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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) $B`bsJ }TU2o3Q 内容简介 }tedh Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /_r{7Gq. 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 C12y_E8Un 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 EiWd =jDm s_76)7 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 uQkQ#'e| 目录 E /V`NqC Preface 1 Y4*?QBYA 内容简介 2 k_1oj[O 目录 i #b{;)C fL 1 引言 1 g=s2t"& 2 光学薄膜基础 2 op|x~Thf 2.1 一般规则 2 ;MjOs&1f0K 2.2 正交入射规则 3 x2+M0 }g 2.3 斜入射规则 6 G[!<mh4h| 2.4 精确计算 7 AI2 >{V 2.5 相干性 8 u!cA_, 2.6 参考文献 10 IO?6F@( 3 Essential Macleod的快速预览 10 'deqF|Iox 4 Essential Macleod的特点 32 :#UN^ "(m} 4.1 容量和局限性 33 @m"P_1`* 4.2 程序在哪里? 33 V,:~FufM^ 4.3 数据文件 35 V_pKe~ 4.4 设计规则 35 VB{G%!} 4.5 材料数据库和资料库 37 5v#_2Ih 4.5.1材料损失 38 KT8]/T`U 4.5.1材料数据库和导入材料 39 [
]=}0l<J 4.5.2 材料库 41 }Yp]A 4.5.3导出材料数据 43 2LH.I f 4.6 常用单位 43 YR$d\,#R 4.7 插值和外推法 46 5VW*h 4.8 材料数据的平滑 50 ) 2Hl\"F 4.9 更多光学常数模型 54 xiQ;lE
4.10 文档的一般编辑规则 55 |HK/*B 4.11 撤销和重做 56 mKBPIQ+ZS 4.12 设计文档 57 Zh.[f+ l] 4.10.1 公式 58 3/2G~$C 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 pw1&WP&?3 4.10.3 沉积密度 59 T8a!"lPP7 4.10.4 平行和楔形介质 60 o<%s\n 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 j es[a 4.10.4 性能 61 5K?%Eo72!= 4.10.5 保存设计和性能 64 !,>9?(
4.10.6 默认设计 64 <US!XMrCg 4.11 图表 64 X3rvM8 4.11.1 合并曲线图 67 6w^Fee`>] 4.11.2 自适应绘制 68 T13Jn o 4.11.3 动态绘图 68 x)o`w"]al 4.11.4 3D绘图 69 xGymQ|y84 4.12 导入和导出 73 JV9Ft,xk 4.12.1 剪贴板 73 A+F@JpV 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 8VZLwhj 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 6B>H75S+H 4.13 背景 77 Tta+qjr 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 P[C03a!lXg 4.15 生成Rugate 84 QOY M/1U 4.16 参考文献 91 -pm^k-%v 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 d512Y[ R 5.1 Jobs 92 d/`Q,Vl 5.2 创建一个新Job(工作) 93 S`GM#( t@_ 5.3 输入材料 94 w.\#!@kZ! 5.4 设计数据文件夹 95 :0B'
b 5.5 默认设计 95 }z8HS<
#Q 6 细化和合成 97 .\+%Q)?h: 6.1 优化介绍 97 W02swhS 6.2 细化 (Refinement) 98 ]AzDkKj 6.3 合成 (Synthesis) 100 Nb@zn0A(; 6.4 目标和评价函数 101 QAh6!<.;@ 6.4.1 目标输入 102 2s:$4]K D 6.4.2 目标 103 5A=FEg 6.4.3 特殊的评价函数 104 Qape DU; 6.5 层锁定和连接 104 Acib<Mi2!- 6.6 细化技术 104 Vy[ m%sEP 6.6.1 单纯形 105 lGtTZcg 6.6.1.1 单纯形参数 106 u|]`gsFZ\ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 2DTBL:?` 6.6.2.1 Optimac参数 108 )YP9 6.6.3 模拟退火算法 109 +=A53V[C 6.6.3.1 模拟退火参数 109 x>=8~wIK 6.6.4 共轭梯度 111 OAXF=V F# 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 E<XrXxS1O 6.6.5 拟牛顿法 112 :Pf2oQ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Sx3R2-!Z 6.6.6 针合成 113 )j>BvO 6.6.6.1 针合成参数 114 3fWL}]{<a 6.6.7 差分进化 114 VaRP+J}UA. 6.6.8非局部细化 115 nJ-U* yz 6.6.8.1非局部细化参数 115 KnuQ5\y 6.7 我应该使用哪种技术? 116 G(1y_t 6.7.1 细化 116 THbV],RhJ 6.7.2 合成 117 -<tfbaA 6.8 参考文献 117 O}IRM|r" 7 导纳图及其他工具 118 m'i^BE 7.1 简介 118 Ho; bgva 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 b)Px 7.2.1 四分之一波长规则 119 +sc--e? 7.2.2 导纳图 120 eDPmUlC+- 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 !Yan}{A, 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 e2PM^1{_ 7.5 斜入射导纳图 141 _7LZ\V+MLW 7.6 对称周期 141 Mli`[8@( 7.7 参考文献 142 <>FpvdB 8 典型的镀膜实例 143 >C|i^4ppI 8.1 单层抗反射薄膜 145 l@zr1g) 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ~'9>jpnw 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 RIO4`, 8.4 W-膜层 148 & |