[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 kM(,8j  
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建模任务 zY&/lWW._  
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概观 ^<Sy{KY  
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光线追迹仿真 (gUxS.zU  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 FW"gj\  
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•点击Go！ 9Ljd or  
•获得3D光线追迹结果。 ,)t/1oQ}>^  
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光线追迹仿真 HhB' ^)  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ajD/)9S
 
•单击Go！ #!]~E@;E  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 1K{hj%  
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场追迹仿真 n`|CDKb  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 x7c#kU2A&Z  
•单击Go！ A55F*d  
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     [J43]  
场追迹结果（摄像机探测器） e1 P(-V  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 3>G"&T{  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 `5
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Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 {
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场追迹结果（电磁场探测器） X5o{d4R L  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 !R1OSVFp  
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