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^(*eo e 内容简介 g6q[
I8 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 &Ai+t2 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 q:_-#u 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 H2_6m5[&, gYL#} ) g 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 787i4h:71 目录 ZA4sEVHW Preface 1 GyE5jh2 内容简介 2 ~@^ pX*%i 目录 i *XXa9z 1 引言 1 Ob'[W;p)[w 2 光学薄膜基础 2 ]:6IW: 2.1 一般规则 2 C-2#-{< 2.2 正交入射规则 3 gZ(\/m8Z 2.3 斜入射规则 6 u_=>r_J[b 2.4 精确计算 7 `)jAdad-s 2.5 相干性 8 K>+c2;t; 2.6 参考文献 10 N8wA">u 3 Essential Macleod的快速预览 10 o<S(ODOfi 4 Essential Macleod的特点 32 M4XU*piz 4.1 容量和局限性 33 =rNI&K_< 4.2 程序在哪里? 33 E-rGOm" m 4.3 数据文件 35 ?cr^.LV|h^ 4.4 设计规则 35 $+
\JT/eG9 4.5 材料数据库和资料库 37 c}7Rt|`c 4.5.1材料损失 38 Nrp1`qY 4.5.1材料数据库和导入材料 39 e=6C0fr 4.5.2 材料库 41 }5gQ dj[Y 4.5.3导出材料数据 43 !"^//2N+, 4.6 常用单位 43 g<4@5OQKu 4.7 插值和外推法 46 O~bzTn 4.8 材料数据的平滑 50 LZpqv~av 4.9 更多光学常数模型 54 o
3 G* 4.10 文档的一般编辑规则 55 mVyF M -` 4.11 撤销和重做 56 [{-;cpM\ 4.12 设计文档 57 k5Df97\s 4.10.1 公式 58 WGMEZx 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 sU?%"q 4.10.3 沉积密度 59 SR'u*u! 4.10.4 平行和楔形介质 60 6c#1Do(W+ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 )e\IdKl= 4.10.4 性能 61 rcMSso2 4.10.5 保存设计和性能 64 DmpD`^?-L 4.10.6 默认设计 64 x_KJCU 4.11 图表 64 &FzZpH 4.11.1 合并曲线图 67 NHzhGg] 4.11.2 自适应绘制 68 (^Hpe5h& 4.11.3 动态绘图 68 a^GJR]]
{ 4.11.4 3D绘图 69 4}HY= 0Um 4.12 导入和导出 73 RS[QZOoW} 4.12.1 剪贴板 73 czp}-{4X 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 sZPA(N? 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 h-:te9p6>4 4.13 背景 77 w>gB&59r 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 h.h\)>DM@ 4.15 生成Rugate 84 Zut"P3d=J 4.16 参考文献 91 1lQO`CmR6M 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 H(j983 5.1 Jobs 92 V> @+&q 5.2 创建一个新Job(工作) 93 eB*0}) 5.3 输入材料 94 T|Fl$is 5.4 设计数据文件夹 95 f+W %X 5.5 默认设计 95 CrI:TB>/" 6 细化和合成 97 n[`FoY 6.1 优化介绍 97 9TbRrS09 6.2 细化 (Refinement) 98 &,~Oi(SX5 6.3 合成 (Synthesis) 100 p{4nWeH?B 6.4 目标和评价函数 101 dJD8c2G 6.4.1 目标输入 102 loFApBD=$^ 6.4.2 目标 103 \$[S=&E 6.4.3 特殊的评价函数 104 z#elwL6 6.5 层锁定和连接 104 wLz@u$u? 6.6 细化技术 104 P+nd?:cz 6.6.1 单纯形 105 uMe]].04 6.6.1.1 单纯形参数 106 aaM76; 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 P<A_7Ho 6.6.2.1 Optimac参数 108 ?#P@N4Uw}y 6.6.3 模拟退火算法 109 JQ)w/@Vu= 6.6.3.1 模拟退火参数 109 /KH,11)yc 6.6.4 共轭梯度 111 '&hk? 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 f/NfvLi(AU 6.6.5 拟牛顿法 112 [GqQ6\ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ev;R; 0< 6.6.6 针合成 113 wXnluE 6.6.6.1 针合成参数 114 $@(+"
$ 6.6.7 差分进化 114 i j+)U` 6.6.8非局部细化 115 Q9h;`G
7t 6.6.8.1非局部细化参数 115 I[v6Y^{q 6.7 我应该使用哪种技术? 116 {
vOr'j@ 6.7.1 细化 116 Tweku}D7 6.7.2 合成 117 ruQ1Cph 6.8 参考文献 117 j!<(` 7 导纳图及其他工具 118 Y(3X5v?[ 7.1 简介 118 w[X/|O 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 %DR8M\d1~H 7.2.1 四分之一波长规则 119 2/m4| 7.2.2 导纳图 120 #XPY\n^k 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 cg]>*lH 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 yTb#V"eR 7.5 斜入射导纳图 141 6_wj,7 7.6 对称周期 141 -\V!f6Q 7.7 参考文献 142 osdl dS 8 典型的镀膜实例 143 L&L |