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dY/u<4 内容简介 L$lo~7<] Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 >v1 y 0zx 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 4@v1jJj 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 XLZ j @A2/@]H Bm 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 to&N22a$ 目录 4|6&59?pnc Preface 1 "7kge z#Y 内容简介 2 'h^-t^:<>b 目录 i -@ZzG uS( 1 引言 1 Ht|",1yr+ 2 光学薄膜基础 2 #vj#! 1
2.1 一般规则 2 [,<\RviI 2.2 正交入射规则 3 3}B5hht"D 2.3 斜入射规则 6 hdd>&?p3 2.4 精确计算 7 @7@e`b? 2.5 相干性 8 'Aj(i/CM 2.6 参考文献 10 R:w%2Y 3 Essential Macleod的快速预览 10 -G],H)M 4 Essential Macleod的特点 32 6z#lN>Y-` 4.1 容量和局限性 33 b/sOfQ 4.2 程序在哪里? 33 xH<'GB) 4.3 数据文件 35 wJ+U[a 4.4 设计规则 35 bZ>&QM 4.5 材料数据库和资料库 37 D=r- 4.5.1材料损失 38 F!7f_m0= 4.5.1材料数据库和导入材料 39 cQT1Xi 4.5.2 材料库 41 908ayfVI 4.5.3导出材料数据 43 S3uyn78hI 4.6 常用单位 43 k> b&xM! 4.7 插值和外推法 46 })20Zld}a 4.8 材料数据的平滑 50 >Hih 4.9 更多光学常数模型 54 Hp\Ddx >Jd 4.10 文档的一般编辑规则 55 !2}rtDE 4.11 撤销和重做 56 9&jQ
35 4.12 设计文档 57 IQ3n@ 4.10.1 公式 58 ku{XW8 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ?}vzLgp 4.10.3 沉积密度 59 @Q;i.u{V 4.10.4 平行和楔形介质 60 f.||PH 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Dd| "iA 4.10.4 性能 61 !|B3i_n 4.10.5 保存设计和性能 64 .Y!;xB/ 4.10.6 默认设计 64 LGIalf*7 4.11 图表 64 QU:EY'2 4.11.1 合并曲线图 67 xC-BqVJ%_T 4.11.2 自适应绘制 68 {Q)dU-\ 4.11.3 动态绘图 68 E{uf\Fc 4.11.4 3D绘图 69 5k69F 4.12 导入和导出 73 ^J8uhV;w 4.12.1 剪贴板 73 (lb6]MtTHY 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 !:(C"}5wM 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 QhsMd-v 4.13 背景 77 @]f3|>I 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 dM Y
0 K 4.15 生成Rugate 84 \a"i7Caa 4.16 参考文献 91 9b1?W?" 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 [s~JceUyX 5.1 Jobs 92 7_DG 5nT 5.2 创建一个新Job(工作) 93 e
RA7i 5.3 输入材料 94 :$=|7v 5.4 设计数据文件夹 95 f'&GFL=c 5.5 默认设计 95 lR:?uZ$ 6 细化和合成 97 WSQ[.C 6.1 优化介绍 97 U^[< 6.2 细化 (Refinement) 98 D?^540,b 6.3 合成 (Synthesis) 100 lW
p~t 6.4 目标和评价函数 101 O#Z/+\U 6.4.1 目标输入 102 :cy>c2 6.4.2 目标 103 BDy5J2<<7l 6.4.3 特殊的评价函数 104 |xh&p( 6.5 层锁定和连接 104 /}Yqf`CZy 6.6 细化技术 104 KbAR_T1n 6.6.1 单纯形 105 1Ao6y.S 6.6.1.1 单纯形参数 106 Q"%QQo}} 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ;7rd;zJ 6.6.2.1 Optimac参数 108 ~Rs#|JWB2V 6.6.3 模拟退火算法 109 ;hwzYXWF 6.6.3.1 模拟退火参数 109 bni)Qw 6.6.4 共轭梯度 111 7R,qDp S 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 F.<L>
G7{1 6.6.5 拟牛顿法 112 o~#f1$|Xn 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 &|b4\uj9 6.6.6 针合成 113 I5qM.@%zB 6.6.6.1 针合成参数 114 bhD ~4Rz 6.6.7 差分进化 114 ;WD,x:>blO 6.6.8非局部细化 115 ?6f7ld5 6.6.8.1非局部细化参数 115 } B0sC%cm 6.7 我应该使用哪种技术? 116 .n`( X#,*l 6.7.1 细化 116 n!G.At'JP 6.7.2 合成 117 nL+p~Hi 6.8 参考文献 117 CbOCk:,g5 7 导纳图及其他工具 118 Q".g.k 7.1 简介 118 i5"5&r7r 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ydQ!4 7.2.1 四分之一波长规则 119 J!hFN]M<< 7.2.2 导纳图 120 EyY],W1 Y 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 X4wH/q^ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 _ 5"+Dv 7.5 斜入射导纳图 141 t<63 8`{kk 7.6 对称周期 141 T|;@T^ 7.7 参考文献 142 -#.< 12M 8 典型的镀膜实例 143 N}b^fTq 8.1 单层抗反射薄膜 145 *KJB>W%@uM 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 7?J3ci\ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 >;4!O%F 8.4 W-膜层 148 sb^mLH] 3 8.5 V-膜层 149 rkDi+D6`q 8.6 V-膜层高折射基底 150 &gn-Wb? 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 =gjDCx$| 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 CqFeF?xd8h 8.9 四层抗反射薄膜 153 8#X_# 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 _?`&JF |