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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 =r`E%P: +dq2}gM
#|:q"l9 Avljrds+7 介质目录中的斜光栅介质 5f@&XwD9 )Rk(gd
}Sh@.3* g;o5m} 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 O6-';H:I]L 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 ~$
?85 /!"sPtIh 斜光栅介质的编辑对话框
8rU| Oh XNvlx4 /k\)q ~^ ' + . 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 yG# x*\9 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 JGzEm>_m 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 !,7)ZW?*8 斜光栅介质的编辑对话框 |w_l~xYV) @v/Ae_q!
1Sns$t%b XK0lv8( 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 /b4>0DXT5 以下参数可用: dt<P6pK- - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) K7q R - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) JkLpoe81 - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) %|2x7@&s - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) rXGaav9 FB~IO#E8W 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 AQ"rk9Z FPE6H:' 斜光栅介质的编辑对话框 5]3Mj*u\ !.|A}8nK
6LT.ng ZU7u> 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 =|
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lx 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 E.x<J.[Y K1-3!G 斜光栅介质的编辑对话框 lb}:!Y cS#| _ ~!Rf5QA85 3XUie;*` 7u%OYt
D E 首先,必须选择涂层材料。 ^w
jM u5f 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 }hc+ENh 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 (.$e@k= cm>+f ^4?n 斜光栅的编辑对话框 91FVe |[/XG2S
j W-K J@q!N;eh| ]#FQde4]5 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 3HndE~_C& 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 t0ZaI E 2<_|1%C 堆栈使用的评论 5lE9UoG[Q drB$q[Ak9
VQ2B|v xZMAX}8 v 6.3qux9 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 AT"!Ys| 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 `S]DHxS 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 TzV~I\a| 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 HwBJUr91] }Szs9-Wns 斜光栅介质的采样配置 JZ"XrS0? 1KI5tf>>p 斜光栅介质采样 arn7<w0 iuoZk5O O6\t_. 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 e[.JS6 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 |+aD%'| 在右边,显示了介质的预览。 ue!wo-|#G 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 $4>x4* %T~LK=m
kO8oH8Vt jbu+> 采样斜光栅#1 $"{I|UFC v,)vW5jGI
e>_Il']Mb DcNwtts 采样斜光栅#2 /h K/t; \.MPjD
esHcE{GNOS m)xz_Plc 采样斜光栅#3 A}0u-W
.v#Tj|w^ +C`zI~8 )9V8&, 采样斜光栅#4 `g,i`< e\H1IR3 Ccy0!re
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