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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 Igh=Z % S|r,RBeZ
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Uh 介质目录中的斜光栅介质 y'C Ou{VDE
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=@!s[ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 2]cU:j6G 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 w^MiyX Xa$-Sx 斜光栅介质的编辑对话框 \. YJs"<3 ZuT5}XxF LwcAF g| &M7AM"9 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 xE-
_Fv9 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 ;%Kh~ 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 B-h@\y 斜光栅介质的编辑对话框 e \. ~uu{
v')
@3`Pq2< -nqq;|% 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 3&zcdwPj 以下参数可用: y.gjs<y - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) |!L0X@> - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
xM$AhH - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) w%$J<Z^-? - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) dH)\zCt S5[}kfe 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 MB+a?u0\ vF9fXY= 斜光栅介质的编辑对话框 Qn}M 814cCrr,o
y>0Gmr VjJ}q*/3e 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 EzU3'x 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 %*OQH?pyx} }(!3)k7* 斜光栅介质的编辑对话框 ^e--4B9| e17]{6y |y4j:`@. 8;O /x WNSEc% 首先,必须选择涂层材料。 5%w08 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 6L3i
接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 ,zh_-2^X B#4'3Y-3 斜光栅的编辑对话框 a}[rk*QmZ (};/,t1#$
D{6<,#P{w x!fgZr{ ; jrmr`l= 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 aX?
tnDv 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 M:oZk&cs %v[KLMo'( 堆栈使用的评论 ] -%B4lT 1ezBnZJg
3[<D"0#}, 6foiN W+ "Iacs s0; 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 j-wKm_M#jX 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 r |2{(+ 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 DK1{Z;Z 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 \lK ` gdS@NUM 斜光栅介质的采样配置 yeA]j[ # ut.tf \c 斜光栅介质采样 [X ]XH l_pf9!z YwZ]J 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 ~-'-<- 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 s?PB ]Tr 在右边,显示了介质的预览。 V5p->X2# 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 9>;CvR
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~'N+O K 'ql<R0g 采样斜光栅#1 W&7( Xt!wOW
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$Km~x (V0KmNCW` 采样斜光栅#3 o90[, 9&{HD SD jJ?K 1^2]~R9,9 采样斜光栅#4 y w:=$e5 FBa-gm<9 zpg512\y
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