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,{KjVv< 内容简介 $
N7J:Q Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 w_*UFLMSqR 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 MV+S.`R 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 muD7+rn?& |?a 4Nl?
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 E`^?2dv+/ 目录 R^nkcLFb/q Preface 1 e3|@H'~k 内容简介 2 ZO^Y9\L 目录 i &n|S:"B 1 引言 1 uude<d"U 2 光学薄膜基础 2 f,e7;u z% 2.1 一般规则 2 S6J7^'h 2.2 正交入射规则 3 +`@)87O 2.3 斜入射规则 6 LTSoo.dE 2.4 精确计算 7 5LPyPL L 2.5 相干性 8 N*dO'ol 2.6 参考文献 10 ;OE= ;\ 3 Essential Macleod的快速预览 10 ,$lOQ7R1( 4 Essential Macleod的特点 32 |VY+! 4.1 容量和局限性 33 wUd6xR 4.2 程序在哪里? 33 L} >XH* 4.3 数据文件 35 \P3[_kbf1 4.4 设计规则 35 Wq4>!| 4.5 材料数据库和资料库 37 Ym)8L. 4.5.1材料损失 38 w]BZgF. 4.5.1材料数据库和导入材料 39 wEMh !jAbv 4.5.2 材料库 41 ) \iOwA 4.5.3导出材料数据 43 @kq~q;F 4.6 常用单位 43 g?(h{r` 4.7 插值和外推法 46 \~3g*V 4.8 材料数据的平滑 50 3Pb]Of# 4.9 更多光学常数模型 54 (A6-9g> 4.10 文档的一般编辑规则 55 yAge2m]<B 4.11 撤销和重做 56 =h`yc$
A(2 4.12 设计文档 57 j'z}m+_? 4.10.1 公式 58 D"5u N0Z 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ]yTMWIx# 4.10.3 沉积密度 59 D~KEjz!bQ 4.10.4 平行和楔形介质 60 HJ&|&tT 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 9M$=X- 4.10.4 性能 61 NAy3Zd} 4.10.5 保存设计和性能 64 :d&^//9 4.10.6 默认设计 64 B&tU~ 4.11 图表 64 0a#2 Lo 4.11.1 合并曲线图 67 t-xw=&!w 4.11.2 自适应绘制 68 hkSK; 4.11.3 动态绘图 68 *?k~n9n5U 4.11.4 3D绘图 69 ^,Paih
2 4.12 导入和导出 73 ?A[q/n:K 4.12.1 剪贴板 73 S 1%/ee3 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 S{v [65 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 i.0}d5Y 4.13 背景 77 N8<Wm>GLX~ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 sC8C><y
4.15 生成Rugate 84 I?).D?o 4.16 参考文献 91 ^Fy{Q*p`( 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 kc0YWW Q-: 5.1 Jobs 92 MjO.s+I 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Vb=Oz 5.3 输入材料 94 0?D`|x_ 5.4 设计数据文件夹 95 [V\0P,l 5.5 默认设计 95 l8" 6 细化和合成 97 <f
l-P 6.1 优化介绍 97 ebbC`eFD 6.2 细化 (Refinement) 98 a88(,:t 6.3 合成 (Synthesis) 100 -ejH%CT 6.4 目标和评价函数 101 hFDY2Cp]D 6.4.1 目标输入 102 63ig!-9F 6.4.2 目标 103 {X=gjQ9 6.4.3 特殊的评价函数 104 "V|1w>s 6.5 层锁定和连接 104 [LwmzmV+F 6.6 细化技术 104 IF<?TYy=3B 6.6.1 单纯形 105 xt! DS0|*Y 6.6.1.1 单纯形参数 106 *vx!twu1o 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 8vhg{L.. 6.6.2.1 Optimac参数 108 TFX*kk&R 6.6.3 模拟退火算法 109 ])dq4\Bw 6.6.3.1 模拟退火参数 109 99'e)[\ 6.6.4 共轭梯度 111 gm**9]k ^{ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 N:#"4e 6.6.5 拟牛顿法 112 80X #V 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 !n<vN@V*3d 6.6.6 针合成 113 '\I.P 6.6.6.1 针合成参数 114 [B}$U|V0 6.6.7 差分进化 114 :G&tM
6.6.8非局部细化 115 6
ufF34tA 6.6.8.1非局部细化参数 115 LY}9$1G] 6.7 我应该使用哪种技术? 116 `0@onDQVc= 6.7.1 细化 116 7$ vs X 6.7.2 合成 117 o%ZtE 6.8 参考文献 117 }Y/uU"t 7 导纳图及其他工具 118 A}(&At%n4 7.1 简介 118 &E0d{2 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Cr?|bDv}o 7.2.1 四分之一波长规则 119 mnKSO 7.2.2 导纳图 120 +{Qk9Z 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )aW;w |#n 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 0dv# [ 7.5 斜入射导纳图 141 PU0Ha 7.6 对称周期 141 +,` Cv_O 7.7 参考文献 142 ]8)nIT^EP 8 典型的镀膜实例 143 V%F^6ds$]0 8.1 单层抗反射薄膜 145 o!q3+Pp;} 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 _9%R
U" 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 3b1;f)t 8.4 W-膜层 148 F iZe4{(p 8.5 V-膜层 149 Qh4@Nl#Ncf 8.6 V-膜层高折射基底 150 R`? '|G]P 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 fi5x0El
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 D%L}vugxK 8.9 四层抗反射薄膜 153 ('H[[YODh 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 jV83%%e 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 HAq 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 'CE3
|x\%K 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 f+#^Lngo 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 `Sh#>
Jp 8.15十五层宽带抗反射膜 159 1SddZ5 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 T%GdvtmS> 8.17 1/4波长堆栈 162 vM_UF{a$= 8.18 陷波滤波器 163 FsZW, 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ya[][!.G 8.20 褶皱 165 V6opV& 8.21 消偏振分光器1 169 } 0su[gy[ 8.22 消偏振分光器2 171 El3Y1g3+3 8.23 消偏振立体分光器 172 & |