第28期 | Ansys Zemax 成像设计线下培训2013年至今,武汉宇熠已经陪伴各位光学同行走过武汉、北京、杭州、深圳、成都、西安等地,完成了百余期线上线下课程和研讨会,培养了来自全国各地近2000名学员。 武汉宇熠具备完善的教学体系、良好的口碑和众多光机电学习资料,也拥有经验丰富的光学工程师团队,老师全程线下授课、教学内容通俗易懂,能解决学员现有的项目问题。 武汉宇熠为学员提供专业的培训教室,始终围绕“实操演练”,旨在让学员能在实际上手操作中发现问题,解决问题,突破传统成长方式,快速获得光机电技术提升。 01培训介绍 由于很多客户反馈错过了上次的线下培训,武汉宇熠将在4月24日-26日举办为期3天的成像设计培训活动! 本次培训主题为『Ansys Zemax 成像设计』,由宇熠高级光学工程师主讲,针对序列成像设计,帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。线下培训学习效率更高、更丰富、更精准,可直接与老师面对面交流提问,当场解决记忆深刻。 注意 1、统一发送配套的培训教材。 2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 3、为提高培训效率,本次培训采用小班授课模式。培训名额有限,欲报从速。 4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。 02 培训费用 费用:¥ 3980元 / 人 · 三人及以上组团报名可享受八折优惠; · 费用含培训、教材、发 票和证书,其他费用自理; · 发票统一开“培训服务费”。 报名方式:扫码报名 分享到:
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