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    [技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-02-20
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 Nb2]}; O  
    @<5?q: 9.8  
    >z*2Og#1  
    o7N3:)  
    该用例展示了… I^pD=1Y]  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: J+3PUfg>@R  
    倾斜光栅介质 ] Ma2*E !p  
    体光栅介质  hfpSxL  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ITa8*Myj  
    K8{Ub  
    H]5%"(h  
    P%hi*0pwZ  
    光栅工具箱初始化 wXv\[z L`  
    2<jbNnj  
    _@[M0t}g_  
     初始化 ^zPa^lo-  
    开始-> (^-i[aJY  
    光栅-> / lh3.\|  
    通用光栅光路图 PT7L65  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 c0v;r4Jo#j  
    光栅结构设置 JHpaDy*  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 &CCp@" +  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 q| p6UL9  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 yDBS : \  
    -EV_=a8[y  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 jX5lwP Q|F  
    @G  0k+  
    堆栈编辑器 xy>~ 15  
    sfSM7f  
    ]2kgG*^n"  
    bKsl'3~ k  
    堆栈编辑器 ^&iUC&8W  
    : E `N0UA  
    <^?64  
    涂层倾斜光栅介质 l?:!G7ie  
    Fw!CssW  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 (J(JB}[X,  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 V QE *B  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 >'3J. FY  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) ]K'iCYY  
    *i#m5f}  
    L M  
    wehZ7eqm  
    涂层倾斜光栅介质 ^v. ~FFK  
    #gbJ$1s  
    f6x}M9xS%  
    p!<Y 'G  
    涂层倾斜光栅介质 kIS_ 6!  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 ,"!t[4p=f  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 |,c\R"8xS  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ?9#}p  
    B`,4M&  
    w8M,35b  
    c`w YQUg(  
    涂层倾斜光栅介质参数 *C*n( the  
    {e4`D1B  
    $i&u\iL  
    %k(V 2]WF  
    涂层倾斜光栅介质参数 JiL%1y9|  
    D~W1["[  
    >gqM|-uY  
    U5 ~L^  
    高级选项&信息 ^nn3;  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 ,B ]kX/W  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Z6%Hhk[  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 rJ)O(  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 m'&^\7;D  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 [5$=G@ zf  
    ]F[ V6`H  
    2aiZ  
    {U?UM  
    高级选项&信息 GmoY~}cg~  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 p3Uus''V4  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 uXPvl5(Y?  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 ,zmGKn#n2  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 m{itMZ@  
    T\\Q!pY  
    ni$7)YcF  
    ,&$w*D%  
    高级选项&信息 S'"(zc3 =  
    7XLz Ewa  
    5yO %|)  
    QF 2Eg  
    高级选项&信息 sr(f9Vl  
    |pB[g> ~V  
    ,<]X0;~oB  
    |ho|Kl `=  
    体光栅介质 ao>`[-  
    K1c@]]y)  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 <a_Q1 l  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 f(Jz*el S  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 Y/Yp+W6n  
    z Qtg]@S  
    G  @ib  
    p7y8/m\6  
    体光栅介质参数 'LY.7cW  
    tm27J8wPzV  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案  ?Y4$  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 RM2<%$  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 @?,iy?BSG  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) "_Wv,CYmNr  
    XBi}hT  
    '{9nQ DgT  
    4f+R}Ee7  
    体光栅介质参数 9Tbi_6[  
    \ UCOe  
    6{/HNEI*1  
    -ZXC^zt  
    高级选项&信息 /$v0Rq9  
    5AV5`<r.  
    <C0~7]XO  
    ~Xa8\>  
    高级选项&信息 I8=p_Ie  
    EN^C'n  
    $J8?!Xg  
    MpZ #  
    在探测器位置处的备注 ^^MVd@,i  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 [0v`E5  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 :sD/IM",},  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 lFMQT ;  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) ,[6N64fy  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 7VWq8FH`  
    |y+<|fb,a  
    $6~ J#;  
     
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