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(0bXsfe 内容简介 ltG|#( Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 >U[YSsFt6 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 [c#?@S_ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Vb8{OD3PK =doOt 7Rj 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 si>gYO 目录 P}bw Ej Preface 1 &<S]=\ 内容简介 2 cP (is! 目录 i G[[<-[C]5 1 引言 1 Z "g6z#L& 2 光学薄膜基础 2 Eg|C 2.1 一般规则 2 7e`h,e= 2.2 正交入射规则 3 \jThbCb 2.3 斜入射规则 6 t_ZWd#x+; 2.4 精确计算 7 I=Xj;\b 2.5 相干性 8 c ,RY
j 2.6 参考文献 10 ,O]AB 3 Essential Macleod的快速预览 10 9Kd:7@U 4 Essential Macleod的特点 32 7`Bwo*Y 4.1 容量和局限性 33 Y]Y]"y$1 4.2 程序在哪里? 33 E'4dI: 4.3 数据文件 35 naB`@ 4.4 设计规则 35 nvnJVkL9s 4.5 材料数据库和资料库 37 h|t\rV^ 4.5.1材料损失 38 0I@Cx{$ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 U/I+A|S[ 4.5.2 材料库 41 VyL|d^'f_ 4.5.3导出材料数据 43 uA2-&smw 4.6 常用单位 43 9,zM.g9Qv 4.7 插值和外推法 46 w_eUU)z 4.8 材料数据的平滑 50 K~JXP5`( 4.9 更多光学常数模型 54 ]w[T_4l 4.10 文档的一般编辑规则 55 ``4lomz> 4.11 撤销和重做 56 '+{dr\nJ 4.12 设计文档 57 :},/D*v 4.10.1 公式 58 +O,h<*y 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 k_<8SG+` 4.10.3 沉积密度 59 ^ M4-O~ 4.10.4 平行和楔形介质 60 jL[
hB 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 az2CFd^M 4.10.4 性能 61 #Qp.O@e 4.10.5 保存设计和性能 64 JKsdPW<? 4.10.6 默认设计 64 w+0Ch1$ 4.11 图表 64 Z/ypWoV( 4.11.1 合并曲线图 67 )tV^)n[w 4.11.2 自适应绘制 68 nE)|6
4.11.3 动态绘图 68 }@V,v[&e 4.11.4 3D绘图 69 %aszZP 4.12 导入和导出 73 ;|Ja|@82 4.12.1 剪贴板 73 <C'S#5,2 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 F^]?'`7md 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 CXsi 4.13 背景 77 d">Ya !W 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 -~HlME*~f 4.15 生成Rugate 84 d[9NNm*htC 4.16 参考文献 91 o\luE{H
.? 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 -e{H 8ro 5.1 Jobs 92 Z0~}'K 5.2 创建一个新Job(工作) 93 RhJL`>W` 5.3 输入材料 94 +(3PY e\ 5.4 设计数据文件夹 95 ^w<:UE2a! 5.5 默认设计 95 C3 %, pDh 6 细化和合成 97 bz~-uHC 6.1 优化介绍 97 L#e|t0'# 6.2 细化 (Refinement) 98 e;=G|E 6.3 合成 (Synthesis) 100 r[$Qtj Q 6.4 目标和评价函数 101 #oYX0wvl 6.4.1 目标输入 102 |jV4]7Luq 6.4.2 目标 103 55oLj.l^j 6.4.3 特殊的评价函数 104 ZUyM:$ 6.5 层锁定和连接 104 U6=m4]~Z 6.6 细化技术 104 ftq~AF 6.6.1 单纯形 105 [,5clR=F 6.6.1.1 单纯形参数 106 r/Pg,si 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 su=.4JcK 6.6.2.1 Optimac参数 108 xiRTp:> 6.6.3 模拟退火算法 109 aG|)k, 6.6.3.1 模拟退火参数 109 $zCUQthL@ 6.6.4 共轭梯度 111 y&__2t^u 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 }qz58]fyx 6.6.5 拟牛顿法 112 ]Ly)%a32 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 '~ ]b;nA 6.6.6 针合成 113 l:@.D|(o3 6.6.6.1 针合成参数 114 *pasI.2s# 6.6.7 差分进化 114 N7#GK]n%/} 6.6.8非局部细化 115 P6=|C;[ 6.6.8.1非局部细化参数 115 r9vC&pWZ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 5?vIkf 6.7.1 细化 116 .Yu,&HR 6.7.2 合成 117 K->p&6s 6.8 参考文献 117 orU4{.e 7 导纳图及其他工具 118 V
u!,tpa. 7.1 简介 118 L:^'cl}
G 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 d#z67Nl6 7.2.1 四分之一波长规则 119 2C8M1^0:Z 7.2.2 导纳图 120 etDB|(,z 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 lp]O8^][& 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 nEn2!)$ 7.5 斜入射导纳图 141 L]tyL) 7.6 对称周期 141 {jq-dL 7.7 参考文献 142 Q%>,5(_V] 8 典型的镀膜实例 143 7xd}J(l 8.1 单层抗反射薄膜 145
:D/R 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 [,e_2< 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 IWQ8e$N 8.4 W-膜层 148 L`p[Dq. 8.5 V-膜层 149 P~*fZ)\}F@ 8.6 V-膜层高折射基底 150 e'?(`yW> 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 RcE%?2lD 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 l%:_#1?isf 8.9 四层抗反射薄膜 153 b13>>'BMB 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 K4tX4U[Z 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 c*W$wr 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 _1Eyqh`oh 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 %SE g(< |