[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 oIQ$98M  
>vR2K^  
2G<XA  
$Yp.BE<}  
该用例展示了… |lk:(~DM  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： L4ct2|w}ul  
倾斜光栅介质 ;)SWwhQ  
体光栅介质 +md"X@k5*  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 vR>GE?s6  
o q6^  
h(GSM'v  
.XVL JJ#  
光栅工具箱初始化 JS
tEOQF4  
dc_2nF  
Gd'_X D  
 初始化 keG\-f  
开始-> xn@oNKD0  
光栅-> +WKN
&@  
通用光栅光路图 1 .[OS  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 i)Q d>(v  
光栅结构设置 VS!v7-_N5  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 9Zmq7a E  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ;g;1<? [  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 +F%tBUY{<  
\rO!lvX  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ori[[~OyB  
~=t9-AF-  
堆栈编辑器 a#x@e?GvI  
Ab:ah7!  
1)qD)E5&cf  
g[uf e<  
堆栈编辑器 ):nC%0V  
Y*O Bky  
IS`ADDU[S  
涂层倾斜光栅介质 =P_*.SgR  
U[OUIXUi  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ts("(zI1E  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 %o0H#7'  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 ${}9/(x/^  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） .u=|h3&  
3+ 2&9mm  
Iz;^D!  
DRTT3;,N  
涂层倾斜光栅介质 {*r!oD!'  
\3%3=:  
J!dv"Ww"  
A:(qF.Tm  
涂层倾斜光栅介质 I)0_0JXs  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 fY #Yn  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Q`4Ia<5B  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 NR-<2 e3  
O*B9Bah  
eN
M"
e-  
.3@Pz]\M#>  
涂层倾斜光栅介质参数 %qqeL  
hJw]hVYa  
@`Dh7Q  
3H4T*&9;n  
涂层倾斜光栅介质参数 "(kiMog-  
zwP*7u$CH  
<Lt"e8Z>x  
fA[T5<66  
高级选项&信息 4cJ/XgX  
 在传输菜单中，多个高级选项可用
o]&P0 b  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 C7}iwklcsa  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 HCe/!2Y/%  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 BQeg-M  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ~Ga{=OM??  
"?W8o[c+  
BO6XY90(  
Gl6:2  
高级选项&信息 9>vB,8  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 ?P#\CW  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 (Kg)cc[B`  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 A{T>Aac  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 oR7f3';?6  
npbf>n^R  
=4&"fZ"v  
sqjDh  
高级选项&信息 :O?3lj)  
A@4{-e\  
ed3wj3@  
w !<-e>  
高级选项&信息 HzuG- V  
O`N,aYo  
> %Hw008  
:Dtm+EQ  
体光栅介质 "d M-3o<  
 p1&=D%/  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 eu$"GbqY  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Mpk7$=hjc  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 fZJM'+J@A  
$"}
*#<Z  
n* .<L  
fi&>;0?7  
体光栅介质参数 !ZCxi  
|S]fs9  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 iV\*7  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 o$7UWKW8  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Bi"cWO  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） Fta=yH}  
+apn3\_  
kKDf%=  
f'qM?GlET  
体光栅介质参数 qNMYZ0,  
]~ S zb  
1Vz3N/AP%?  
lYr4gFOs  
高级选项&信息 J@IKXhb7_  
?[DVYP  
IEI&PRD  
cA| n*A-j<  
高级选项&信息 _=cuOo"!  
BE0Xg  
60D6UW  
9OlJC[  
在探测器位置处的备注 0j}@lOt(  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 ^(BE_<~  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 r $YEq5  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 "-G7eGQ  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） qK%#$Jgq
A  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 , 0?_? GO  
5B3sRF}  
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