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q"{Id 内容简介 m-$}'mEO Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 p*5_+u 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 WZ>nA [/ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2~\SUGW- E oixw8hz 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 59{X; 目录 ECi;o1hda Preface 1
3#$X 内容简介 2 ECA<%'$?E 目录 i N$e
mS 1 引言 1 ]B;`Jf 2 光学薄膜基础 2 OU.}H $x" 2.1 一般规则 2 ?7V~>i8[ 2.2 正交入射规则 3 ;<m*ASM.3 2.3 斜入射规则 6 L3HC- 2.4 精确计算 7 G=[<KtWa 2.5 相干性 8 ,x1OQ jtY 2.6 参考文献 10 qJT/48lf_ 3 Essential Macleod的快速预览 10 [/q
Bvuun 4 Essential Macleod的特点 32 E,tdn#_| 4.1 容量和局限性 33 ~n@rX=Y)]0 4.2 程序在哪里? 33 BFw_T3}zn 4.3 数据文件 35 &-qQF`7 4.4 设计规则 35 Q<u?BA/ 4.5 材料数据库和资料库 37 Lhp&RGy 4.5.1材料损失 38 9s_^?q 4.5.1材料数据库和导入材料 39 zMA;1Na 4.5.2 材料库 41 2?
yo 4.5.3导出材料数据 43 e(/F:ZEh 4.6 常用单位 43 p%meuWV%5 4.7 插值和外推法 46 &kzysv-_ 4.8 材料数据的平滑 50 2#:p:R8I> 4.9 更多光学常数模型 54 U!-Nx9 4.10 文档的一般编辑规则 55 +@^);b6 4.11 撤销和重做 56 1xEOYM) 4.12 设计文档 57 ^wWbW&<Tg 4.10.1 公式 58 Q;VuoHj! 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Z6${nUX 4.10.3 沉积密度 59 C`t@tgT 4.10.4 平行和楔形介质 60 (eU 4{X7 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 'I/_vqp@ 4.10.4 性能 61 }NyQ<,+mq& 4.10.5 保存设计和性能 64 h_#=f(.'j 4.10.6 默认设计 64 WtZI1`\qe 4.11 图表 64 8>[g/%W 4.11.1 合并曲线图 67 `WXlq#:K 4.11.2 自适应绘制 68 .\_RavW23 4.11.3 动态绘图 68 tXtNK2-1 4.11.4 3D绘图 69 I[k"I( 4.12 导入和导出 73 s.bo;lk 4.12.1 剪贴板 73 '42$O 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 9x@|%4Zm" 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ;x\oY6: 4.13 背景 77 g=4^u* 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ]Ac}+? 4.15 生成Rugate 84 RVV` 4.16 参考文献 91 1b1Ab
zN 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 :sg}e 5.1 Jobs 92 lh'S_p8g 5.2 创建一个新Job(工作) 93 nI]EfHU 5.3 输入材料 94 HQ-++;Q 5.4 设计数据文件夹 95 NCkI[d]B@ 5.5 默认设计 95 X8ap 6 细化和合成 97 PhC3F4 6.1 优化介绍 97 mF\!~ag| 6.2 细化 (Refinement) 98 1V1I[CxlX 6.3 合成 (Synthesis) 100 Cty#|6k 6.4 目标和评价函数 101 Tp;W4]'a*: 6.4.1 目标输入 102 A_9^S! 6.4.2 目标 103 $!>.h*np 6.4.3 特殊的评价函数 104 3U >-~-DS 6.5 层锁定和连接 104 { V6pC 6.6 细化技术 104 To>,8E+GAb 6.6.1 单纯形 105 RX>P-vp 6.6.1.1 单纯形参数 106 }?9&xVh?\ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 *z VN6wG{ 6.6.2.1 Optimac参数 108 1]G)41 6.6.3 模拟退火算法 109 V#dga5*] 6.6.3.1 模拟退火参数 109 vO1; ; 6.6.4 共轭梯度 111 \i_E}Ii0 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 :/|"db&` 6.6.5 拟牛顿法 112 4c<
s"2F 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 95mf 6.6.6 针合成 113 DSz[,AaR] 6.6.6.1 针合成参数 114 @ye!? % 6.6.7 差分进化 114 k B>F(^ 6.6.8非局部细化 115 vv
,4n&D 6.6.8.1非局部细化参数 115 y+ze`pL? 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ]Orx%8QS! 6.7.1 细化 116 JaY"Wfc 6.7.2 合成 117 {zAI-?#*u 6.8 参考文献 117 oa:YAqT 7 导纳图及其他工具 118 :82h GU 7.1 简介 118 sWYnoRxu 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ;yJ:W8U]+; 7.2.1 四分之一波长规则 119 }'x;J 7.2.2 导纳图 120 \2s`mCY 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 _Ub
`\ytx 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 hN'])[+V 7.5 斜入射导纳图 141 pIlEoG=[_ 7.6 对称周期 141 (P)G|2= 7.7 参考文献 142 . ImaM 8 典型的镀膜实例 143 5X!-Hj
8.1 单层抗反射薄膜 145 |HK:\)L% 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 _HUbE / 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 +Dy^4p?o 8.4 W-膜层 148 1Nt
&+o 8.5 V-膜层 149 `}PYltW 8.6 V-膜层高折射基底 150 u;_~{VJ- 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 EraGG"+ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 I$7eiW @ 8.9 四层抗反射薄膜 153 R_PF*q2 ' 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 {.:$F3T 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 p
u(mHB 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 vamZKm~p 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 x z_sejKB 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 xR1G 8.15十五层宽带抗反射膜 159 A;TP~xq\ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 A0DGDr PD 8.17 1/4波长堆栈 162 OldOc5D 8.18 陷波滤波器 163 o:@Q1+p 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 +"?+Be 8.20 褶皱 165 q\0/6tl_ 8.21 消偏振分光器1 169 I/dy^5@F 8.22 消偏振分光器2 171 ]Ox5F@ 8.23 消偏振立体分光器 172 q\Y4v Wg 8.24 消偏振截止滤光片 173 UD.bb 8.25 立体偏振分束器1 174 0*$w(* 8.26 立方偏振分束器2 177 ":Dm/g 8.27 相位延迟器 178 &3Zq1o 8.28 红外截止器 179 |9I)YD 8.29 21层长波带通滤波器 180 E#k{<LYI 8.30 49层长波带通滤波器 181 ywa*?3?c 8.31 55层短波带通滤波器 182 [qYr~:` -[ 8.32 47 红外截止器 183 '.mepxf< f 8.33 宽带通滤波器 184 `S
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