[求助]低温TI3O5  SIO2。RF辅助镀膜。膜强度差。什么原因造成？ [复制链接]

成膜后破坏镀膜表层，用擦拭液擦拭膜层延展性比较大

这个Ti3O5成膜温度一般不能太低吧，建议150℃以上，低温成膜牢固度与吸收均不够理想，如果想低温成膜，高折射率材料用Ta2O5可能更好一些 {,C8}8a W  

主要SIO2打底层，掉膜也是掉到了基板

离子源&充氧&电子枪速率方面看下

建议测一下温度

基片是否干净，扩散泵是否返油，第一层速率及离子源参数 VgTI2  

1，注意一下清洗，必要手擦几片做比较。 W&f Py%g  
2，镀膜前用离子源清洗，用质量大的Ar，多打一阵子。 .ehvhMuG|  
3，基板如果是玻璃就加到150度以上， o(N
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如果是塑胶，用卤素灯加热（不要用加热丝） ?s} E<Kr  
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其他的上面的都讲过了，其实工艺参数很重要。 @W- f{V  
如果是塑胶片，加热很重要

请教一下为什么加热不能用加热丝，光驰机里好像没有卤素灯

jimmy_:请教一下为什么加热不能用加热丝，光驰机里好像没有卤素灯 (2024-02-19 17:21)  -~ Q3T9+  

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因为塑胶片导热不行。 1bs95Fh9Q  
加热丝最初加热的是片子背面，热量靠传导再到镀膜面， <sOB j'  
一个是升温慢，一个是均匀性差。 '8 #*U  
而卤素灯照射的是镀膜面，升温会比较快，而且温度的均匀度也好。 k"zHrn"$  
加热快的，吸收的水气出来的也多