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    [技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-02-20
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 4 9N.P;b  
    ;ZUj2WxE  
    N<i5X.X  
    d^A]]Xg  
    该用例展示了… 4*qBu}(  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 0Q a 0  
    倾斜光栅介质 \4wMv[;7  
    体光栅介质 F8Ety^9>9  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 -B#1+rUW  
    tgKr*8t{  
    .fJ8  
    zQulPU  
    光栅工具箱初始化 f2x!cL|Kx?  
    3bWGWI  
    pi"M*$  
     初始化 )9"^ D  
    开始-> YA$YT8iMe  
    光栅-> w"?Q0bhV9y  
    通用光栅光路图 Ur#jJR@%3  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图  j5/pVXO  
    光栅结构设置 #epbc K  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ':pDlUA  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 ,Tr&`2w  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 w{aGH/LN  
    QUW`Yc  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 } doAeTZ  
    *|Vf1R]  
    堆栈编辑器 Uo >aQk  
    _aevaWtEx  
    3S3(Gl  
    x3cjyu<K  
    堆栈编辑器 ~'lT8 n_  
    syB pF:`-W  
    C33Jzn's  
    涂层倾斜光栅介质 Uap0O2n  
    ?@4Mt2Z\  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 :Q DkaA  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 J[:#(c&c!1  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 XiTi3vCe  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) zN!W_2W*  
    Hi={(Z5tC4  
    LHA^uuBN}  
    d.+  
    涂层倾斜光栅介质 B1_9l3RM  
    x t-s"A  
    `15}jTi  
    #ae?#?/"  
    涂层倾斜光栅介质 [T_[QU:A  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 d]e36Dwk  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 39 }e }W"  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ;S U<T^a  
    IW!x!~e  
    s 1M-(d Q  
    Y^Buz<OiG  
    涂层倾斜光栅介质参数 T+Re1sPr?  
    .zZfP+Q]8  
    E~}H,*)  
    Y9X,2L7V  
    涂层倾斜光栅介质参数 m+'1c}n^7  
    o4p5`jOG@  
    [Ix6ArY  
    XA#qBxp/h  
    高级选项&信息 Wd7*7']  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 L;opQ~g  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 LmJjO:W}^y  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 4ct-K)Ris  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 .\oW@2,RA9  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 <~uzHg%Y  
    u W,J5!  
    d [l8qaD  
    D Z*c.|W  
    高级选项&信息 mh"PAp  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 #9TL5-1y  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 (nLzWvN  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 Fxa{ 9'99  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 D,.`mX  
    }Y7P2W+4?  
    E'{:HX  
    {D8opepO)  
    高级选项&信息 t8RtJ2;  
    <7`k[~)VB  
    %R4 \[e  
    !QVhP+l'H  
    高级选项&信息 EgG3XhfS  
    $MDmY4\  
    w%`S>+kX&  
    /F.<Gz;w  
    体光栅介质 -sv%A7i  
    ,$t1LV;o=  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 392(N(  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 2gK]w$H7!  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 .^A4w;jPU  
    &V axv$v}  
    vWmt<E|e  
    rEp\ld  
    体光栅介质参数 VOj7Tz9UD  
    Yz2N(g[  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ,1 H|{<  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 rYt|[Pk  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ^(  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ? ;Sg,.J  
    On O_7'4 t  
    +vJ}'uR3P  
    &zgliT!If  
    体光栅介质参数 L %acsb}  
    91R7Rrne  
    , SUx!o  
    3>3t(M |  
    高级选项&信息 38-kl,Vw  
    KJ/Gv#Kj  
    &^&0,g?To  
    e%:vLE 9  
    高级选项&信息 dCn9]cj/  
    U&(gNuR>J  
    vO?sHh  
    MA9E??p3\  
    在探测器位置处的备注 j@nK6`d+1  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 f8K0/z  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 *lZ V3F  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 b"o\-iUioe  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) uUp>N^mmVH  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 VXk[p  
    3bGU;2~}  
    eI`%J3BxR  
     
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