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Essential Macleod中文手册》 `Xc~'zG
)o`|t 目 录 a[Ah o9(:m ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 0k>bsn/j 第1章 介绍 ..........................................................1 {u{n b3/jl 第2章 软件安装 ..................................................... 3 $ jWe!]ASU 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 a6wPkf7-H 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 (2RZc].M~ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 +)k%jIi! 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 0-M.>fwZ= 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 WPs6)8 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 FloCR=^H 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 : KhAf2A 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 m/Ou$ 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 JWoNP/v6 第12章 优化和综合 ..................................................................120 R*VRxQ,h6+ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 m^Qc9s#D 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 N_(qMW 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Q '/v-bd?o 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 4/vQ/>c2j 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Yj)H!Cp.xD 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 h}r .(MVt 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ))- B`vi 第20章 运行表单 .................................................................... 251 B*!{LjXV 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 EVZuwbO)| 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 %MGbIMpY 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 LlOUK2tZ 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 P>n}\"z4 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 aqJ>l}{ 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 )F*;7]f 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 d+[GMIxg 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 gg
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#0e:7< 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
cc`+rD5I- HjCcfOej 价 格:400元 #~QkS_ 'qel3Fs" 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 TK^9!3 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) 50h?#u6? Af y\:&j 内容简介 P(AcDG6K Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 whFaL}2C 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 U0>Uqk", 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 }\Kki o+Cd\D69S 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Q#!|h:K 目录 N~Zcrt_D Preface 1 <g9@iUOI 内容简介 2 [C_Dv-d 目录 i t$+[(}@+ 1 引言 1 4'EC(NR7N 2 光学薄膜基础 2 %z1y3I|`[t 2.1 一般规则 2 a2Q_K2t 2.2 正交入射规则 3 ,F^Rz. 2.3 斜入射规则 6 K`%{(^}. 2.4 精确计算 7 (.[HE
~ s? 2.5 相干性 8 )/uu~9SFd 2.6 参考文献 10 JSO'. [N 3 Essential Macleod的快速预览 10 q8 jI
y@ 4 Essential Macleod的特点 32 sUl/9VKl 4.1 容量和局限性 33 =?9z6= 4.2 程序在哪里? 33 1:{BC2P 4.3 数据文件 35 6IRzm6d 4.4 设计规则 35 1=NP=ZB 4.5 材料数据库和资料库 37 lHl1Ny\? 4.5.1材料损失 38 {Ee[rAVGp 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Zq[aC0%+ 4.5.2 材料库 41 M{)7C,' 4.5.3导出材料数据 43 0=g~ozEW& 4.6 常用单位 43 .MUoNk! 4.7 插值和外推法 46 a[).'$S}' 4.8 材料数据的平滑 50 %N.qu_,IZ 4.9 更多光学常数模型 54 -%I 0Q 4.10 文档的一般编辑规则 55 #0*OkZMt 4.11 撤销和重做 56 (>.+tq} 4.12 设计文档 57 JY6&CL`C 4.10.1 公式 58 *.g@6IkAQ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 P`ZYm 4.10.3 沉积密度 59 #}y(D{z c 4.10.4 平行和楔形介质 60 8y$c\Eu(mF 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 <OR f{ 4.10.4 性能 61 )wFr%wNe 4.10.5 保存设计和性能 64 9pY`_lxa> 4.10.6 默认设计 64 F@C^nX9 4.11 图表 64 T][r'jWQ 4.11.1 合并曲线图 67 E
0k1yA 4.11.2 自适应绘制 68 R\VM6>SN'S 4.11.3 动态绘图 68 g#Doed.30= 4.11.4 3D绘图 69 aM2[<m} 4.12 导入和导出 73 ZA;VA=)\8 4.12.1 剪贴板 73 t93iU?Z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 'OERW|BO 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 "~-Y'O 4.13 背景 77 3jaY\(`%h 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 DnY7$']"| 4.15 生成Rugate 84 ;R#:? r;t 4.16 参考文献 91 k~P{Rm;F 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 +0)zB;~7 5.1 Jobs 92 ? FlV<nE"J 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ;Xzay| 5.3 输入材料 94 ~wX4j 5.4 设计数据文件夹 95 $IdY(f:.:5 5.5 默认设计 95 Xfq]vQ/{ 6 细化和合成 97 ?n]e5R(cj 6.1 优化介绍 97 =2BB ~\G+ 6.2 细化 (Refinement) 98 @qGg=)T 6.3 合成 (Synthesis) 100 J &<uP)< 6.4 目标和评价函数 101 QqS?- 6.4.1 目标输入 102 s3.,
N| 6.4.2 目标 103 `/1Zy}cD 6.4.3 特殊的评价函数 104 r]0UF0# 6.5 层锁定和连接 104 1zz.`.R2U 6.6 细化技术 104 g;M\4o 6.6.1 单纯形 105 5[1#d\QR 6.6.1.1 单纯形参数 106 Qey6E9eCA 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 4
Ii@_r> 6.6.2.1 Optimac参数 108 Q302!N 6.6.3 模拟退火算法 109 WecJ^{g>r{ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 $ZQ?E^> B 6.6.4 共轭梯度 111 8G SO] R 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 e>oE{_e 6.6.5 拟牛顿法 112 OR\-%JX/5 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 FyZ iiH4| 6.6.6 针合成 113 =XT'D@q~W 6.6.6.1 针合成参数 114 o`@B*, @ 6.6.7 差分进化 114 ^edg@fp 6.6.8非局部细化 115 ji &*0GJQ 6.6.8.1非局部细化参数 115 <_|H]^o 6.7 我应该使用哪种技术? 116 YBX7WZCR 6.7.1 细化 116 d\cwUXf
J 6.7.2 合成 117 /)ubyl]^p 6.8 参考文献 117 Z_^v#FJ'l 7 导纳图及其他工具 118 Nr#Y]9nA 7.1 简介 118 x_&m$Fh 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 qwb`8o 7.2.1 四分之一波长规则 119 }UzO_&Z#6 7.2.2 导纳图 120 c0 H8FF3 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 &<u
pj b 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 iZ`1Dzxgk 7.5 斜入射导纳图 141 [|sKu#yW 7.6 对称周期 141 I:~L!% 7.7 参考文献 142 AR}M*sSh 8 典型的镀膜实例 143 h= 3156M 8.1 单层抗反射薄膜 145 x+O}R D*G 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 GMw|@?:{ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ,H3C\.%w\ 8.4 W-膜层 148 -9S.G 8.5 V-膜层 149 n9zS'VU 8.6 V-膜层高折射基底 150 VesO/xG< 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ,{C(<1 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 VD\pQ.= 8.9 四层抗反射薄膜 153 D&WXa|EOK 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 lA4Bq 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 4*UoTE-g$ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Qa,^;hZWS 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Bx&.Tj 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 tPS.r.0#^ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 TsPO+x$l 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 + R)x5 8.17 1/4波长堆栈 162 ;y#6Nx,: 8.18 陷波滤波器 163 [@}{sH(#Ta 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ?=<vC 8.20 褶皱 165 Zq|oj^ 8.21 消偏振分光器1 169 }9=\#Le~\ 8.22 消偏振分光器2 171 #lyvb.; 8.23 消偏振立体分光器 172 6e@
O88= 8.24 消偏振截止滤光片 173 (8s]2\/Ar 8.25 立体偏振分束器1 174 (k"oV>a| 8.26 立方偏振分束器2 177 KJa?TwnC 8.27 相位延迟器 178 1K'0ajl1A 8.28 红外截止器 179 =+{.I,g}g@ 8.29 21层长波带通滤波器 180 %r5&CUE5? 8.30 49层长波带通滤波器 181 sBIqee'T 8.31 55层短波带通滤波器 182 ?6
8.32 47 红外截止器 183 F9e$2J)C 8.33 宽带通滤波器 184 'f`~"@ 8.34 诱导透射滤波器 186 Z'GOp? 8.35 诱导透射滤波器2 188 Jkt
L|u:k 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 yI9l*' 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 *DX6m 8.35 增益平坦滤波器 193 'uUp1+ 8.38 啁啾反射镜 1 196 $JTy`g0>x 8.39 啁啾反射镜2 198 p5C
sw5 8.40 啁啾反射镜3 199 1fL@rR 8.41 带保护层的铝膜层 200 uNnwz%w 8.42 增加铝反射率膜 201 L{~L6:6An 8.43 参考文献 202 =~Jv*c 9 多层膜 204 asR6,k 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 <Ebkb3_ 9.2 内部透过率 204 ) BTJs)E 9.3 内部透射率数据 205 &a8#qv"l 9.4 实例 206 Ms(;B* 9.5 实例2 210 iQ-;0< |