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Essential Macleod中文手册》 4vPKDd BG@[m 目 录 +?[iB"F k{C|{m ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 _k5-Wd5Ypw 第1章 介绍 ..........................................................1 oth=#hfU^ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 Ru`7Xd. 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 U[l{cRT
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 af2yng 第5章 软件结构 ............................................................... 21 $QuSmA<4lS 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 :sb+jk 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 \M-$|04Qt 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ,Z]4`9c 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 Q-S5(" 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ehYGw2 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 h`p9H2}0 第12章 优化和综合 ..................................................................120 xHdv?69, 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 qgLj^{ 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 TYr"yZ([ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 lF1ieg"i M 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 qeZ*!H6- 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 v/DWy(CC 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 xYWg1e$k 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 V4
Wn 第20章 运行表单 .................................................................... 251
w4p<q68 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 * d[sja+ 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 lilF _y 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 qc`UDD5 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 +q4AK<y- 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 .1& F p 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 e$@a zi1 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 mq~L1<f 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 5;-?qcb^w CpF&Vy K 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 o8lwwM* %
2lcc"' 价 格:400元 \?.Tq24 wNm~H 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 QZ51}i 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) 0?nm`9v6 -( ,iwFb 内容简介 LK[%}2me Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 CK+_T}+- 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 O(QJiS 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 m2$Qp{C6H {n>W8sN< 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 UN*XLHio 目录 FsYsQ_,R3 Preface 1 (Q09$ 内容简介 2 .)eX(2j\ 目录 i Hh1OD?N) 1 引言 1 <+c6CM$#}V 2 光学薄膜基础 2 :X6A9jmd 2.1 一般规则 2 f}>S"fFI 2.2 正交入射规则 3 kdrya 2.3 斜入射规则 6 [8QE}TFic 2.4 精确计算 7 PjkJsH 2.5 相干性 8 FWbA+{8 2.6 参考文献 10 xc+h
Fx 3 Essential Macleod的快速预览 10 7Q9zEd"d 4 Essential Macleod的特点 32 wN
![SM/+ 4.1 容量和局限性 33 :2fz4n0{/ 4.2 程序在哪里? 33 Qm\VZ<6/5 4.3 数据文件 35 a~F`{(Q2 4.4 设计规则 35 A;A>Q`JJF 4.5 材料数据库和资料库 37 M6J/S 4.5.1材料损失 38 "sf]I[a 4.5.1材料数据库和导入材料 39 {6yiD 4.5.2 材料库 41 \;>idbV 4.5.3导出材料数据 43 5b9>a5j1; 4.6 常用单位 43 zF[>K4 4.7 插值和外推法 46 f`jRLo*L 4.8 材料数据的平滑 50 X>#!s Lt 4.9 更多光学常数模型 54 3wBc`vJ! 4.10 文档的一般编辑规则 55 3' WS6B+ 4.11 撤销和重做 56 H[{ch t
h 4.12 设计文档 57 J8"Cw<=O 4.10.1 公式 58 =y/VrF.bV 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 p&L`C|0 4.10.3 沉积密度 59 Pxj?W'| 4.10.4 平行和楔形介质 60 *zy0,{bl 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 @Ooh}V#J 4.10.4 性能 61 j/R 4.10.5 保存设计和性能 64 zA![c l>$ 4.10.6 默认设计 64 Z;_WU 4.11 图表 64 dfo{ B/+ 4.11.1 合并曲线图 67 ;!k1LfN 4.11.2 自适应绘制 68 uL!{xuN 4.11.3 动态绘图 68 :LL>C)(f 4.11.4 3D绘图 69 he/UvMu 4.12 导入和导出 73 S)[`Bm 4.12.1 剪贴板 73 a"{tq Nc 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 sYt8NsQ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 @^vVou_ 4.13 背景 77 JeJc(e 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 mb*L'y2r 4.15 生成Rugate 84 RkN a;j)t 4.16 参考文献 91 <8Qa"<4f; 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 $b#"Rv 5.1 Jobs 92 ".qh]RVjV 5.2 创建一个新Job(工作) 93 =S-'*F 5.3 输入材料 94 1X/
q7lR 5.4 设计数据文件夹 95 IiACr@[?e 5.5 默认设计 95 ;fhFv&`mE 6 细化和合成 97 $+sNjwv^F 6.1 优化介绍 97 _?3bBBy 6.2 细化 (Refinement) 98 ejwFQ'wTx 6.3 合成 (Synthesis) 100 Got5(^'c 6.4 目标和评价函数 101 !V.'~xj 6.4.1 目标输入 102 ;b$(T5 6.4.2 目标 103 S2"p( 6.4.3 特殊的评价函数 104 .h^."+TJ 6.5 层锁定和连接 104 -\j}le6;c 6.6 细化技术 104 ]w FFGy 6.6.1 单纯形 105 ;h3uMUCml 6.6.1.1 单纯形参数 106 6tM CpSJ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 #5T+P8 6.6.2.1 Optimac参数 108 )L`0VTw'M 6.6.3 模拟退火算法 109 9q;\;- 6.6.3.1 模拟退火参数 109
;KmSz 1A 6.6.4 共轭梯度 111 QhK]>d. 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Bya!pzbpr 6.6.5 拟牛顿法 112 Hq^sU% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 U]fE(mpI9 6.6.6 针合成 113 rZZueYuXO 6.6.6.1 针合成参数 114 a[)in ,3 6.6.7 差分进化 114 j3 ~: \H 6.6.8非局部细化 115 Tc@r#!.m 6.6.8.1非局部细化参数 115 0vUX^< 6.7 我应该使用哪种技术? 116 7
#_{UJ% 6.7.1 细化 116 LN?fw 6.7.2 合成 117 ekfD+X 6.8 参考文献 117 pSASMc@ 7 导纳图及其他工具 118 mz[rB|v"/7 7.1 简介 118 }(dhXOf\q 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Q5iuK#/ 7.2.1 四分之一波长规则 119 2<yE3:VX 7.2.2 导纳图 120 B[Uvj~g 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ^l
~i >:V 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 R1X9 7.5 斜入射导纳图 141 ;]MHU/ 7.6 对称周期 141 w:&m_z#M 7.7 参考文献 142 +is;$1rq 8 典型的镀膜实例 143 waW2$9O 8.1 单层抗反射薄膜 145 :=^JHE{ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ]~ )FMWQz- 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 zO2Z\E'%. 8.4 W-膜层 148 r<Ll>R 8.5 V-膜层 149 ge[f/"u 8.6 V-膜层高折射基底 150 JMpjiB,A} 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 YQiTx)_ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 goeWZ O 8.9 四层抗反射薄膜 153 Z6X?M&-Lz 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 kh 17 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 N|T%cdh:/ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 oKiBnj5J 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 2IqsBK` 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 :p(3Ap2TY 8.15十五层宽带抗反射膜 159 b-@VR 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 .3A66 O~zT 8.17 1/4波长堆栈 162 Ej
ip%m 8.18 陷波滤波器 163 0eQyzn*98 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 "N"9PTX 8.20 褶皱 165 GrW+P[j9 8.21 消偏振分光器1 169 1Qtojph 8.22 消偏振分光器2 171 U"A]b(54 8.23 消偏振立体分光器 172 pA+W
8v#* 8.24 消偏振截止滤光片 173 %w,
8.25 立体偏振分束器1 174 iQZgs@ 8.26 立方偏振分束器2 177 Gb<)U[Hfd 8.27 相位延迟器 178 "44VvpQC 8.28 红外截止器 179 ~a4htj 8.29 21层长波带通滤波器 180 x,STt{I= 8.30 49层长波带通滤波器 181 @/ wJW``; 8.31 55层短波带通滤波器 182 ?7'uo$ 8.32 47 红外截止器 183 #]oVVf_ 8.33 宽带通滤波器 184 A/,7%bB1 8.34 诱导透射滤波器 186 Ti!j 8.35 诱导透射滤波器2 188 ^*
^te+N 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ]ZelB,7q 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 dOqn0Z 8.35 增益平坦滤波器 193 i))S%!/r~ 8.38 啁啾反射镜 1 196 bPAp0}{Fu 8.39 啁啾反射镜2 198 tEf_XBjKV 8.40 啁啾反射镜3 199 ync2X{9D 8.41 带保护层的铝膜层 200 =K =FzV'_~ 8.42 增加铝反射率膜 201
mrX3/e 8.43 参考文献 202 l!<Nw8+U 9 多层膜 204 5*{U!${a 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 07DpvhDQ 9.2 内部透过率 204 Bl2y~fCA 9.3 内部透射率数据 205 x^qmYX$'1b 9.4 实例 206 "~9 !o" 9.5 实例2 210 ((\s4- 9.6 圆锥和带宽计算 212 !iWPldn&] 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 KcglpKV` 10 光学薄膜的颜色 216 =LL5E}xP 10.1 导言 216 YBN@{P$ 10.2 色彩 216 ~&[Wqn@MZ 10.3 主波长和纯度 220 0PIC| 10.4 色相和纯度 221 EkgS*q_ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 DKAqQ?fS 10.6 色差 226 v9(->X' 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 mEmznA 10.8 颜色渲染指数 234 P}KN*Hn. 10.9 色差计算 235 (n05MwKu\ 10.10 参考文献 236 V]tucs 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 3XYCtp8 11.1 短脉冲 238
`@b+'L 11.2 群速度 239 ZWQrG'$?o8 11.3 群速度色散 241 f ."bq43( 11.4 啁啾(chirped) 245 sWP5=t(i+9 11.5 光学薄膜—相变 245 n$g g$< 11.6 群延迟和延迟色散 246
G4vXPx%a8 11.7 色度色散 246 &*B=5W;6^u 11.8 色散补偿 249 INOw0E[ 11.9 空间光线偏移 256 X(U
CN0# 11.10 参考文献 258 Fd":\7p 12 公差与误差 260 w,cfSF;=tC 12.1 蒙特卡罗模型 260 V.vA~a 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 w7cciD| 12.2.1 误差工具 267 Jiyt,D*wX 12.2.2 灵敏度工具 271 dElOy?v 12.2.2.1 独立灵敏度 271 ~^cx a% 12.2.2.2 灵敏度分布 275 {5QIQ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 <RS@, 12.3 参考文献 276 m!3b.2/h 13 Runsheet 与Simulator 277 z 0]K:YV_ 13.1 原理介绍 277
AC@WhL 13.2 截止滤光片设计 277 yT%"<m6Y*\ 14 光学常数提取 289 tT'*Uu5 14.1 介绍 289 U:ggZ`. 14.2 电介质薄膜 289 %Sr/'7 K 14.3 n 和k 的提取工具 295 `[p*qsp_ 14.4 基底的参数提取 302 :'9%~q.D4 14.5 金属的参数提取 306 "Kx2k>ym 14.6 不正确的模型 306 @.;] $N&J 14.7 参考文献 311 y.AVH`_u 15 反演工程 313 !'o5X]s 15.1 随机性和系统性 313 0)`{]&
15.2 常见的系统性问题 314 _\hZX|:] 15.3 单层膜 314 D7H,49#1Q 15.4 多层膜 314 6:O3>'n 15.5 含义 319 Fk@A;22N 15.6 反演工程实例 319 r|wB&
PGW 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 p%toD{$ 15.6.2 反演工程提取折射率 327 wDswK "T 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 LW< |