Pixelligent推出2.0折射率纳米压印光学材料PixNIL

近日，复合材料供应商Pixelligent宣布将于Photonics West会议上介绍新款低残留层光学材料PixNIL，以及该材料应用在AR眼镜上的优势。据悉，PixNIL具有1.8到2.0+折射率（RI），残留层（RLT）小于100纳米，号称可提供主流AR眼镜所需的优秀光学性能。

Pixelligent总裁兼CEO Craig Bandes表示：在主流AR眼镜的竞争中，那些提供卓越光学性能、适合长时间佩戴、功能丰富的头显才能胜出。

对于AR来讲，光学元件的折射率越高，FOV通常也越宽，进而可以更好的提升视觉体验。细节方面，PixNIL分为含溶剂和无溶剂版本，可根据客户需求设置折射率，并制造出具有出色光学性能和稳定机械性能的高折射率薄膜。