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Essential Macleod中文手册》 1u*
(=! B+'w'e$6 目 录 v1NFz>Hx 2T"[$iH!7 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 U71A#OD^U 第1章 介绍 ..........................................................1 A.!3{pAb 第2章 软件安装 ..................................................... 3 ,nw5 M.D_ 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 MR* %lZpB 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {Q0DHNP(G 第5章 软件结构 ............................................................... 21 S~ y.>X3"P 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 <9Ytv|t@0 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 $bk_%R}s 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 7.
eiM!7g 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ><)fK5x 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 u3PM 7z!~ 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 t\ 9Y)d 第12章 优化和综合 ..................................................................120 7{[i) 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 <yKyM#4X 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 (8GA;:G7G 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 %bhFl,tL 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 W6yz/{Rf 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 :XO7#P 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 aS+i`A :a 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 B=i%Z_r]w 第20章 运行表单 .................................................................... 251 rT{2 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 TyaK_XW 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284
&y7~
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 .zdmUS: 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 H4e2#]*i7 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Nbm$ta 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 X'cm0}2 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 R)GDsgXy 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /<IXCM. liH1r1M 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 yL3F '/F~vSQsR 价 格:400元 bj+foNvu\ zvbz3 a 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 YZ5[# E@l 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) V8z*mnD @<p9O0 内容简介 dcN4N5r Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Dzw>[
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 IpsV4nmnz- 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 S!~p/bB[+I bY=Yb 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ~*G}+Ur$2 目录 KRj3??b Preface 1 P6 mDwR 内容简介 2
`AELe_ 目录 i koT: r 1 引言 1 !9=Y(rb 2 光学薄膜基础 2 T;B/Wm!x 2.1 一般规则 2 d/Fy0=0 2.2 正交入射规则 3 :N:e3$c 2.3 斜入射规则 6 LQa1p 2.4 精确计算 7 wRE2rsXoU 2.5 相干性 8
d>1#| 2.6 参考文献 10 i8(n( 3 Essential Macleod的快速预览 10 eLop}*k 4 Essential Macleod的特点 32 6NzS < 4.1 容量和局限性 33 AKKVd%
P( 4.2 程序在哪里? 33 -<q@0IYyi 4.3 数据文件 35
8B7,qxZ 4.4 设计规则 35 wEbO|S+K1 4.5 材料数据库和资料库 37 )yv~wi 4.5.1材料损失 38 uGS^*W$ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 .h;X5q1 4.5.2 材料库 41
1O@cev; 4.5.3导出材料数据 43 v1Jg8L= 4.6 常用单位 43 AG,;1b,:81 4.7 插值和外推法 46 iM s(Ywak] 4.8 材料数据的平滑 50 ;F>I+l_X 4.9 更多光学常数模型 54 4S,/Z{ J. 4.10 文档的一般编辑规则 55 ;JR_z'< 4.11 撤销和重做 56 Hbz,3{o5 4.12 设计文档 57 yg@}j 4.10.1 公式 58 <x1H:8A 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 m}fY5r<<;/ 4.10.3 沉积密度 59 :X-\!w\ 4.10.4 平行和楔形介质 60 T
^z Mm 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 n(el 4.10.4 性能 61 =`BPGfCb 4.10.5 保存设计和性能 64 ]7_O#MY1 4.10.6 默认设计 64 9 kS;_(DB 4.11 图表 64 jQ\/R~)O 4.11.1 合并曲线图 67 ogKd}qTov 4.11.2 自适应绘制 68 G X>T~i\f8 4.11.3 动态绘图 68 +N!!Z2 4.11.4 3D绘图 69 ?VT
]bxb 4.12 导入和导出 73 f%TP>)jag! 4.12.1 剪贴板 73 [$(/H; 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 FuZLE%gP 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Z~Z+Yt;,9a 4.13 背景 77
.)XJ- 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 cdsF<tpy 4.15 生成Rugate 84 Ry iS 4.16 参考文献 91 i"C?6R 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 I~I$/j]e` 5.1 Jobs 92 ^,;8ra*h 5.2 创建一个新Job(工作) 93 $;%dQ!7* 5.3 输入材料 94 >iB-gj}>X 5.4 设计数据文件夹 95 Q\<^ih51 5.5 默认设计 95 IpMZ{kJlv` 6 细化和合成 97 7u7 <"?v= 6.1 优化介绍 97 'P?DZE 6.2 细化 (Refinement) 98 $5m_)]w4a 6.3 合成 (Synthesis) 100 zE<G wVI~ 6.4 目标和评价函数 101 V{G9E 6.4.1 目标输入 102 PyfOBse}r 6.4.2 目标 103 C:d$ 6.4.3 特殊的评价函数 104 6J%+pt[tu 6.5 层锁定和连接 104 A4uDuB;;ZQ 6.6 细化技术 104 Eq?d+s> 6.6.1 单纯形 105 yS:1F
PA$_ 6.6.1.1 单纯形参数 106 r=ds'n" 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 P&@[ j0 6.6.2.1 Optimac参数 108 0Ku%9wh- 6.6.3 模拟退火算法 109 (">gLr 6.6.3.1 模拟退火参数 109 a0ze7F<( 6.6.4 共轭梯度 111 R]{AJ"p 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 qP0_#l& 6.6.5 拟牛顿法 112 f@a@R$y 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 5U/1Z{ 6.6.6 针合成 113 i\?P>:) 6.6.6.1 针合成参数 114 5=.EngG 6.6.7 差分进化 114 Z"fnjH 6.6.8非局部细化 115 p@7[w@B\c 6.6.8.1非局部细化参数 115 mjqVP. 6.7 我应该使用哪种技术? 116
b(~
gQM 6.7.1 细化 116 1$Pn;jg: 6.7.2 合成 117 |O]oX[~ 6.8 参考文献 117 | <ZkJR3B 7 导纳图及其他工具 118 W}5 H'D 7.1 简介 118 qm)KO 4 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 sR. ecs+ 7.2.1 四分之一波长规则 119 zz4A,XrD 7.2.2 导纳图 120 ep<2u
x 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 afMIq Q? 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 <IBzh_ 7.5 斜入射导纳图 141 Y Hv85y 7.6 对称周期 141 g{cHh(S 7.7 参考文献 142 #)BdN 8 典型的镀膜实例 143 ^vJ PeoW 8.1 单层抗反射薄膜 145 F W # S.< 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 X=p~`Ar M{ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 q_N8JQg 8.4 W-膜层 148 $bU|'}QR 8.5 V-膜层 149 }hFjl4`xa 8.6 V-膜层高折射基底 150 ya'@AJS 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 fodr1M4J 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 nV0"q|0K; 8.9 四层抗反射薄膜 153 "]nbM}> 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 *S.2p*Vd 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 -hP@L ++D 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 M,Px.@tw. 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 swVq%]')" 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 d*lnXzQor 8.15十五层宽带抗反射膜 159 m GWT</=[$ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 e.0vh?{\ 8.17 1/4波长堆栈 162 ,diV;d 8.18 陷波滤波器 163 ud`.}H~aB 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 q*ZjOqj 8.20 褶皱 165 >Tld: 8.21 消偏振分光器1 169 3
SQ_9{ 8.22 消偏振分光器2 171 BcT|TX+ct 8.23 消偏振立体分光器 172 v5t`?+e 8.24 消偏振截止滤光片 173 qx"?')+ 8.25 立体偏振分束器1 174 NDRk%_Eu( 8.26 立方偏振分束器2 177 *Df|D/,WE 8.27 相位延迟器 178 [j5^Zb&0 8.28 红外截止器 179 c(bh i 8.29 21层长波带通滤波器 180 nYuZg6K 8.30 49层长波带通滤波器 181 =ot`V; Q> 8.31 55层短波带通滤波器 182 {nbD5 ? 8.32 47 红外截止器 183 eN%Ks 8.33 宽带通滤波器 184 zu}h3n5 8.34 诱导透射滤波器 186 '8>#`Yba 8.35 诱导透射滤波器2 188 &,fBg6A% 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 #cQ[ vE)y 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 h"YIAQ', 8.35 增益平坦滤波器 193 fj 19U9R 8.38 啁啾反射镜 1 196 oj<.axA, 8.39 啁啾反射镜2 198 odquAqn 8.40 啁啾反射镜3 199 =? x A*_^ 8.41 带保护层的铝膜层 200 h2KXW}y"4 8.42 增加铝反射率膜 201 nrA}36 E 8.43 参考文献 202 UsYH#?|O 9 多层膜 204 X63DBF4A 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 q]5"V>D \ 9.2 内部透过率 204 -Tk~c1I#` 9.3 内部透射率数据 205 _qmBPUx 9.4 实例 206 Xig+[2zS 9.5 实例2 210 ,KIa+&vJW@ 9.6 圆锥和带宽计算 212 )j@k[}R#g 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 wLU w'Ai 10 光学薄膜的颜色 216 N`grr{*_ 10.1 导言 216 "aP>}5<h 10.2 色彩 216 i<1w*yu 10.3 主波长和纯度 220 R6)p4#|i 10.4 色相和纯度 221 .dp~%!"Sn, 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ~/\;7E{8! 10.6 色差 226 m{x!uq 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 :M ix*NCf 10.8 颜色渲染指数 234 788q<7E 10.9 色差计算 235 d Z"bc]z{ 10.10 参考文献 236 mw`%xID* 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 t_,iV9NrZ 11.1 短脉冲 238 G+'MTC_ 11.2 群速度 239 GwwxSB&y 11.3 群速度色散 241 0'|#Hi7@ 11.4 啁啾(chirped) 245 4lb3quY$Us 11.5 光学薄膜—相变 245 \Ul*Nsw 11.6 群延迟和延迟色散 246 & HphE2 h 11.7 色度色散 246 ,h5.Si> 11.8 色散补偿 249 QD<^VY6 11.9 空间光线偏移 256 0c7&J?"wE 11.10 参考文献 258 P}&7G- 12 公差与误差 260 N!"GwH 12.1 蒙特卡罗模型 260 1w+&Y;d| 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 h:# 12.2.1 误差工具 267 m3 (fr 12.2.2 灵敏度工具 271 [4Glt>Nj> 12.2.2.1 独立灵敏度 271
`Xmf4 12.2.2.2 灵敏度分布 275 mbd 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ))G%C6- 12.3 参考文献 276 ,A
=%!p+ 13 Runsheet 与Simulator 277 x7Ly, 13.1 原理介绍 277 \D, 0 13.2 截止滤光片设计 277 XOgX0cRC4 14 光学常数提取 289 x;Dr40wD@y 14.1 介绍 289 '_r|L1 14.2 电介质薄膜 289 U`:#+8h-} 14.3 n 和k 的提取工具 295 dm.?-u;C 14.4 基底的参数提取 302 z=>]E1'RL 14.5 金属的参数提取 306 A0O$B7ylQ 14.6 不正确的模型 306 j^iH[pN] \ 14.7 参考文献 311 N_q7ip%z 15 反演工程 313 >S5D-)VX 15.1 随机性和系统性 313 !j %)nU 15.2 常见的系统性问题 314 SY <!-g<1F 15.3 单层膜 314 s.C-II?e 15.4 多层膜 314 !pw%l4]/t 15.5 含义 319 $hndb+6q 15.6 反演工程实例 319 :
[aUpX= 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 \~jt7 Q 15.6.2 反演工程提取折射率 327 4=F~^Xc` 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 ;n7k_K#0z! 16.1 光学性质的热致偏移 329 CL9p/PJ%e 16.2 应力工具 335 ,O3"r; 16.3 均匀性误差 339 cy^6g?ew 16.3.1 圆锥工具 339 Yq`r>g 16.3.2 波前问题 341 \RMYaI^+; 16.4 参考文献 343 kt X(\Hf! 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 E;VW6[M 17.1 引言 345 T"9`[Lzva 17.2 操作数 345 1;vn*w`p 18 如何在Function中编写脚本 351 a/L?R
Uu 18.1 简介 351 r^ #.yUz 18.2 什么是脚本? 351 a/_sL(F{ 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 "M_X9n_ 18.4 基础 352 @WBy:gV" 18.4.1 Classes(类别) 352 C"IPCJYn 18.4.2 对象 352 S:rW}r J 18.4.3 信息(Messages) 352 HEjV7g0E 18.4.4 属性 352 /o8`I
m 18.4.5 方法 353 jh\q2E~,` 18.4.6 变量声明 353
8EbYk2j 18.5 创建对象 354 4X#>; 18.5.1 创建对象函数 355 2lAuO!% 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 Eto0>YyZ 18.5.3 丢弃对象 356 'OBAnE<. 18.5.4 总结 356 K.l?R#G`,F 18.6 脚本中的表格 357 e
*;"$7o9 18.6.1 方法1 357 g"#R>&P 18.6.2 方法2 357 YDjQ&EH 18.7 2D Plots in Scripts 358 f_D1zU^ 18.8 3D Plots in Scripts 359 *|euC"5c 18.9 注释 360 IO^O9IEx, 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 b LL!iz? 18.11 一个更高级的脚本 362 (zJ
TBI' 18.12 <esc>键 364 6G@_!i*2F 18.13 包含文件 365 [u)^QgP 18.14 脚本被优化调用 366 3gv>AgG 18.15 脚本中的对话框 368 |P5?0{ 18.15.1 介绍 368 68 - I2@& 18.15.2 消息框-MsgBox 368 ;EFs2-{K 18.15.3 输入框函数 370 *RxbqB- 18.15.4 自定义对话框 371 : ]CZS 18.15.5 对话框编辑器 371 =B<g_9d4 18.15.6 控制对话框 377 LsV!Sd 18.15.7 更高级的对话框 380 QdC>fy 18.16 Types语句 384 zq{L:.#ha 18.17 打开文件 385 N^mY/`2 18.18 Bags 387 y3;G<9K2c] 18.13 进一步研究 388 Q*mPU=< 19 vStack 389 P-^Z7^o-bX 19.1 vStack基本原理 389 ub,Sj{Mq" 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 2+"# 19.3 五棱镜 393 J#:%| F% 19.4 光束距离 396 IWm|6@y 19.5 误差 399 ;zSh9H 19.6 二向分色棱镜 399 lpSM p 19.7 偏振泄漏 404 (O& |