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英文原厂售价100美金,中文版598元 nV
GrW#'E ,LU/xI0O q]<cn2 内容简介 bf::bV?T Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 rsA K0R+ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 n|3ENN 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 >8HcCG ?MyXii<a 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 <+pwGKtD 目录 ;aWH`^{i Preface 1 De\&r~bTW9 内容简介 2 L)J0TSh 目录 i g/'MECB 1 引言 1 !{"{(h)+@ 2 光学薄膜基础 2 ^q7
fN0"6 2.1 一般规则 2 A2g+m 2.2 正交入射规则 3 KR%DpQ&{' 2.3 斜入射规则 6 0Ocy$ 2.4 精确计算 7 hH|3s-o 2.5 相干性 8 GR Rv0M 2.6 参考文献 10 -dZ7;n5&_ 3 Essential Macleod的快速预览 10 "\)j=MI8u+ 4 Essential Macleod的特点 32 s9@/(_ 4.1 容量和局限性 33 6Jrh'6o@ 4.2 程序在哪里? 33 BUuNI_?M#5 4.3 数据文件 35 | Fm( 4.4 设计规则 35 Ztr,v$ 4.5 材料数据库和资料库 37 W{Ine>
a' 4.5.1材料损失 38 (%YFcE)SRS 4.5.1材料数据库和导入材料 39 "i(k 8+iK 4.5.2 材料库 41 6/Q'o5>NL: 4.5.3导出材料数据 43 oxha8CF]D 4.6 常用单位 43 O4S~JE3o 4.7 插值和外推法 46 kW3V"twx 4.8 材料数据的平滑 50 ?ep93:j 4.9 更多光学常数模型 54 4(f[Z9 iZ] 4.10 文档的一般编辑规则 55
a2SMNC] 4.11 撤销和重做 56 v&;q4b4 4.12 设计文档 57 OV_Y`u7YR 4.10.1 公式 58 nGZZCsf < 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 yL7D;<!S& 4.10.3 沉积密度 59 |^[]Oy= 4.10.4 平行和楔形介质 60 Xk8+m> 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 4
>at#Zc 4.10.4 性能 61 J 6D?$ 4.10.5 保存设计和性能 64 b*\K I 4.10.6 默认设计 64 Lo5itW 4.11 图表 64 '%vb&a!.6 4.11.1 合并曲线图 67 {m.l{<H 4.11.2 自适应绘制 68 c,:xm=& 4.11.3 动态绘图 68 waz)jEk 4.11.4 3D绘图 69 hOx'uO`x( 4.12 导入和导出 73 Gt3V}"B3\ 4.12.1 剪贴板 73 4p\<b8(9> 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 MkEr|w' 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 )
wtVFG 4.13 背景 77 7Ps I'1v 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 wt0^R<28 4.15 生成Rugate 84 y0k*iS
e 4.16 参考文献 91 ^1sX22k 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 dbQUW#<Q 5.1 Jobs 92 R @N
I 5.2 创建一个新Job(工作) 93 8D@H4O. 5.3 输入材料 94 rXPq'k'h#- 5.4 设计数据文件夹 95 hy3j8?66 5.5 默认设计 95 [*GIR0 6 细化和合成 97 (A|Gb2 X 6.1 优化介绍 97 8QDs4Bv| 6.2 细化 (Refinement) 98 ~za=yZo7( 6.3 合成 (Synthesis) 100 `z=U-v'H)D 6.4 目标和评价函数 101 sEP-jEuwG 6.4.1 目标输入 102 [DpGL/Y. 6.4.2 目标 103 AIgJ,=9K 6.4.3 特殊的评价函数 104 aw&:$twbM 6.5 层锁定和连接 104 %5Hsd 6.6 细化技术 104 ? FGzw 6.6.1 单纯形 105 Y&!M#7/'J3 6.6.1.1 单纯形参数 106 uu@Y]0- 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 3z';Zwz &X 6.6.2.1 Optimac参数 108 ^ ]02)cK 6.6.3 模拟退火算法 109 (L} 6.6.3.1 模拟退火参数 109 PeT _Ty 6.6.4 共轭梯度 111 WDQtj$e+ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 m7}PJ^*b 6.6.5 拟牛顿法 112 KE! aa&g 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 "Ah (EZAR
6.6.6 针合成 113 ARvT 6.6.6.1 针合成参数 114 +aR.t@D+"Y 6.6.7 差分进化 114 o!!";q%DX 6.6.8非局部细化 115 3C'`K, 6.6.8.1非局部细化参数 115 (7/fsfsF 6.7 我应该使用哪种技术? 116 x(pq!+~K 6.7.1 细化 116 uTTM%-DMHT 6.7.2 合成 117 ]wFKXZeK 6.8 参考文献 117 Z^5j.d{e$ 7 导纳图及其他工具 118 s3@sX_2 7.1 简介 118 S81Z\=eK 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 4gbi?UAmX 7.2.1 四分之一波长规则 119 [-C-+jC 7.2.2 导纳图 120 erTb9`N4 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 GO0Spf_Gh 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 |TM&:4D]^ 7.5 斜入射导纳图 141 \9k$pC+l 7.6 对称周期 141 DID&fj9m 7.7 参考文献 142 pie<jZt 8 典型的镀膜实例 143 tgoOzk^ 8.1 单层抗反射薄膜 145 J%}9"Q5 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 o8B_;4uB 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 2r;^OWwr? 8.4 W-膜层 148 ."b=dkx 8.5 V-膜层 149 H^_]' ~. 8.6 V-膜层高折射基底 150 !_0kn6S5 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 /xf4*zr 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 =qPk'n9i8 8.9 四层抗反射薄膜 153 *:
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