[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 *Ti"8^`6  
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建模任务 j
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概观 9PACXW0  
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光线追迹仿真 b>8TH-1t~  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 xp'Q>%v  
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•点击Go！ mNacLkh[  
•获得3D光线追迹结果。 0^dYu/i5  
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光线追迹仿真 'Etq;^H  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 T@i* F M  
•单击Go！ _<{<b  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 K0_gMi+bR  
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场追迹仿真 P_NF;v5v  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 r~h#  
•单击Go！ (DY[OIHI  
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场追迹结果（摄像机探测器） $C5*@`GM$  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 [RN]?,  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 7+hF1eoI  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 &e:+;7  
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场追迹结果（电磁场探测器） +Tu?PuT7k  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ]#^v754X^T  
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