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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 &l?N:(r T&mbXMN
p5D5%B/ %h3L 介质目录中的斜光栅介质 CF,8f$:2 s&Z35IM8|
P7cge 65;|cmjv 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 d"LoK,p# 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 p"g1V7B b-,]A2. 斜光栅介质的编辑对话框 D l4d'&! XTIu(f|d_; ;`;G/1]#9 ^!$}
BY 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 uT'-B7N 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 ,*q#qW!! 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 .jLMl*6%: 斜光栅介质的编辑对话框 Zj:a-= QQ5lW
e~tr^$/ ( %H 8A= 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 ev)rOcOU 以下参数可用: ]u\ ` - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) :5$xh
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度) N)9pz?*V - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) gcQ. YP9 - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) L7i}Ga!8 <Gb nPG? 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 "
whO} iMP*]K-O 斜光栅介质的编辑对话框 bbfDt^ oV%(
37W9=
4.,KEt'H iSSc5ek4 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 6ctHL<^ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 N*_/@qM> a N1D6D$s 0 斜光栅介质的编辑对话框 ws*~$x?7 4iYgs-, 3bT6W,J4T }:,o Y< j
AJ/ 首先,必须选择涂层材料。 N#<zEAB 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 $[HcHnf 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 Yio>ft&g] # i`A4D 斜光栅的编辑对话框 _A@fP[C bLU^1S8Z
&CB.*\0 2eZk3_w ]7XkijNb 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 >N+bU{s 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 ]Ssw32yn 0U>t>&," 堆栈使用的评论 3p?<iVE s=\LewF1<
Sleu#]- Dz"u8 f reqfgNg 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Lo$Z>u4(c 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 ;~'cITL 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 STFQ";z$ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 Mp^OL7p^^ }skRlC 斜光栅介质的采样配置 :{TmR3. gL[1wM%? 斜光栅介质采样 LK
d'Ik@D]I d'lr:=GQ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 RpmBP[ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 S:2u3th7 在右边,显示了介质的预览。 0i5T]
)r 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 .b_0k<M!p }rj C_q
z^ a6%N P/C+L[X= 采样斜光栅#1 tn:/pPap s{1Deek=
p ,[XT`q^ uK4'n+_>\ 采样斜光栅#2 5 CY_Ay\ y'0dl "Dy\
M<#)D m>*A0&??[ 采样斜光栅#3 St~SiTJU sw=JUfAhy l~Ie#vak ^ sf[dr;BA 采样斜光栅#4 5Sm 5jRr @qO8Jg"Q R[>;_}5">
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