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Essential Macleod中文手册》 CNww`PX,zZ P#:?ok 目 录 q5L51KP2 m5Tr-w$QY ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 $m CarFV-T 第1章 介绍 ..........................................................1 xB !6_VlB 第2章 软件安装 ..................................................... 3 f$'2}'.!$ 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 WlYs~(=9 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 t
R6
+G 第5章 软件结构 ............................................................... 21 XerbUkZ 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 b<]n%Q'n 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 (@#M!' 第8章 图形窗口 .................................................................. 100
RDtU43 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 |A8/FU2{ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 8 B**8yg. 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 4l&g6YneX 第12章 优化和综合 ..................................................................120 c=AOkX3UD 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 1 n%?l[o 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 wR{'y)$ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 6 K-5g/hL 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 +S))3 5N[ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 _`#3f1F@[ 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 MfmACd^3$ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 jV8q)=}*) 第20章 运行表单 .................................................................... 251 "l >Igm 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 `CeJWL5{ 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 q{ /3V 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 1EyL#;k 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 X=C1/4wU 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 m E^o-9/ 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 >><.3 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Z/ Tm)Xd 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 .Q)|vq^ /\)a 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 eh[_~>w phE
&7*!Q 价 格:400元 >O5m5@GK3a 5E0eyW 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 xF8}:z0 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) IG3,XW $'pNp
B#vH 内容简介 F}
d Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 p!/[K6u 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 NvN~@TL28 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 w{dIFvQ"$ M _LXg% 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 KFZm`,+69 目录 BA=,7 y&;j Preface 1 6'W [{gzl 内容简介 2 zS< jd~ 目录 i 8UkKU_Uso 1 引言 1 [&*6_q"V 2 光学薄膜基础 2 MZ+e}|!4, 2.1 一般规则 2 dSCzx
.c 2.2 正交入射规则 3 0 'Vg6E]/ 2.3 斜入射规则 6 A^2L~g[^Q 2.4 精确计算 7 ?m
c%.Bt 2.5 相干性 8 gDIBnH 2.6 参考文献 10 CB~Q%QLG 3 Essential Macleod的快速预览 10 5b/ojr7 4 Essential Macleod的特点 32 hAj1{pA, 4.1 容量和局限性 33 c)&>$S8* 4.2 程序在哪里? 33 4'p=p#o 4.3 数据文件 35 R4Rb73o 4.4 设计规则 35 :SV>+EDY 4.5 材料数据库和资料库 37 g=T/_ 4.5.1材料损失 38 2 3KyCV5 4.5.1材料数据库和导入材料 39 V3mAvmx 4.5.2 材料库 41 iBudmT8 4.5.3导出材料数据 43 xug)aE 4.6 常用单位 43 pb0E@C/R 4.7 插值和外推法 46 )~jqW=d
2 4.8 材料数据的平滑 50 _8G>&K3T< 4.9 更多光学常数模型 54 79=45' 8 4.10 文档的一般编辑规则 55 joul<t- 4.11 撤销和重做 56 )IT6vU"-yd 4.12 设计文档 57 +%\oO/4Fs 4.10.1 公式 58 $mGvJ*9 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 8e0."o.6 4.10.3 沉积密度 59 B}d.#G+_$x 4.10.4 平行和楔形介质 60 \M]-bw` 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 w{ `|N$ 4.10.4 性能 61 wNE$6 4.10.5 保存设计和性能 64 Q:6VYONN 4.10.6 默认设计 64 eo^/c+FG 4.11 图表 64 TCvSc\Q[:1 4.11.1 合并曲线图 67 ^/Sh=4=G 4.11.2 自适应绘制 68 A"Q@W<. 4.11.3 动态绘图 68 uIMe 4.11.4 3D绘图 69 xv7"WFb 4.12 导入和导出 73 N~ANjn/wL 4.12.1 剪贴板 73 djT5X 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 6k?`:QK/sl 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 6aOp[-Le 4.13 背景 77 N]5m(@h
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 _x1EZ&dh 4.15 生成Rugate 84 \.e4.[%[2- 4.16 参考文献 91 G[idN3+# 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 R|!B,b( 5.1 Jobs 92 +Zk,2ri 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ZkB3[$4C=5 5.3 输入材料 94 w?csV8ot 5.4 设计数据文件夹 95 !.fw,!}hOD 5.5 默认设计 95 NHX>2-b 6 细化和合成 97 ;K:8#XuV 6.1 优化介绍 97 i[semo\E 6.2 细化 (Refinement) 98 #f'DEo<b 6.3 合成 (Synthesis) 100 TOI4?D] 6.4 目标和评价函数 101 P"7ow- 6.4.1 目标输入 102 MEwdw3 6.4.2 目标 103 5nCu~<uJ 6.4.3 特殊的评价函数 104 GIHpSy`z 6.5 层锁定和连接 104 6ew "fCrH! 6.6 细化技术 104 @{Py % 6.6.1 单纯形 105 ;BH>3VK 6.6.1.1 单纯形参数 106 fMK#x\.4 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 -pTI? 6.6.2.1 Optimac参数 108 r{+aeLu 6.6.3 模拟退火算法 109 L*?!Z^k 6.6.3.1 模拟退火参数 109 G5]1s 6.6.4 共轭梯度 111 =?0QqCjK) 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 +lO'wa7|3 6.6.5 拟牛顿法 112 i~qfGl p6) 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 #-u [$TA 6.6.6 针合成 113 UCqs}U8 6.6.6.1 针合成参数 114 zXc}W*ymj 6.6.7 差分进化 114 Qs+ k)e, 6.6.8非局部细化 115 |k-XBp 6.6.8.1非局部细化参数 115 #w3ru6*W 6.7 我应该使用哪种技术? 116 F!KV\?eM$ 6.7.1 细化 116 w.kCBDL 6.7.2 合成 117 2f:Mm'XdB 6.8 参考文献 117 T% CxvZ 7 导纳图及其他工具 118 7S2C /f 7.1 简介 118 |9NIGg'n 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 DOL%'k ?B 7.2.1 四分之一波长规则 119 -4L!k'uR 7.2.2 导纳图 120 {sS_|sX 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (N U0Tw 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 5A_4\YpDR 7.5 斜入射导纳图 141 9F_6}.O 7.6 对称周期 141 Z^tGu7x 7.7 参考文献 142 oP$kRfXS!< 8 典型的镀膜实例 143 (M% ;~y\ 8.1 单层抗反射薄膜 145
c>Z*/>~ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 @oH[SWx 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 kN'Thq/ZE 8.4 W-膜层 148 z<a2cQ?XQ 8.5 V-膜层 149 Ob&W_D^=N 8.6 V-膜层高折射基底 150 0P 5BArJ? 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ?ei%RWo 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |6B6?' 8.9 四层抗反射薄膜 153 -l.pA(O 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 8Uj: 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 3&J&^O 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 +J40wFI:y 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 :Ee ?K 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 G\/IM 8.15十五层宽带抗反射膜 159 d/B* 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 9.Ap~Ay. 8.17 1/4波长堆栈 162 (
Yi=v'd 8.18 陷波滤波器 163 <3#<I)# 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 tBl#o ^ 8.20 褶皱 165 jyjQzt
>\ 8.21 消偏振分光器1 169 rdI]\UH 8.22 消偏振分光器2 171 2NR7V*A 8.23 消偏振立体分光器 172 Nu.
(viQ} 8.24 消偏振截止滤光片 173 #uWE2*') 8.25 立体偏振分束器1 174 "#XtDpGk 8.26 立方偏振分束器2 177 ?Y!^I2Y6 8.27 相位延迟器 178 y*KC*/'" 8.28 红外截止器 179 4hNwKe"Ki 8.29 21层长波带通滤波器 180 u[mY!(>nQ 8.30 49层长波带通滤波器 181 8}K"IW 8.31 55层短波带通滤波器 182 !Ud:?U 8.32 47 红外截止器 183 d
qpgf@ 8.33 宽带通滤波器 184 Z%;)@0~f 8.34 诱导透射滤波器 186 \Jf9npz3 8.35 诱导透射滤波器2 188 uri*lC 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ^cb)f_90 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 u
!.DnKu 8.35 增益平坦滤波器 193 cI3KB-lM# 8.38 啁啾反射镜 1 196 aL 8Gnqf2 8.39 啁啾反射镜2 198 eRVY.E< 8.40 啁啾反射镜3 199 uA^hCh-js 8.41 带保护层的铝膜层 200 9RB`$5F;
8.42 增加铝反射率膜 201 z1}1*F" 8.43 参考文献 202 pDmK 9 多层膜 204 4n4j=x]@ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 1(#RN9 9.2 内部透过率 204 W1< |