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Essential Macleod中文手册》 yg6o#; 2UIZ<#|D>s 目 录 CzIs_/ @{Dfro ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 3:)_oHq 第1章 介绍 ..........................................................1 8|nc($}~ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 >S8
n8U 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 %f?Zg44 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ^Rtxef 第5章 软件结构 ............................................................... 21 ;U3K@_ 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 VUOe7c= 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 P$]K 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 9Wg;M#c2Y| 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 $1FnjL5u 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 S|T_<FCY 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 4|4 *rhwp 第12章 优化和综合 ..................................................................120 >*uj
)u% 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 3.9/mztS 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ,J=l Hj 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 qDqy9u:g 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 %<r}V<OeR 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 noLr185 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 I
Bko"|e@ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 3dJiu 第20章 运行表单 .................................................................... 251 ArScJ\/Nwv 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 I2-ue 63 ? 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 7H|0. 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 o2;Eti 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ^y%8_r& 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301
{?q`9[Z 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 TRJTJM_k 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 HXX9D&c4R 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 &M tF @
'c(q=K; 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 r;{ggwY&J A'Z!l20_ 价 格:400元 h6bvUI+|h JpZ_cb`<E' 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 x iz+R9p 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) ?NvE9+n tc{l?7P 内容简介 m2/S(f Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 j&U7xv 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 VbTX;? 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 .wUnN8crQ qu!x#OY+ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 um%s9 目录 5!pNo*QK Preface 1 O3)B]!xL 内容简介 2 df {\O*6 目录 i nf[KD,f 1 引言 1 0l/7JH_@V 2 光学薄膜基础 2 y~Yv^'Epf 2.1 一般规则 2 s];0-65) 2.2 正交入射规则 3 Q&lb]U+\u 2.3 斜入射规则 6 +Z-{6C 2.4 精确计算 7 0LYf0^P 2.5 相干性 8 bxO[y<|XL 2.6 参考文献 10 ^hr# 1 3 Essential Macleod的快速预览 10 `Y+R9bd 4 Essential Macleod的特点 32 \gK'g-)} 4.1 容量和局限性 33 V|F/ynJfA 4.2 程序在哪里? 33 (kyRx+gA 4.3 数据文件 35 /x]^Cqe 4.4 设计规则 35 |eg8F$WU 4.5 材料数据库和资料库 37 w`r%_o-I 4.5.1材料损失 38
_|4QrZ$n( 4.5.1材料数据库和导入材料 39 .:4*HB 4.5.2 材料库 41 MmU`i ,z 4.5.3导出材料数据 43 |'u BkL0q 4.6 常用单位 43 }}u`*&,g 4.7 插值和外推法 46 mkPqxzxbrL 4.8 材料数据的平滑 50 MxUQ F?@6 4.9 更多光学常数模型 54 >wL!`:c'" 4.10 文档的一般编辑规则 55 O/$41mK+! 4.11 撤销和重做 56 pAqPHD= 4.12 设计文档 57 4E}Q<?UYSt 4.10.1 公式 58 NPFI^Uj#A 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 VKw.g@BY 4.10.3 沉积密度 59 ,aq>9\pi 4.10.4 平行和楔形介质 60 +2k{yl 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 {?++T 0 4.10.4 性能 61 /VP #J<6L 4.10.5 保存设计和性能 64 H6>t to 4.10.6 默认设计 64 _VM}]A 4.11 图表 64 gz uWhQo 4.11.1 合并曲线图 67 4~&X]/_' 4.11.2 自适应绘制 68 p&0 G 4.11.3 动态绘图 68
/J Y6S 4.11.4 3D绘图 69 >WJQxL4 4.12 导入和导出 73 Sn
7h$ 4.12.1 剪贴板 73 :oYSvK7> 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 U#sv.r/L}3 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (Rp5g}b 4.13 背景 77 p2fzbBt 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 LaZ
@4/z! 4.15 生成Rugate 84 |Q@( <'8= 4.16 参考文献 91 n{qVF#N_ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 BZKg:;9 5.1 Jobs 92 Fi 7~JZZ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 W>c*\)Xk ! 5.3 输入材料 94 u-bgk(u 5.4 设计数据文件夹 95 :/Z1$xS 5.5 默认设计 95 Fo5UG2E& 6 细化和合成 97 #,FXc~ V 6.1 优化介绍 97 &oJ[ *pQ 6.2 细化 (Refinement) 98 |oX9SU l 6.3 合成 (Synthesis) 100 uINEq{yo 6.4 目标和评价函数 101 8/y8tMm] 6.4.1 目标输入 102 :uqEGnEut 6.4.2 目标 103 G9#3
|B-? 6.4.3 特殊的评价函数 104 M\Wg|gpy 6.5 层锁定和连接 104 teLZplC=f 6.6 细化技术 104 E0aFHC[ 6.6.1 单纯形 105 9"/=D9o9 6.6.1.1 单纯形参数 106 (JE&1 @ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ae2I,Qt% 6.6.2.1 Optimac参数 108 9Uz2j$p7 6.6.3 模拟退火算法 109 6Bd:R}yZP7 6.6.3.1 模拟退火参数 109 T
:^OW5 d 6.6.4 共轭梯度 111 f'7/Wj 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 }N,v&B 6.6.5 拟牛顿法 112 y1Wb/ d 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 V' i@N 6.6.6 针合成 113 BvH I}= 6.6.6.1 针合成参数 114 P.=Dd"La 6.6.7 差分进化 114 ?VTP|Z 6.6.8非局部细化 115 AT2D+Hi=E 6.6.8.1非局部细化参数 115 LJ 9#!r@H 6.7 我应该使用哪种技术? 116 P8w56 6.7.1 细化 116 jd"YaZOQ 6.7.2 合成 117 V,\}|_GY 6.8 参考文献 117 \[8uE,=| 7 导纳图及其他工具 118 An,TunX 7.1 简介 118 DGz}d,ie 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Lm0q/d2|\X 7.2.1 四分之一波长规则 119 s%m?Yh3 7.2.2 导纳图 120 63t'|9^5 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 V4W(>g 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 S3QX{5t\ 7.5 斜入射导纳图 141 DIhV;[\ 7.6 对称周期 141 qA25P< |