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X%iiz 内容简介 yht|0mZV Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 {FV_APL9_ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !j"r} c` 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 5[^pU$Y 3yT7;~vPj 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 \[m{ &%^G 目录 ,{{e'S9cy Preface 1 P.G`ED|K!Y 内容简介 2 DI/yHs 目录 i >lZ9Y{Y4v 1 引言 1 @9yY`\"ed 2 光学薄膜基础 2 @m*^v\q<u 2.1 一般规则 2 Bismd21F6= 2.2 正交入射规则 3 x.d;7 2.3 斜入射规则 6 g\%vkK&I 2.4 精确计算 7 lPA:aHcj 2.5 相干性 8 Ns^[Hb[b' 2.6 参考文献 10 1+P&O4> 3 Essential Macleod的快速预览 10 P)VysYb? 4 Essential Macleod的特点 32 $+#Lq.3, 4.1 容量和局限性 33 lLq9)+HGN 4.2 程序在哪里? 33 :nk $?5ib 4.3 数据文件 35 zq(R !a6 4.4 设计规则 35 ==$>M
d 4.5 材料数据库和资料库 37 0taopDi;d 4.5.1材料损失 38 VK7lm|J+ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 #dcf Q 4.5.2 材料库 41 +mc0:e{WF 4.5.3导出材料数据 43 ?f9@ 4.6 常用单位 43 Xi^#F;@sU 4.7 插值和外推法 46 58T<~u7 4.8 材料数据的平滑 50 q|Oz 4.9 更多光学常数模型 54 |2oCEb1 4.10 文档的一般编辑规则 55 =&kd|o/i
4.11 撤销和重做 56 5W
UM"eBwL 4.12 设计文档 57 (%`R{Y 4.10.1 公式 58 @@&([f 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 &y164xn'h 4.10.3 沉积密度 59 e;IzK]kP 4.10.4 平行和楔形介质 60 2m$\]\kCUv 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 zUw=e}?: 4.10.4 性能 61 [N$#&4{Je 4.10.5 保存设计和性能 64 W{z7h[?5, 4.10.6 默认设计 64 lwY2zX&%)/ 4.11 图表 64 ^o`;C\ 4.11.1 合并曲线图 67 e.8(tEqZ1 4.11.2 自适应绘制 68 *^]lFuX\&E 4.11.3 动态绘图 68 .fZ*N/ 4.11.4 3D绘图 69 =3~u.iq$ 4.12 导入和导出 73 #!a}ZhIt 4.12.1 剪贴板 73 3_AVJv
;N 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 +:JyXFu 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 h[%t7qo= 4.13 背景 77 ;@I4[4ph} 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 :$=r^LSH 4.15 生成Rugate 84 z?9vbx 4.16 参考文献 91 jJ(()EJ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 m[k@\xS4e 5.1 Jobs 92 /hNZ7\|P 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ENmfbJ4d~ 5.3 输入材料 94 hcQky/c\#b 5.4 设计数据文件夹 95 ;r**`O 5.5 默认设计 95 B~[}E]WEK 6 细化和合成 97 y@\R$`0J 6.1 优化介绍 97 n/>^!S 6.2 细化 (Refinement) 98 #&L[?jEn 6.3 合成 (Synthesis) 100 nPAVrDg
O 6.4 目标和评价函数 101 Pz=x$aY 6.4.1 目标输入 102 O@[jNs)]. 6.4.2 目标 103 -d|Q|zF^x 6.4.3 特殊的评价函数 104
+lK?)77f 6.5 层锁定和连接 104 H%}ro.u 6.6 细化技术 104 HAkEJgV 6.6.1 单纯形 105 =vqy5y 6.6.1.1 单纯形参数 106 |U~m8e&: 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 {C% #r@6 6.6.2.1 Optimac参数 108 =th(Hdk17 6.6.3 模拟退火算法 109 J\WUBt-M 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Nb[zm|. 6.6.4 共轭梯度 111 Z9TUaMhF 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2}NWFM3C 6.6.5 拟牛顿法 112 oNkASAd 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 qHAZ)Tz 6.6.6 针合成 113 s>pOfXIx 6.6.6.1 针合成参数 114 CG`s@5y>5 6.6.7 差分进化 114 QA=G+1x 6.6.8非局部细化 115 U\crp
T` 6.6.8.1非局部细化参数 115 >u6*P{;\ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 AK7IPftlH 6.7.1 细化 116 Sqc
r
- 6.7.2 合成 117 x]1G u 6.8 参考文献 117 ,-4SVj8$P 7 导纳图及其他工具 118 nBVR)|+M 7.1 简介 118 D8w:c6b 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 & o2F4 7.2.1 四分之一波长规则 119 B4/0t:^I 7.2.2 导纳图 120 \[nvdvJv 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }I1A4=d 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Lq-Di|6q 7.5 斜入射导纳图 141 @[:JQ'R= 7.6 对称周期 141 w<m)T 7.7 参考文献 142 3@d{C^\ 8 典型的镀膜实例 143 -{ae 8.1 单层抗反射薄膜 145 nb
-Je+ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 IQ& |