[技术]如何设置面板型光源 [复制链接]

EESN\_{~.  
利用VirtualLab中的面板型光源，可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义，每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun，可以对所有像素进行扫描，可针对特定应用灵活选择扫描方式，例如，用于分析具有像素化图像生成单元的成像系统。 _ Jc2&(;  
{]/8skov5]  
;5S}~+j  
=nxKttmU0  
1. 基本参数 ecHP &Z$  
=!.mGW-Q}  
g1[&c+=U`P  
 面板型光源模拟确定的像素数目，每个像素用一个球形波表示，作为基本模式。 SS3-+<z  
 所有模式具有相同的孔径形状，并可在基本参数（Basic Parameters）选项卡中配置。 z@h~Vb&I  
 此外，还可以设置相对或绝对边缘宽度。 80hme+e  
<@#PF$!  
z'MS#6|}  
F:T GsV#  
2. 特定参数-强度 #@//7Bf%  
t&RruwN_;  
0!#;j{JQ  
 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。 强度分布的设置可以根据： !{%G0(Dv  
- 通过指定彩色域集或通过导入图像文件来指定所需的变化。在这种情况下，波长从输入分布中选择；- 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下，像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。 4<v;1   
\V%_hl  
8tc*.H{^+  
/L~m#HxWU  
3. 特定参数-像素设置 4ke^*g K<  
nWgv~{,x  
^%[F8\}XPJ  
 特定参数（Specific Parameters）选项卡可以控制光源的强度和像素设置。 [xaisXvI4  
 像素间距（Pixel Pitch）可分别沿x方向和y方向设置。 RUXCq`)"<  
 另外，可以配置每个像素的孔径角度（Aperture Angle）。 T@48qg  

-像素尺寸50um -孔径角5°

-像素尺寸50um -孔径角10°

-像素尺寸100m -孔径角10°

Fb_S&!  
     PZOKrW  
4. 光线选择 !]b@RUU  
WH$HI/%*m  
 在Ray Selection选项卡中，对于每个模式，都可以指定所需的选择方法和射线的数量。 ^Kq|ID AP  
f&I7,"v  
v5$s#f<   
5. 偏振设置 <^><3U`  
8;zDg$(  
6?gi_3g  
 偏振设置（Polarization Settings）选项卡为所有像素提供偏振选项。 =>LZm+P  
 偏振状态可以为: ]0~qi@  
−线偏振; R]L2(' B  
−圆偏振; AV4~U:vU  
−椭圆偏振; :pZ}
*?\  
−一般通过琼斯矩阵输入。 rla:<6tt  
Q,e*#oK3$  
IN!02`H  
vDE |sT  
6. 模式选择 Ps>&"k$T  
Z^_>A)<s<  
(B#(Z=  
 在模式选择（Mode Selection）选项卡中，可以选择不同的光谱成分和像素。 :5# V^\3*  
 波长可以单独或全部选择。 ]b1Li}  
 像素可以在指定的列或行中选择，也可以作为单个像素选择。 p:[LnL  
H5M#q6`H6  
q627<  
T33|';k  
T.Zz;2I  
7. 参数运行-扫描每个单个像素 gGfq6{9g  
&]NZvqdj.]  
GU6qIz|  
 在模式选择选项卡中，选中“像素”。 m&El)  
 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。 5~}!@yzc