1.建模任务 crd|2bjp+
g\o{}Q%X 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。 ,u}<Ws8N 设计包括两个步骤: 5S%C~iB - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 h
L]8e>a? - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 |66m` < 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。 [,O`MU (0E U3w?] #
0GGc. 照明光束参数 L$1K7<i.
2{t)DUs
[d4,gEx`Q\
波长:632.8nm 50LHF%
激光光束直径(1/e2):700um ,`<^F:xl
+_qh)HX 理想输出场参数 T8$%9&j!UE oGm1d{_-O m|]j'g?{}( &/](HLdF
直径:1° $gVLk.
分辨率:≤0.03° \!^i;1h0c3
效率:>70% g4N%PV8
杂散光:<20% Ia=_78MgZ
?"{QK:` 2. 设计相位函数 },DyU Z)mX,=p
P*pbwV#|
相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp m@ i2#
设计没有离散相位级的phase-only传输。 )xB$LJM8
LZ~2=Y<
U( 3.计算折射率调制 nVxq72o@ `Kh]x9Z .Y!;xB/ 4|nQ=bIau
最大折射率调制 }0QN[$H!
△n=+0.05 4,2(nYF
如果是GRIN层,那么厚度:12.656um CN7k?JO<
折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。 !w q4EV
为得到细节请参见教程Tut565。 RCI4~q
优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 |~SE"
R6`*4zS 4.模拟结果 np\st7&f6 ?*[\UC 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
\e<mSR 5.结论 k, f)2< VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 9b1?W?" 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。 cVp[ Z#B 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 7_DG 5nT