-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-12-11
- 在线时间1894小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
%B.yW`,X 内容简介 Kh_Lp$'0uM Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 AQwdw>I-FX 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 RtM8yar+sn 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Ug<#en V]db'qB\ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 L}pt)w*V1j 目录 =UfsL% Preface 1 Ob<{G" 内容简介 2 XY3v_5~/1F 目录 i #iHs*
/85 1 引言 1 ~S,,w1` 2 光学薄膜基础 2 V:
TM] 2.1 一般规则 2 |3KLk ?2 2.2 正交入射规则 3 TtTj28k7 2.3 斜入射规则 6 7x%R:^*4 2.4 精确计算 7 #$8% w 2.5 相干性 8 JAem0jPC8 2.6 参考文献 10 GVYkJ0, 3 Essential Macleod的快速预览 10 _dhgAx-H)h 4 Essential Macleod的特点 32 #6HA\dE 4.1 容量和局限性 33 ,tu.2VQc@ 4.2 程序在哪里? 33 NdD`Hn- 4.3 数据文件 35 /^#;d
UB 4.4 设计规则 35 Su/6Q$0 t 4.5 材料数据库和资料库 37 Tq[kl'_ 4.5.1材料损失 38 /Y2}a<3&0 4.5.1材料数据库和导入材料 39 9^#c|
0T 4.5.2 材料库 41 ~yW4)4k;b 4.5.3导出材料数据 43 P 'od` 4.6 常用单位 43 +Z!)^j 4.7 插值和外推法 46 cmU1!2.1E 4.8 材料数据的平滑 50 7 *`h/ 4.9 更多光学常数模型 54 =*c7i]@} 4.10 文档的一般编辑规则 55 (<xfCH
F5 4.11 撤销和重做 56 gL*>[@RO 4.12 设计文档 57 n|R J;d30Q 4.10.1 公式 58 =k^Y?. 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ?FpWvyz| 4.10.3 沉积密度 59 S p;G'*g 4.10.4 平行和楔形介质 60 r\-uJ~8N 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ij( B,Y 4.10.4 性能 61 E^/t$M|H 4.10.5 保存设计和性能 64 <(fRn`)PT 4.10.6 默认设计 64 oldA#sA$ 4.11 图表 64 D"2&P^- 4.11.1 合并曲线图 67 zkuU5O 4.11.2 自适应绘制 68 87
$dBb{ 4.11.3 动态绘图 68 f=r<nb'H 4.11.4 3D绘图 69 RbP6F*f 4.12 导入和导出 73 1q:2\d] 4.12.1 剪贴板 73 F`XP@Xx 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 $Y/9SV, 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 1VG4S){}\9 4.13 背景 77 xqG[~)~ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 JP!~,mdS 4.15 生成Rugate 84 = C8 ?M 4.16 参考文献 91 rrBsb - 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ( u\._Gwsx 5.1 Jobs 92 _u5#v0Y 5.2 创建一个新Job(工作) 93 .*Ct bGw 5.3 输入材料 94 F@'Jbd` 5.4 设计数据文件夹 95 .ps-4eXF 5.5 默认设计 95 e478U$ 6 细化和合成 97 p6#g;$V$ 6.1 优化介绍 97 IoQEtA 6.2 细化 (Refinement) 98 4U+xb> 6.3 合成 (Synthesis) 100 (a.z9nqGA 6.4 目标和评价函数 101 +eK"-u~K 6.4.1 目标输入 102 "/3'XOK| 6.4.2 目标 103 4ew"
%Cs* 6.4.3 特殊的评价函数 104 ~962i#&4 6.5 层锁定和连接 104 }Qn&^[[miL 6.6 细化技术 104 F;4vPbH+ 6.6.1 单纯形 105 a!7A_q8M 6.6.1.1 单纯形参数 106 ~J wb`g. 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Tc> 6.6.2.1 Optimac参数 108 :cem,#(= 6.6.3 模拟退火算法 109 &:9cAIe]H 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ;c-(ObSm 6.6.4 共轭梯度 111 &C,'x4c" 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 (C-{B[Y 6.6.5 拟牛顿法 112 nm5cpnNl 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 S;3R S; 6.6.6 针合成 113 EUD~CZhS"k 6.6.6.1 针合成参数 114 "}u.v?HYz 6.6.7 差分进化 114 NO "xL, 6.6.8非局部细化 115 Bu<M\w?7Y 6.6.8.1非局部细化参数 115 g]<4&)~ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 y~AVei& 6.7.1 细化 116 :mh_G 6.7.2 合成 117 jVv0ST*z 6.8 参考文献 117 A-Sv;/yD_ 7 导纳图及其他工具 118 xu/cq9 7.1 简介 118 R]}}$R`j 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 s@&`f{ 7.2.1 四分之一波长规则 119 :q$.,EZ4#n 7.2.2 导纳图 120 =x%dNf$e{W 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 _E &A{HkJ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 lGPUIoUo 7.5 斜入射导纳图 141 T*8VDY7 7.6 对称周期 141 \\PjKAsh 7.7 参考文献 142 T6O::o6 8 典型的镀膜实例 143 \\r)Ue] 8.1 单层抗反射薄膜 145 s:>VaGC 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 cv-PRH# 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 lP[w?O 8.4 W-膜层 148 0Is,*Srr 8.5 V-膜层 149 +X#vVD3" 8.6 V-膜层高折射基底 150 W]"zctE 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 -[*,^Ti` 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @K\~O__ 8.9 四层抗反射薄膜 153 ^W`<gR 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 k$R~R-' 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 yh Yb'GK 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 3QV *% 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 7,U=Qe; 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Pu7_
v 8.15十五层宽带抗反射膜 159 _Zp}?b5Q 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 *rM^;4Zt 8.17 1/4波长堆栈 162 j@W.&- _ 8.18 陷波滤波器 163 bZnuNYty75 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 2KB\1& |