[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 9=/4}!.  
<RbfW'<G  
7bRfkKD  
C?]eFKS."  
该用例展示了… ePIN<F;
I  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： |;t{L^  
倾斜光栅介质 #902x*Z'c"  
体光栅介质 L]"$dF  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 Ie=gI+2  
ahCwA}  
].aFdy  
:sLg$OF  
光栅工具箱初始化 m-;8O /  
,O-_Pv  
_/
cX!/"  
 初始化 u>agVB4\F  
开始-> M.Tp)ig\#  
光栅-> iQG]v[$  
通用光栅光路图 uy
sTyzx  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 #Z `Tk)u/  
光栅结构设置 f?eq-/UR  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 jOGiT|A  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 V51kX{S  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 0`p"7!r  
}U5$~,*p  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 $v
e$Sq  
s"w^E\>6  
堆栈编辑器 F`(;@LO  
On!+7is'  
0:4>rYBC  
n c~JAT#'  
堆栈编辑器 Otq1CD9  
KD+&5=Y  
*3@8,~_t
p  
涂层倾斜光栅介质 B1E:P`t  
T \- x3i  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 Lyn{Uag  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 hgE:2@  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 `U\l: ~]e  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） &?5)Jis:  
ya^8mp-  
%Ny1H/@Q1+  
Le bc@,  
涂层倾斜光栅介质 eX}aa0  
A:z  
%{:pBt:Z  
7 H:y=?X6  
涂层倾斜光栅介质 :7obxW1X  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 QLHEzEvf{/  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 c>3? T^=  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 J]S30&?  
~7g$TAe{  
p8YOow7)  
~dLbhjden  
涂层倾斜光栅介质参数 zzo93d  
,C0y3pL  
_zzNF93Bn  
\.sC{@5K  
涂层倾斜光栅介质参数 Lpkx$QZ  
`Eu,SvkFw  
3K/tB1  
JTBt=u{6^  
高级选项&信息 2DJg__("  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 KECW~e`  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ]F>#0Rdc  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 K
{@xZ)  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 FyPG5-  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 UhkL=+PD  
~[
og\QZX  
YPY,gR  
/0fsn_  
高级选项&信息 uW#s;1H.)  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 =ePX^J*M'  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 )flm3G2u  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 y3QS!3I  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 P7bb2"_9  
;8eGf'  
r#&JfAo  
1n7'\esC*  
高级选项&信息 5ZH3}B^L$  
@)[8m8paV  
P{_%p<:V  
~%M*@fm  
高级选项&信息 (aSuxl.Dq  
W ;+()vC  
o:3(J}  

XD0a :T)  
体光栅介质 +_bxza(ma{  
2  @T~VRy  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Fo;:GX,b  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Ty~z%=H  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 'wMvO{}$  
Zby3.=.e  
O`GF|  
IEP|j;~*  
体光栅介质参数 5jwv!L<n  
|s(Ih_Zn  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 UF }[%Sa  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 l Ib d9F  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制  &.s.g\  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） r7R.dD/.  
)s,tBU+N  
)S`[ gK  
&nI>`Q'  
体光栅介质参数 G%>[7]H  
PUZcb+%]h  
!.t D.(XP  
TBOg.y]  
高级选项&信息 =_N[mR^  
w4}Q6_0v  
N!wuBRWR  
}S?"mg&V  
高级选项&信息 xfI0P0+  
rWDD$4y  
|mRlP5  
^E8qI8s  
在探测器位置处的备注 f8N*[by  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 (U# Oj"  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ?nbu`K6T  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 Xy!NBh7I  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） yZ)9Hd  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 xf,A<j(o  
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