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t=l@(%O 0_ 内容简介 NL^;C3u Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 1U)U {i7j 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 S_eD1iY2- 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 SEKR`2Zz, 8SZZ_tS3r 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ^;8dl.; 目录 $?Km3N\?v Preface 1 7MbV|gM} 内容简介 2 ,=a+;D]' 目录 i a!@(bb
z> 1 引言 1 tDC?St1 2 光学薄膜基础 2 D6I-:{ws 2.1 一般规则 2 ,kQCCn] 2.2 正交入射规则 3 yac4\%ze 2.3 斜入射规则 6 p=XEMVqm 2.4 精确计算 7 c9ye[81 2.5 相干性 8 "F[e~S#V* 2.6 参考文献 10 @
^q}.u` 3 Essential Macleod的快速预览 10 E8/Pi>QW 4 Essential Macleod的特点 32 m2a[E0 4.1 容量和局限性 33 XQ'$J_hC 4.2 程序在哪里? 33 ~0@uR 4.3 数据文件 35 {^@vCBE+ 4.4 设计规则 35 )H1\4LeP 4.5 材料数据库和资料库 37 l5T0x=y9! 4.5.1材料损失 38 " k0gZb 4.5.1材料数据库和导入材料 39 #Zg pm"MW 4.5.2 材料库 41 r1&eA% eh 4.5.3导出材料数据 43 Qef5eih 4.6 常用单位 43 g#iRkz%l)& 4.7 插值和外推法 46 h.pVIO` 4.8 材料数据的平滑 50 u0Bz]Ux/Q 4.9 更多光学常数模型 54 6fm oIK{ 4.10 文档的一般编辑规则 55 :@b=; 4.11 撤销和重做 56 h1~/zM/` 4.12 设计文档 57 a9uMgx} 4.10.1 公式 58 {zI>"%$u 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 N0pA ,& 4.10.3 沉积密度 59 %oOSmt 4.10.4 平行和楔形介质 60 84_Y+_9 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 W5uC5C*,l 4.10.4 性能 61 hg7_ZjO 4.10.5 保存设计和性能 64 yJ:rry 4.10.6 默认设计 64 v=_Ds<6n 4.11 图表 64 "sSY[6Kp! 4.11.1 合并曲线图 67 vkLKzsN' ] 4.11.2 自适应绘制 68 V
7oE\cxr 4.11.3 动态绘图 68 >l b9 j> 4.11.4 3D绘图 69 sis1Dh9: 4.12 导入和导出 73 *`40B6dEr 4.12.1 剪贴板 73 D4T42L 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 hZ|8mV 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 m f\tMik< 4.13 背景 77 k5|GN Y6a 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 qL?$u07<9' 4.15 生成Rugate 84 Cb6K!5[q] 4.16 参考文献 91 BZa`:ah~x 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 -bgj<4R$p 5.1 Jobs 92 V$_.&S?(Y 5.2 创建一个新Job(工作) 93 b
w! 5.3 输入材料 94 R].xT-1 5.4 设计数据文件夹 95 !ir%Pz^) 5.5 默认设计 95 ?jU 3%" 6 细化和合成 97 QuBA'4ht 6.1 优化介绍 97 #bS}?fj 6.2 细化 (Refinement) 98 _Qq lOc9 6.3 合成 (Synthesis) 100 SAU` u]E 6.4 目标和评价函数 101 dn&484 6.4.1 目标输入 102 k/M{2Po+ 6.4.2 目标 103 kZ0z]Y 6.4.3 特殊的评价函数 104 JkEITuTth 6.5 层锁定和连接 104 KP`Pzx 6.6 细化技术 104 B@ >t$jK 6.6.1 单纯形 105 VFK]{!C_ 6.6.1.1 单纯形参数 106 XaaR>HljJ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Z-L }"~ 6.6.2.1 Optimac参数 108 qN^]`M[ BY 6.6.3 模拟退火算法 109 yuhY )T 6.6.3.1 模拟退火参数 109 JF'<"" 6.6.4 共轭梯度 111 [M#(su0fv 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 gX`C76P! 6.6.5 拟牛顿法 112 s)+] pxV0- 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 }&]T0U`@ 6.6.6 针合成 113 7e[&hea 6.6.6.1 针合成参数 114 sT,*<^ 6.6.7 差分进化 114 <Wd_m?z 6.6.8非局部细化 115 (ylZ[M&B: 6.6.8.1非局部细化参数 115 ?weuq"*a 6.7 我应该使用哪种技术? 116 +1a2Un 6.7.1 细化 116 @W=:r/ 6.7.2 合成 117 8g?2( MT; 6.8 参考文献 117 _z\qtl~3 7 导纳图及其他工具 118 ;<=z^1X9 7.1 简介 118 OX}ZdM!&f 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 6A4{6B 7.2.1 四分之一波长规则 119 4O4}C#6(4 7.2.2 导纳图 120 u63Q<P< |