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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 ktdz@f knI*-
ye56-T n^3NA|A 介质目录中的斜光栅介质 nA|gQibA Qj{$dqmDN
p,!fIx y_;]=hEL 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 j
P{:A9T\ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 1
yxZ xop-f#U* 斜光栅介质的编辑对话框
rytGr9S Mt]=v}z M^!C?(Hx^x iDyMWlV 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
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bp#1KR) 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 ~pDRF( 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 mRg ,A\ 斜光栅介质的编辑对话框 >;T$#LZ .eZPp~[lAN
`lH1IA/3 -P IA;#Gs 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 JMl, N 以下参数可用: ^\Ue7,H- - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) )M&I)In' - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) 35-DnTv - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) wC4AVJJ^> - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) GF$rPY[ %N?W]vbra
如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 @1`W<WP ;p?42rCIcl 斜光栅介质的编辑对话框 Xs.$2 &Sa_%:*D(
+8?R+0P y^0HCp{ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 v '"1/% L 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 ~jgN_jz C.Wms}XA 斜光栅介质的编辑对话框 DkF@XK0c3 ly[\mGr mfp`Iy"}+ ~(*co[_ 6KZ8 .m}: 首先,必须选择涂层材料。 hSLwiX~ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 r P<d[u 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 `% #zMS |zRoXO`]-* 斜光栅的编辑对话框 :_I
wc= Ot4; ,UZ
=F!",a~ /S2p ``E+ _dJVnC1 ! 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 ->RF`SQu 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 nEZ-h7lzl( /o}0oo5B 堆栈使用的评论 )0 42?emn fjz2m
X,C/x) qQ?,|4)y H*:r>Lm= 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 >uqS 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 2+r )VF: 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 WMdz+^\( 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 ,sRrV $," iJynR [7 斜光栅介质的采样配置 n79DS(t L2V
$%*6 斜光栅介质采样 1_dMe%53 h#6 jUQ d9Ow 2KrC 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 a_}BTkfHa 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 GQ8Dj!8 在右边,显示了介质的预览。 uq#h\p| 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 \Im\*A -+S~1`0
[(.T%kJ p;QX"2 采样斜光栅#1 f>, Qhl OrKT~JQVC&
Al-%j- j@- -T>wi J 采样斜光栅#2 xZ{|D .of:#~
\`iW__ f'?6D+Yw~ 采样斜光栅#3 ~sU!
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t+ _-yF9g"I Xta> 采样斜光栅#4 HDae_. 77bZ /j5-
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