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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 ^Gz{6@TY5 DBbc|I/[l
T$b\Q ;; LuU<,$ 介质目录中的斜光栅介质 JmWR{du Sa]Ek*
QjukK6#W b>q6:=(( 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 fuSq ={] 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 (5Ky6b9v z
Bf;fi 斜光栅介质的编辑对话框 ~Q!~ eTw e`DsP8-&v q]v, a%[q
|oyR 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 1*R_"# 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 4%bTj,H# 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 DJ:38_ F 斜光栅介质的编辑对话框 sC6r.@[u8t oMTY)`me
|(%AM*n ku3D?D:V 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 oYq,u@oM 以下参数可用: ^_w*XV - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) ]N\6h(**wy - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) -c$z 2Q) - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) 7x+=7,BZd - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 'oi2Seq RdkU2Y}V 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 9 x [X< ~|=rwDBZ8l 斜光栅介质的编辑对话框 8on[%Vk M7U:g}
vU9~[I`^p D5[VK`4Z 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 AFtCqq#[ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 )=(n/vckM qj;l,Kua 斜光栅介质的编辑对话框 ;siJ~|6) ris;Iu^v0 x#o?>5Qg? LI:?Y_r b60[({A\s& 首先,必须选择涂层材料。 ?7rD42\8H 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 G*Ib^;$u 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 09x+Tko9;* vu>YH)N_h 斜光栅的编辑对话框 |?|K\UF(Y wjg}[R@!
g?$e^ls sVlZNj9i" XL?Aw 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 Z3I L8 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 /\TlO.B= jXH0BPa, 堆栈使用的评论 rkP4<E-M yj]ML:n
UJ9q-r Cl-S=q@>V w+3>DEfz 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 sMN>wbHwh[ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 Y"s
)u7 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 &:C{/QnA 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
B[Ix?V4yy M@5KoMsB9 斜光栅介质的采样配置 xan/ay> s?~8O|Mu' 斜光栅介质采样 @>gD1Q7v b *+NZQjl' D@}St:m} 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 Kyyih|{ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 Sn+FV+D 在右边,显示了介质的预览。 ''%;EW> 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 okVp\RC '?z9,oW{
@yCW8] x$*E\/zi<! 采样斜光栅#1 +$(71#'y (v|ixa
Q*,6X*W!~ o- cj&Cv% 采样斜光栅#2 ;K>{_kf \}U[}5Pk&
y @]8Ep rL.<Z@- 采样斜光栅#3 p6B .s_G4 (QA-"9v#i, :~WPY9i` D$Kz9GVZq 采样斜光栅#4 0~(\lkh*!9 H-;&xzAI xI-=tib
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