[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 4 9N.P;b  
;ZUj2WxE  
N<i5X.X  
d^A]]Xg  
该用例展示了… 4*qBu}(  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 0Qa0  
倾斜光栅介质 \4wMv[;7  
体光栅介质 F8Ety^9>9  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 -B#1+rUW  
tgKr*8t{  
.fJ8  
zQulPU  
光栅工具箱初始化 f2x!cL|Kx?  
3
bWGWI  
pi"M*$  
 初始化 )9"^ D  
开始-> YA$YT8iMe  
光栅-> w"?Q0bhV9y  
通用光栅光路图 Ur#jJR@%3  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图  j5/pVXO  
光栅结构设置 #epbc K  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 
':pDlUA  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ,Tr&`2w  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 w{aGH/LN  
QUW`Yc  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 } doAeTZ  
*|Vf1R]  
堆栈编辑器 Uo >aQk  
_aevaWtEx  
3S3(Gl  
x3cjyu<K  
堆栈编辑器 ~'lT8 n_  
syBpF:`-W  
C33Jzn's  
涂层倾斜光栅介质 Uap0O2n  
?@4Mt2Z\  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 :Q DkaA  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 J[:#(c&c!1  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 XiTi3vCe  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） zN!W_2W*  
Hi={(Z5tC4  
LHA^uuBN}  
d.+  
涂层倾斜光栅介质 B1_9l3RM  
x t-s"
A  
`15}jTi  
#ae?#?/"  
涂层倾斜光栅介质 [T_[QU:A  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 d]e36Dwk  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 39 }e }W"  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ;SU<T^a  
IW
!x!~e  
s 1M-(d Q  
Y^Buz<OiG  
涂层倾斜光栅介质参数 T+Re1sPr?  
.zZfP+Q]8  
E~}H,*)  
Y9X,2L7V  
涂层倾斜光栅介质参数 m+'1c}n^7  
o4p5`jOG@  
[Ix6ArY  
XA#qBxp/h  
高级选项&信息 Wd7*7']  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 L;opQ~g  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 LmJjO:W}^y  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 4ct-K)Ris  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 .\oW@2,RA9  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 <~uzHg%Y  
u W,J5!  
d[l8qaD  
D Z*c.|W  
高级选项&信息 mh"PAp  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 #9TL5-1y  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 (nLzWvN  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 Fxa{ 9
'99  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 D,.`mX  
}Y7P2W+4?  
E'{:HX  
{D8opepO)  
高级选项&信息 t8RtJ2;  
<7`k[~)VB  
%R4 \[e  
!QVhP+l'H  
高级选项&信息 EgG3XhfS  
$MDmY4\  
w%`S>+kX&  
/F.<Gz;w  
体光栅介质 -sv%A7i  
,$t1LV;o=  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 392(N(  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 2gK]w$H7!  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 .^A4w;jPU  
&V axv$v}  
vWmt<E|e  
rEp\ld  
体光栅介质参数 VOj7Tz9UD  
Yz2N(g[  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ,1 H|{<  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 rYt|[Pk  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ^(  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ?;Sg,.J  
On O_7'4 t  
+vJ}'uR3P  
&zgliT!If  
体光栅介质参数 L %acsb}  
91R7Rrne  
, SUx!o  
3>3t(M|  
高级选项&信息 38-kl,Vw  
KJ/Gv#Kj  
&^&0,g?To  
e%:vLE 9  
高级选项&信息 dCn9]cj/  
U&(gNuR>J  
vO?sHh  
MA9E??p3\  
在探测器位置处的备注 j@nK6`d+1  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 f8K0/z  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 *lZ V3F  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 b"o\-iUioe  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） uUp>N^mmVH  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 VXk[p  
3bGU;2~}  
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