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    [技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-02-20
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 e6 x#4YH  
    :]CL}n$*  
    2oRwDg&7|  
    %<[{zd1C-  
    该用例展示了… 9F?-zn;2s  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: [{Q$$aV1  
    倾斜光栅介质 Un,'a8>V`  
    体光栅介质 5?? }9  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 qswC> Gi  
    q9{)nU  
    /!A"[Tyt  
    !.q 9:|oc  
    光栅工具箱初始化 j(]O$""  
    4z26a  
    EltCtfm`  
     初始化 )pT5"{  
    开始-> WBkx!{\z  
    光栅-> (Z[c7  
    通用光栅光路图 t u{~:Z(  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 zUZET'Bm9  
    光栅结构设置 CSq|R-@< U  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ?Tu=-ppw  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 A9u>bWIE7  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 r jxkgd  
    \AA9 m'BZ  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 G$&jP:2q  
    LL)t)  
    堆栈编辑器 ",Vx.LV  
    "::2]3e  
    !Ko>   
    Mx`';z8~  
    堆栈编辑器 B)1(  
    %N&W_.F6  
    Zv=pS (9  
    涂层倾斜光栅介质 D1v0`od'  
    U`HY eJ  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 L?N-uocT  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 8F`8=L NO  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 `BG>%#  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) <OKc?[  
    |UMm>.\'  
    JJSE@$",\  
    cSV&p|  
    涂层倾斜光栅介质 (l-= /6-  
    CMOyK^(e  
    -.8K"j{N  
    *?HoN;^  
    涂层倾斜光栅介质 <!UnH6J.b  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 ~n%Lo3RiP  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 X#JUorGp  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 $,U/,XA {E  
    \R]2YY`EP  
    7(h@5  
    NFx%e  
    涂层倾斜光栅介质参数 ~&qvS  
    "0#(<zb|  
    2zh- ms  
    <,n:w[+!`P  
    涂层倾斜光栅介质参数 R2-F@_  
    y2s(]# 8  
    #Pf<2S  
    @P75f5p}<  
    高级选项&信息 42"nbJ  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 Q>Z~={"  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ]YFjz/f  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ,f:K)^yD  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 2sk7E'2(  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 Fb%?qaLmCv  
    d<Q%h?E  
    LDHu10l  
    8zj&e8&v  
    高级选项&信息 KRT&]2  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 A-=hvJ5T  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 la-:"gKC  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 (&/4wI^M  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 C12V_)~2  
    fK+E5~vQ  
    Komdz/g  
    ``VE<:2+  
    高级选项&信息 , ftJw  
    9S}rTZkEq  
    ~i?A!  
    ny1O- `!1  
    高级选项&信息 m+s*Io{Ip  
    ki@C}T5  
    .9B@w+=6  
    eQ#i.%   
    体光栅介质 5= &2=  
    ^`";GnH0  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Y]0c%Fd  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 F9K0  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 Il&7n_ H  
    ^$lZ  
    M`'DD-Q  
    M3@qhEf?vk  
    体光栅介质参数 ]7W!f 2@  
    {O y|c  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 JXe~ 9/!  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 87l*Y|osP  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 #vyf*jPr  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) aaY AS"/:  
    lD[@D9  
    qQ3Q4R\  
    +O 7( >a  
    体光栅介质参数 2h51zG#qd  
    -A w]b} #v  
    rmkBp_i{|  
    ~<VxtcEBz  
    高级选项&信息 ]j/= x2p  
    _h}(j Ed!  
    T&pCLvkz  
    ]9w)0iH  
    高级选项&信息 _p0Yhju?  
    qX-5/;n  
    hui #<2{  
    Sj(>G;  
    在探测器位置处的备注 MW rhVn{R  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 Lr*PbjQDIY  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 <H60rON  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 zMP6hn  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) hjg1By(  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 er3~gm  
    V>)/z|[  
    dyn)KDS  
     
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