[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 -H-U8/WC  
\`n(JV  
NdXHpq;  
 >G]JwO  
该用例展示了… 0@ `]m  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： `a83RX
_\  
倾斜光栅介质 yZleots1  
体光栅介质 |a(KVo  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 &tyS6S+  
jl,gqMn"V  
n ay\)  
p_gN}v  
光栅工具箱初始化 t7Q$  
7>Scf  
q7B5#kb  
 初始化 /Ew()>Y  
开始-> Fy=GU<&AI  
光栅-> F @PPhzZ  
通用光栅光路图 NQdwj>_a  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 */aY$aWv  
光栅结构设置 a"#t'\  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 <y
6`8J7:  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 bxXpw&  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边
Hg#tSE  
Y+-yIMt$r  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 UTA|Ps$  
vt EfH  
堆栈编辑器 JX59n%$@  
V3,C5KKk&z  
K; #FU  
7e<=(\(yl  
堆栈编辑器 Rk$7jZdTf  
j=0kxvp  
1[egCC\Mo_  
涂层倾斜光栅介质 ]cRvdUGv  
pH'Tx>  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 uYC^&siS<s  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 IFLphm
5  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 e,(Vy  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） }QE.|.fA1  
xQ9t1b|{e  
l6'KIg  
_H| )g*]t  
涂层倾斜光栅介质 d6i}xnmC  
6i/unwe!`)  
H1N@E}>|  
e~vO
 
涂层倾斜光栅介质 g@H<Q('fJ  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 jFQy[k-B  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 %Wtf24'o;v  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 zw<<st Bp  
>N^<Q4%2  
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OHWb&N6  
E~y8X9HZ)  
涂层倾斜光栅介质参数 igu1s}F  
qnP4wRpr  
<@J$hs9s  
g~<[;6&{  
涂层倾斜光栅介质参数 U]Q5};FK  
i4YskhT  
r\m{;Z#LJm  
< F5VJ  
高级选项&信息 ;D'm=uOl  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 P2'c{],3V  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 e N`+r  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 DgEdV4@p  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 AQ-PHv  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 [n9l[dN  
F=F84_+K  
imOIO[<;  
aZf/WiR2  
高级选项&信息 V lZ+x)E  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Od.@G~  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 W[jg+|  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 jdG'sITv  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 =p|IWn{P  
u^Cls!C  
gwB,*.z  
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:Q%S  
高级选项&信息 xxGm T.&  
yBK$2to~  
s:{[Y7\?  
zFOtOz`9H  
高级选项&信息 [Or1  
.BxI~d^  
gLMb,buqC  
Lginps[la  
体光栅介质 14&|(M  
J@_M%eN  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 :%sG'_d  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 g?v/u:v>W  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Km
x4bp4  
;)ay uS sQ  
{X?Aj >l  
/Ey%aA4v  
体光栅介质参数 ,{IDf  
uP4yJ/]  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 l_k:OZ  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 9ad`q+kY  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 kRggVRM  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 
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U/FysN_N!  
体光栅介质参数 ,'C*?mms  
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高级选项&信息 OGEe8Z9Jt  
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高级选项&信息 m p_7$#{l  
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"T[BSj?E  
Bor_(eL^
 
在探测器位置处的备注 +Zi+ /9Z(H  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 Sv=e|!3f[k  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 it{Jd\/hR  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 @|h9jx|  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） G9&2s%lu.e  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Sa)sDf1+`  
fAkfNH6  
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