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"e ;wN3/bF 内容简介 C@F3iwTtp Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^U;r>[T9h 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 IKs2.sj"o 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 #cCR\$-~ CqAv^n7 } 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 h*lU&8)m\ 目录 i
w(4!,4~ Preface 1 $`'%1;y@ 内容简介 2 p E56CM 目录 i sry`EkS 1 引言 1 ~IQ 2;A 2 光学薄膜基础 2 oMV^W^< 2.1 一般规则 2 eb*w$|y6" 2.2 正交入射规则 3 <&m
`)FJ 2.3 斜入射规则 6 x6iT"\MO 2.4 精确计算 7 _ry7[/) 2.5 相干性 8 Su>UXuNdE# 2.6 参考文献 10 d{FD.eI0 3 Essential Macleod的快速预览 10 -;s-*$I 4 Essential Macleod的特点 32 U/j+\Kc~ 4.1 容量和局限性 33 ;)rs#T;$ 4.2 程序在哪里? 33 F#>^S9Gml 4.3 数据文件 35
JQO%-=t 4.4 设计规则 35 :G/.h[\R| 4.5 材料数据库和资料库 37 ,0fYB*jk 4.5.1材料损失 38 ^(.utO 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Ks/Uyu. X 4.5.2 材料库 41
1k39KO@ 4.5.3导出材料数据 43 8 aC]" C 4.6 常用单位 43 l
]CnLqf& 4.7 插值和外推法 46 Fq`wx 4.8 材料数据的平滑 50 zKf.jpF^ 4.9 更多光学常数模型 54 iTpK:pX 4.10 文档的一般编辑规则 55 \+I+Lrj% 4.11 撤销和重做 56 ?5Ub&{ 4.12 设计文档 57 >&DNxw 4.10.1 公式 58 67b[T~92o 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ZNjqH[ 4.10.3 沉积密度 59 f%ynod8 4.10.4 平行和楔形介质 60 ufc_m4PN 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 M\w%c5 4.10.4 性能 61 ?6>rQ6tBv 4.10.5 保存设计和性能 64 =k|hH~ 4.10.6 默认设计 64 .=% ,DT" 4.11 图表 64 :d`8:gv? 4.11.1 合并曲线图 67 d\{a&\v 4.11.2 自适应绘制 68 +f]\>{o4 4.11.3 动态绘图 68 h8-'I=~ 4.11.4 3D绘图 69 0ofl,mXW 4.12 导入和导出 73 |@lVFEl] 4.12.1 剪贴板 73 \[ 5mBuk 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 j[q$;uSD 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 !tr
/$ 4.13 背景 77
)9mUE*[ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 AfOq?V 4.15 生成Rugate 84 O,A}p:Pgs 4.16 参考文献 91 }y P98N5o 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 sXmo.{Ayb 5.1 Jobs 92 'h~I#S4! 5.2 创建一个新Job(工作) 93 /*2sg>e'QF 5.3 输入材料 94 3V2w1CERE 5.4 设计数据文件夹 95 u,Rhm-` 5.5 默认设计 95 e) x;3r"j 6 细化和合成 97 ;rJ 6.1 优化介绍 97 D |BP]j}6 6.2 细化 (Refinement) 98 }5qjGD 6.3 合成 (Synthesis) 100 },'Ij;
%%Q 6.4 目标和评价函数 101 twA2U7F 6.4.1 目标输入 102 q*kieqG 6.4.2 目标 103 {Vj25Gt 6.4.3 特殊的评价函数 104 t1h2ibO 6.5 层锁定和连接 104 <1EmQ)B 6.6 细化技术 104 O&c~7tM% 6.6.1 单纯形 105 6"UL+$k 6.6.1.1 单纯形参数 106 5NECb4FG 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $}/Q%r 6.6.2.1 Optimac参数 108 GOeYw[Vh 6.6.3 模拟退火算法 109 dPfDPb 6.6.3.1 模拟退火参数 109 [
queXDn"m 6.6.4 共轭梯度 111 t <Z)D0. 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 e2xqKG 6.6.5 拟牛顿法 112 !agtgS$qII 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 F< #!83*% 6.6.6 针合成 113 4{1.[##]o 6.6.6.1 针合成参数 114 x#
&ZGFr~ 6.6.7 差分进化 114 al3[Ph5G 6.6.8非局部细化 115 +^6v%z 6.6.8.1非局部细化参数 115 8(Y=MW;g 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ,B<Tt|' 6.7.1 细化 116 ZdJer6:Z} 6.7.2 合成 117 G?OwhX 6.8 参考文献 117 `*1059 7 导纳图及其他工具 118 G3G"SJ np 7.1 简介 118 !"Q8KV 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 [Bz'c1 7.2.1 四分之一波长规则 119 u+RdC;_ 7.2.2 导纳图 120 7v~\c%1V 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 =k(~PB^> 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 1jhGshhp 7.5 斜入射导纳图 141 #VwA?$4g` 7.6 对称周期 141 2Rp'ju~O)/ 7.7 参考文献 142 |5}~n"R5 8 典型的镀膜实例 143 4IIXzMOa 8.1 单层抗反射薄膜 145 3GS oHsNk 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 U/JeEI%L 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 uW,L< |