[求助]低温TI3O5  SIO2。RF辅助镀膜。膜强度差。什么原因造成？ [复制链接]

成膜后破坏镀膜表层，用擦拭液擦拭膜层延展性比较大

这个Ti3O5成膜温度一般不能太低吧，建议150℃以上，低温成膜牢固度与吸收均不够理想，如果想低温成膜，高折射率材料用Ta2O5可能更好一些 &,4 3&pFU  

主要SIO2打底层，掉膜也是掉到了基板

离子源&充氧&电子枪速率方面看下

建议测一下温度

基片是否干净，扩散泵是否返油，第一层速率及离子源参数  UE-+P  

1，注意一下清洗，必要手擦几片做比较。 mfI>1W(  
2，镀膜前用离子源清洗，用质量大的Ar，多打一阵子。 7a<-}>sU  
3，基板如果是玻璃就加到150度以上， 5i$iUDuT>(  
如果是塑胶，用卤素灯加热（不要用加热丝） Pf4b/w/  
^e1Ux  
其他的上面的都讲过了，其实工艺参数很重要。 (9_O||ee  
如果是塑胶片，加热很重要

请教一下为什么加热不能用加热丝，光驰机里好像没有卤素灯

jimmy_:请教一下为什么加热不能用加热丝，光驰机里好像没有卤素灯 (2024-02-19 17:21)  "~|;XoMU  

r) SG!;X  
因为塑胶片导热不行。 
\uUd *  
加热丝最初加热的是片子背面，热量靠传导再到镀膜面， VxKD>:3c  
一个是升温慢，一个是均匀性差。 x&N!SU6  
而卤素灯照射的是镀膜面，升温会比较快，而且温度的均匀度也好。
6~rO(  
加热快的，吸收的水气出来的也多