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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) u3cl7~- yW *\0h^^|@ 内容简介 nWd;XR6| Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ;wHyX)&X$ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 r.]IGE| 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Nah\4-75& i"^ yy+ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Q}^qu6 目录 Rx@0EPV Preface 1 5sB~.z@ 内容简介 2 I!Fd~g9I4 目录 i bz`rSp8h 1 引言 1 wO]H+t 2 光学薄膜基础 2 k]c$SzJ> / 2.1 一般规则 2 !W b Q9o 2.2 正交入射规则 3 F\<{:wu 2.3 斜入射规则 6 A*kN
I 2.4 精确计算 7 +WCV"m 2.5 相干性 8 YCG$GD 2.6 参考文献 10 TOx@Y$_9Q8 3 Essential Macleod的快速预览 10 8wCB}q C 4 Essential Macleod的特点 32 j9f Q V 4.1 容量和局限性 33 m>DJ w7< 4.2 程序在哪里? 33 DH])Q5 4.3 数据文件 35 4SIS#m 4.4 设计规则 35 DNRWE1P2bg 4.5 材料数据库和资料库 37 s[t?At-> 4.5.1材料损失 38 dlDO?T 4.5.1材料数据库和导入材料 39 SM.KM_%K 4.5.2 材料库 41 CeUC[cUQU 4.5.3导出材料数据 43 5~RR
_G 4.6 常用单位 43 T=[/x= 4.7 插值和外推法 46 G9~ 4?v6: 4.8 材料数据的平滑 50 XrGP]k6.^ 4.9 更多光学常数模型 54 eY`o=xN 4.10 文档的一般编辑规则 55 oUL4l=dj. 4.11 撤销和重做 56 ]4,eCT 4.12 设计文档 57 +6(\7? 4.10.1 公式 58
tPFj[Y~Iy 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 T:*l+<? 4.10.3 沉积密度 59 lB 4.10.4 平行和楔形介质 60 scy_ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 5wC,:c[H7 4.10.4 性能 61 ?DKY;:dZF 4.10.5 保存设计和性能 64 R|]n;*y 4.10.6 默认设计 64 MAL;XcRR 4.11 图表 64 sL#MYW5E 4.11.1 合并曲线图 67 R#W=*cN 4.11.2 自适应绘制 68 cT
nC 4.11.3 动态绘图 68 c'wU$xt.w 4.11.4 3D绘图 69 f7&9IW`7F^ 4.12 导入和导出 73 <sls1, 4.12.1 剪贴板 73 T _fM\jdI 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 A}(o1wuw 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 8"o@$;C 4.13 背景 77 plM:7#eA 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 +9B .}t# 4.15 生成Rugate 84 cVDcda|PE 4.16 参考文献 91 ?HeUU 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 &"^U=f@v 5.1 Jobs 92 &mm!UJ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 4u#TKr. 5.3 输入材料 94 Cl!9/l?z 5.4 设计数据文件夹 95 xL"O~jTS 5.5 默认设计 95 6 !wk5# 6 细化和合成 97 DTHWL 6.1 优化介绍 97 }lGui>/D 6.2 细化 (Refinement) 98 /dHIm`. Z 6.3 合成 (Synthesis) 100 od^ylg>K 6.4 目标和评价函数 101 mp
z3o\n 6.4.1 目标输入 102 q`UaJ_7 6.4.2 目标 103 Z}.ZTEB 6.4.3 特殊的评价函数 104 S q{@4F}d 6.5 层锁定和连接 104 DKF
'* 6.6 细化技术 104 c7RQ7\ 6.6.1 单纯形 105 B:Hr{%O 6.6.1.1 单纯形参数 106 BAtjYPX'w 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 [pInF
Qh6 6.6.2.1 Optimac参数 108 P~%+KxwZQ 6.6.3 模拟退火算法 109 5GGO: 6.6.3.1 模拟退火参数 109 YLuf2ja}X 6.6.4 共轭梯度 111 L$,yEMCe 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 [v`kqL~ 6.6.5 拟牛顿法 112 egVKAR- 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 (%mV,2|:20 6.6.6 针合成 113 l2I%$|)d 6.6.6.1 针合成参数 114 _<=h#lH 6.6.7 差分进化 114 Fm*npK 6.6.8非局部细化 115 =}.gU WV 6.6.8.1非局部细化参数 115 <. *bJ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 %Aqf=R_^ 6.7.1 细化 116 8|zOgn{ 6.7.2 合成 117 KC)}Mzt6_ 6.8 参考文献 117 "lSh4X 7 导纳图及其他工具 118 Je}0KW3G9L 7.1 简介 118 +wf9!_' 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Qqs1%u;e8 7.2.1 四分之一波长规则 119 'u~0rMe4}) 7.2.2 导纳图 120 ~H1< |