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2c Xae 内容简介 mP^ B2"|q Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 8#QT[H
4F 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 J`5VE$2M 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Vg$d|m${ E3wpC#[Q1 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 >v,X:B?+FL 目录 +`F(wk["m Preface 1 "r6qFxY 内容简介 2 1sXCu|\q 目录 i U.TZd" 1 引言 1 :cA P{rSe 2 光学薄膜基础 2 `he# !" 2.1 一般规则 2 O8Mypv/C 2.2 正交入射规则 3 D*.3]3-I 2.3 斜入射规则 6 Ny"9!3V 2.4 精确计算 7 Sj ovL@X 2.5 相干性 8 ho>@ $9 2.6 参考文献 10 /o4_rzR? 3 Essential Macleod的快速预览 10 n~0wq(8M 4 Essential Macleod的特点 32 `*U@d%a 4.1 容量和局限性 33 gNr4oOR{ 4.2 程序在哪里? 33 6@|!m ' 4.3 数据文件 35 i7dDklj4 4.4 设计规则 35 ](oeMl18R 4.5 材料数据库和资料库 37 M.H!dZ 4.5.1材料损失 38 GIlaJ!/ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 A6szTX#0 4.5.2 材料库 41 Hl$qmq 4.5.3导出材料数据 43 4s
m [y8 4.6 常用单位 43 lz=DGm
4.7 插值和外推法 46 Dml?.-Uv< 4.8 材料数据的平滑 50 Rc)]A&J 4.9 更多光学常数模型 54 b#7nt ?`7p 4.10 文档的一般编辑规则 55 0faf4LzU! 4.11 撤销和重做 56 5^uX!_r` 4.12 设计文档 57 K14.!m 4.10.1 公式 58 zDYJe_m ~ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 `_yksh3zL4 4.10.3 沉积密度 59 k8E2?kbF 4.10.4 平行和楔形介质 60 OC5oxL2HTe 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 !o|
ex+z; 4.10.4 性能 61 +!@xH]; 4.10.5 保存设计和性能 64 -AnJLFY 4.10.6 默认设计 64 4 4QW&qL!( 4.11 图表 64 d)48m}[: 4.11.1 合并曲线图 67 >%"TrAt 4.11.2 自适应绘制 68 0uKm)t/ 4.11.3 动态绘图 68 i8<5|du&? 4.11.4 3D绘图 69 <c@dE 4.12 导入和导出 73 uEPm[oyX 4.12.1 剪贴板 73 fe4/[S{a 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 W[QgddR 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 MeD/)T{ G~ 4.13 背景 77 nkq{_;xp 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?z`yNx6 4.15 生成Rugate 84 -0(+a$P7e 4.16 参考文献 91 '1!%yKc0 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 mmFcch$Jv 5.1 Jobs 92 Iv7BIK^0 5.2 创建一个新Job(工作) 93 bIt{kzuQC 5.3 输入材料 94 f[zKA{R 5.4 设计数据文件夹 95 k5&}bj- 5.5 默认设计 95 \ bNDeA&l 6 细化和合成 97 jhG6,;1zMI 6.1 优化介绍 97 t":^:i'M 6.2 细化 (Refinement) 98 \(Dm\7Q. 6.3 合成 (Synthesis) 100 #)D$\0ag 6.4 目标和评价函数 101 S@\&^1;4Hv 6.4.1 目标输入 102 :^7_E& 6.4.2 目标 103 ]$K5 8C 6.4.3 特殊的评价函数 104 5'Mw{` 6.5 层锁定和连接 104 F[ ^ p~u{ 6.6 细化技术 104 #;2mP6a[ 6.6.1 单纯形 105 )$Fw<;4 6.6.1.1 单纯形参数 106 YbVZK4 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 w#(E+s~} 6.6.2.1 Optimac参数 108 99h#M3@! 6.6.3 模拟退火算法 109 #!z'R20PH 6.6.3.1 模拟退火参数 109 N}bZdE9F 6.6.4 共轭梯度 111 IxG0TJ_
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Ejf>QIB 6.6.5 拟牛顿法 112 |b
Z
58{} 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 F8m@mh*8> 6.6.6 针合成 113 c1%ki%J# 6.6.6.1 针合成参数 114 "(F:'J} X 6.6.7 差分进化 114 USf;}F:-C 6.6.8非局部细化 115 TGPdi5Eq 6.6.8.1非局部细化参数 115 0J )VEMC 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Se/]J<] 6.7.1 细化 116 &)Wm rF 6.7.2 合成 117 5tbi}; 6.8 参考文献 117 'vIVsv<p 7 导纳图及其他工具 118 >GDN~'}^oz 7.1 简介 118 "'8o8g 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 +DT)7koA 7.2.1 四分之一波长规则 119 Wm58[;%LTw 7.2.2 导纳图 120 5o~AUo{ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 .Wyx#9 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 \4q1<j 7.5 斜入射导纳图 141 =uR[Jewa 7.6 对称周期 141 Jxb+NPUB 7.7 参考文献 142 +>h'^/rAE 8 典型的镀膜实例 143 [VB\T|$ 8.1 单层抗反射薄膜 145 WAw} ?&k 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 `WU"*HqW 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 b|h`v 8.4 W-膜层 148 bDcWPwe 8.5 V-膜层 149 FJ&?My,=J 8.6 V-膜层高折射基底 150 ErMA$UkJ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 c;7ekj 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 W^nG\"T^ 8.9 四层抗反射薄膜 153 Y1FP |
8.10 Reichert抗反射薄膜 154 8J7<7Sx 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 0SLn0vD! 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Oz,/y3_ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 UD r@ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Q_R&+@ju 8.15十五层宽带抗反射膜 159 [.iz<Yh 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 2:S
4M.j 8.17 1/4波长堆栈 162 n47v5.Wn 8.18 陷波滤波器 163 ;lo!o9`< 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ?To r)>A' 8.20 褶皱 165 6cOm 8# 8.21 消偏振分光器1 169 l7JY`x 8.22 消偏振分光器2 171 Y_& |