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Essential Macleod中文手册》 sg! =Q+ :kf3_?9rc 目 录 1A,4Aw< -9tXv+v? ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 SdEb[ 第1章 介绍 ..........................................................1 dK=D=5r, 第2章 软件安装 ..................................................... 3 j`LT`p"9S 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ve64-D 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 BDB zc5Q( 第5章 软件结构 ............................................................... 21 ^c;skV&S 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 2vk8+LA(6 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 MJ*oeI!.= 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ?kT~)k 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 x~3>1Wr#M 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 #b]}cwd! 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 B?/12+sR 第12章 优化和综合 ..................................................................120 LyCV_6;D 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 @; j0c_^"! 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 H|(*$!~e 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 d ~Z:$&r 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 \nWzn4f 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 6):sO/es 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 g-T X;( 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 {~B4F}ES 第20章 运行表单 .................................................................... 251 %n V@'3EI 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 .{Eg(1At 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 duiKFNYN 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 hQW#a]]V: 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 HzO0K=Z=R0 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ]i_):@ 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 R!M|k%( 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 #L+s%OJ` 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312
Do{*cSd 8Vg`;_ - 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 lw/
m0}it |L~gNC 价 格:400元 DrVbx XN 0RT>@ 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 '!|E+P- 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) "b+3 &i| Tl0+Bq 内容简介 OM"T)4z Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 A~~|X 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 -7Y'6''~W. 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 y&O_Jyg< kH(3 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 5SPl#*W 目录 ph$&f0A6Xc Preface 1 qz_TcU' 内容简介 2 Q:xI}
]FM 目录 i >5z`SZf 1 引言 1 ^!s}2GcS` 2 光学薄膜基础 2 |H|eH~.yg& 2.1 一般规则 2 tX2>a 2.2 正交入射规则 3 ^
8Nr %NJ 2.3 斜入射规则 6 V1+o3g{} 2.4 精确计算 7 =<tJAoVV 2.5 相干性 8 =_~'G^`tu 2.6 参考文献 10 u[% J#S 3 Essential Macleod的快速预览 10 }X.8.S' 4 Essential Macleod的特点 32 7$!Bq# 4.1 容量和局限性 33 c=c.p
i"s 4.2 程序在哪里? 33 I]S(tx! 4.3 数据文件 35 0BU:(o& 4.4 设计规则 35 qi5>GX^t]b 4.5 材料数据库和资料库 37 M`g Kt(3 4.5.1材料损失 38 Jv$2wH 4.5.1材料数据库和导入材料 39 z%-"'Y] 4.5.2 材料库 41 /URj$| 4.5.3导出材料数据 43 ovRCF(Og, 4.6 常用单位 43 ok=E/77` 4.7 插值和外推法 46 #JT%]! 4.8 材料数据的平滑 50 MyR\_)P? 4.9 更多光学常数模型 54 t"@|;uPAu 4.10 文档的一般编辑规则 55 %Zi,nHg8 4.11 撤销和重做 56 <8}9s9Nk 4.12 设计文档 57 &I">{J< 4.10.1 公式 58 pmXWI`s 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ="PywZ 4.10.3 沉积密度 59 #T#FUI1p 4.10.4 平行和楔形介质 60 '{_tDboY 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 R=f5:8D<- 4.10.4 性能 61 (TK
cSVR 4.10.5 保存设计和性能 64 \V7x3*nA 4.10.6 默认设计 64 p<.!::* %( 4.11 图表 64 ^|axt VhMO 4.11.1 合并曲线图 67 ZkG##Jp\> 4.11.2 自适应绘制 68 o0v m?CL# 4.11.3 动态绘图 68 Kof-;T 4.11.4 3D绘图 69 ,DsT:8 4.12 导入和导出 73 &b:Zln.j 4.12.1 剪贴板 73 m*WEge*$t 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 <L[)P{jn?p 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 e&I.kC"j6 4.13 背景 77 { l~T~3/i 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 '3,JL! 4.15 生成Rugate 84 [+2^n7R 4.16 参考文献 91 (>% Vj 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 p5 PON0dS 5.1 Jobs 92 p~y
4q4 5.2 创建一个新Job(工作) 93 uX!y,a/" 5.3 输入材料 94 P>cJ~FM 5.4 设计数据文件夹 95 aQ3vG08L> 5.5 默认设计 95 wH5O>4LO 6 细化和合成 97 W;*vcbP 6.1 优化介绍 97 1;sAt;/W8 6.2 细化 (Refinement) 98
j7%%/%$o[ 6.3 合成 (Synthesis) 100 IBHG1<3 6.4 目标和评价函数 101 t z>X'L 6.4.1 目标输入 102 'Z%aBCM 6.4.2 目标 103 gM:oP. 6.4.3 特殊的评价函数 104 y3$\ m 6.5 层锁定和连接 104 %Y[/Ucdm 6.6 细化技术 104 lY8Qy2k| 6.6.1 单纯形 105 Hw3E S 6.6.1.1 单纯形参数 106 jWjK -q@Y 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ziip*<a!_ 6.6.2.1 Optimac参数 108 8i~'~/x 6.6.3 模拟退火算法 109 U-:Z^+Y 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ^E,UcK; 6.6.4 共轭梯度 111 VZl0)YLK 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 7"U,N;y 6.6.5 拟牛顿法 112 ijSYQ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 "K=)J'/n 6.6.6 针合成 113 `t"Kq+ 6.6.6.1 针合成参数 114 lY,1 w 6.6.7 差分进化 114 iC\=U 6.6.8非局部细化 115 S;kc{? 6.6.8.1非局部细化参数 115 N>iCb:_
T; 6.7 我应该使用哪种技术? 116 (8/xSOZ[ 6.7.1 细化 116 !KW)* 6.7.2 合成 117 Vi~+C@96 6.8 参考文献 117 tG&B D\ 7 导纳图及其他工具 118 -B! TA0=oJ 7.1 简介 118 dXN&<Q, 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
$VNn`0^gF 7.2.1 四分之一波长规则 119 'GT`%c k 7.2.2 导纳图 120 7i\[Q8f 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 2,`mNjHh 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 k !r z8S" 7.5 斜入射导纳图 141 f2XD^:Gc 7.6 对称周期 141 5Uz(Bi 7.7 参考文献 142 AE~}^(G` 8 典型的镀膜实例 143 7guxkN# 8.1 单层抗反射薄膜 145 }e|]G,NZO 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 |bUmkw 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ou4?`JF)- 8.4 W-膜层 148 %gB0D8,vo 8.5 V-膜层 149 x=+H@YO\ 8.6 V-膜层高折射基底 150 |]^! 4[!U 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ,X):2_m 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ~)(Dm+vZ 8.9 四层抗反射薄膜 153 -I<`!kH* 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 CKx}.<_ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ,\"gN5[$( 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 7qp|Msf}, 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 I<f M8t.Y> 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 X ^)5O>>|t 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ax }Xsk_ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 g_=ZcGC 8.17 1/4波长堆栈 162 an@Ue7 8.18 陷波滤波器 163 KO7cZME 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 [Y+bW#' 8.20 褶皱 165 `UPmr50Wq 8.21 消偏振分光器1 169 HX^
P9jXT 8.22 消偏振分光器2 171 1k(*o.6 8.23 消偏振立体分光器 172 \`&fr+x 8.24 消偏振截止滤光片 173 -JkO[IF 8.25 立体偏振分束器1 174 =@ RVLml 8.26 立方偏振分束器2 177 Ac%K+Pgk. 8.27 相位延迟器 178 T9yW# . 8.28 红外截止器 179 =$J2 8.29 21层长波带通滤波器 180 ponvi42u 8.30 49层长波带通滤波器 181 5}VP-04vh 8.31 55层短波带通滤波器 182 Nq3P?I(< 8.32 47 红外截止器 183 >Li?@+Zl 8.33 宽带通滤波器 184 (6b%;2k
8.34 诱导透射滤波器 186 chbs9y0 8.35 诱导透射滤波器2 188 Fh;(1X75I 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ;E_{Zji_e 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Mf"B!WU>]B 8.35 增益平坦滤波器 193 )i>KgX 8.38 啁啾反射镜 1 196 4B
6Aw? 8.39 啁啾反射镜2 198 ce\-oT 8.40 啁啾反射镜3 199 ;DpK*A 8.41 带保护层的铝膜层 200 ml2HA4X&$Y 8.42 增加铝反射率膜 201 ^W*/!q7H 8.43 参考文献 202 7085&\9 9 多层膜 204 h
!1c(UR 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 7BnP,Nd"W 9.2 内部透过率 204
I._=q 9.3 内部透射率数据 205 gsAO<Fy 9.4 实例 206 ~gD'up@$/ 9.5 实例2 210 AseY.0 9.6 圆锥和带宽计算 212 cE[lB08 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 5;*C0m2%i 10 光学薄膜的颜色 216 "lt[)3* 10.1 导言 216 D.~t#a A 10.2 色彩 216 kaLRI|hC 10.3 主波长和纯度 220 ]n_A~Yr 10.4 色相和纯度 221 $Z4p$o
dk 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 qJsEKuOs 10.6 色差 226 f~Su F,o@h 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 GupKM%kM 10.8 颜色渲染指数 234 =/;(qy9.-R 10.9 色差计算 235 ?.H*!u+9> 10.10 参考文献 236 ,&$Y2+ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 9UZX+@[F 11.1 短脉冲 238 J.*=7zmw 11.2 群速度 239 %F7k| Na 11.3 群速度色散 241 %9K@`v- 11.4 啁啾(chirped) 245 h7{W-AtM7_ 11.5 光学薄膜—相变 245 hI
yfF 11.6 群延迟和延迟色散 246 cVMTT]cj1 11.7 色度色散 246 7RZ7q@@fgh 11.8 色散补偿 249 Ic*Q(X 11.9 空间光线偏移 256 bYz:gbs]4| 11.10 参考文献 258 M:~#"lfK 12 公差与误差 260 [,c>-jA5 12.1 蒙特卡罗模型 260 =J,:j[D( 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 F=#Wfl-o 12.2.1 误差工具 267 f"Z2& |