6.1 针合成参数 114 nl-t<#z[ 6.6.7 差分进化 114 nze1]3` 6.6.8非局部细化 115 WW[`E 6.6.8.1非局部细化参数 115 N{V5 D 6.7 我应该使用哪种技术? 116 jQxPOl$- 6.7.1 细化 116 ICl_ eb 6.7.2 合成 117 NM1cyZ 6.8 参考文献 117 x<*IF,o 7 导纳图及其他工具 118 '/u:,ar 7.1 简介 118 N[bRp 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 6a%:zgkOpu 7.2.1 四分之一波长规则 119 3 $$5Mk(& |