[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 3=l-jGJk  
-HsBV>C  
tTFoS[V  
(<C%5x
k  
该用例展示了… $M`;."
 
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： $cOD6Xr)d  
倾斜光栅介质
NydW9r:T  
体光栅介质 I=%sDn  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ];d:z[\P  
dO4#BDn"=  
b<(UmRxx3  
G^ZkY  
光栅工具箱初始化 un^IQMIh  
/Z " 4[  
(MoTG^MrBY  
 初始化 WJU NJN  
开始-> ]A]E)*  
光栅-> '(pdk  
通用光栅光路图 FFeRE{,  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 z83:a)U  
光栅结构设置 M y"!j,Up  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 !J=;Z9  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 f5b`gvCY,#  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 O4PdN?  
:5K~/=6x  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 N^yO- xk  
UVCMB_T  
堆栈编辑器 A%*DQ1N  
/^33 e+j  
<oaBh)=7  
e3={$Ah  
堆栈编辑器 ls"\YSq$  
FJ%R3N\  
4EhBpTg  
涂层倾斜光栅介质 ROt0<^<  
.-u
k
  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 _{`'{u  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ,o>pmaoLs  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 DET!br'z5  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） h NOYFH  
x\bRj>%(  
F}B/-".^  
9poEUjBI  
涂层倾斜光栅介质 v8vh~^X%P  
,6orB}w?z  
B mBzOk^  
mf;^b.mKh  
涂层倾斜光栅介质 FSwgPIO>  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 d+m6-4[_k  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 GE~(N N  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 So\|Ye  
UGC|C F2K  
}M9DqZ;I  
R#7+  
涂层倾斜光栅介质参数 KG-k$glD  
G\:psx/  
Z:o 86~su  
L >Ez-  
涂层倾斜光栅介质参数 nA_ zP4  
_czbUl  

;+ Co!L  
YKw!pu=  
高级选项&信息 (:y,CsR}4  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 w-'D*dOi  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 l\sS?  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 -0KbdHIKb'  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 Wq{d8|)1  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ^!o1l-Y^gr  
L VU)W^  
-l40)^ E}  
iA%' ;V  
高级选项&信息 SZK
)q  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 v`_i1h9p{  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 m[@%
{  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 D*XZT{1g  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 PV]k3&y  
||'i\X|[  
lC /Hib  
a*W_fxb  
高级选项&信息 hs{&G^!jo  
gI^L 9jE7  
(pT(&/\8  
/jjW/lr  
高级选项&信息 }1a<{
&  
,#P,B;r~  
Y0Hq+7x  
\tiUEE|k  
体光栅介质 Qc&-\kQ:$u  
+gbX}jF0%  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 z\Pe{J  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 xs2,t*  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 55>" R{q  
TbKP8zw{  
vgh^fa!/  
>bX-!<S  
体光栅介质参数 xZ.~:V03\t  
-~vl+L  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 D4=..;  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 x9x#'H3  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 [)Z'N/;0  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件）
Qq,i  
6?3
/Ul}  
i\kTm?BQZ  
&\J?[>EJ.  
体光栅介质参数 T:K"  
Ss@u,`pr  
%XEKhy  
>\|kJ?h  
高级选项&信息 @9}),hl`  
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*3A3>Rwu  
e-[>( n/[  
高级选项&信息 LJRg>8  
YMc8Q\*B  
~`*1*;Q<H|  
T[5gom  
在探测器位置处的备注 ^lHb&\X  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 Zdv.PGn  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 L# `lQ"`K  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 0K=Qf69Y  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） !cq=)xR  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Zi 2o  
.ocx(_3G  
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