-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2024-11-22
- 在线时间1530小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
.t|vwx 内容简介 H Yt&MK Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 1\t}pGSOeh 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 9{\eE]0 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 #FKo:id`K &PWz4hZ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Q]Q]kj2 目录 DZKVZ_q Preface 1 H/'tSb 内容简介 2 ^XEX" E 目录 i 6T0[
~@g5 1 引言 1 ?kvkkycI 2 光学薄膜基础 2 p>7!"RF:U 2.1 一般规则 2 JnE\E(ez 2.2 正交入射规则 3 "mr;!"LA 2.3 斜入射规则 6 n_vopDMm 2.4 精确计算 7 JTB_-J-TU 2.5 相干性 8 4HEp}Y"}V 2.6 参考文献 10 ?XO$9J 3 Essential Macleod的快速预览 10 iHhoNv`MR 4 Essential Macleod的特点 32 ~E&drl\ 4.1 容量和局限性 33 {` Bgxejf 4.2 程序在哪里? 33 Z'p7I}-qr 4.3 数据文件 35 7c$;-O 4.4 设计规则 35 JVE]Qb_ 4.5 材料数据库和资料库 37 7@al)G;~ 4.5.1材料损失 38 9Y&,dBj+ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 f@Mm{3&. 4.5.2 材料库 41 @bU(z$eB 4.5.3导出材料数据 43 v`#T)5gl- 4.6 常用单位 43 o!EPF-: 4.7 插值和外推法 46 `P}T{!P+6 4.8 材料数据的平滑 50 <Okk;rj2 4.9 更多光学常数模型 54 ~jMdM~} 4.10 文档的一般编辑规则 55 %tiFx:F+ 4.11 撤销和重做 56 xB"o
7, 4.12 设计文档 57 'zV/4iE= 4.10.1 公式 58 0Pw?@uV 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 uV?[eiezD0 4.10.3 沉积密度 59 . fq[>zG'& 4.10.4 平行和楔形介质 60 @*jd.a` 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 x"0*U9f 4.10.4 性能 61 Cc^`M9dP 4.10.5 保存设计和性能 64 v&oE!s# 4.10.6 默认设计 64 C(7uvQ 4.11 图表 64 |u,2A1 4.11.1 合并曲线图 67 6KP"F[8I 4.11.2 自适应绘制 68 )? WiO}" 4.11.3 动态绘图 68 0kP,Zj< 4.11.4 3D绘图 69 `vWFTv 4.12 导入和导出 73 vQCRs!A 4.12.1 剪贴板 73 *l:5FTp 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 p|VoIQY 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 I4
dS,h 4.13 背景 77 Z=`\U?, 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Z7?C^m 4.15 生成Rugate 84 E ?(+v 4.16 参考文献 91 v
WKUV| 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 b489sa 5.1 Jobs 92 H@%Y!z@\ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Y%OE1F$6NN 5.3 输入材料 94 ilL] pU- 5.4 设计数据文件夹 95 biFy*+| 5.5 默认设计 95 * Zb-YA 6 细化和合成 97 KrN#>do&< 6.1 优化介绍 97 H: q(T
>/w 6.2 细化 (Refinement) 98 l?E7'OEF: 6.3 合成 (Synthesis) 100 Qe<DX" 6.4 目标和评价函数 101 F aO=<jYi 6.4.1 目标输入 102 @+1-_Q`s/R 6.4.2 目标 103 !X721lNP 6.4.3 特殊的评价函数 104 VaQqi>;\ 6.5 层锁定和连接 104 ]0<T,m Z 6.6 细化技术 104 z;`o>Ja2 6.6.1 单纯形 105 !l1UpJp 6.6.1.1 单纯形参数 106 6u^MfOc 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 KMZ:$H 6.6.2.1 Optimac参数 108 xJ H]>#XJ 6.6.3 模拟退火算法 109 n`<YhV 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Nq
%@(K 6.6.4 共轭梯度 111 sE7!U| 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 </0@7 6.6.5 拟牛顿法 112 iDej{95 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 2VaQxctk 6.6.6 针合成 113 $rFLhp} 6.6.6.1 针合成参数 114 eglcf z% 6.6.7 差分进化 114 q]+'{Ci@ 6.6.8非局部细化 115 ZnDI
J&S 6.6.8.1非局部细化参数 115 {p&M(W] 6.7 我应该使用哪种技术? 116 >-fOkOWXy 6.7.1 细化 116 t~m > \(& 6.7.2 合成 117 p<IMWe'tP 6.8 参考文献 117 J*s!(J |Q 7 导纳图及其他工具 118 Y(QLlJ*)/ 7.1 简介 118 U6V+jD}L] 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 A}K RXkB 7.2.1 四分之一波长规则 119 `?)ivy>\: 7.2.2 导纳图 120 ~_^#/BnAl 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "@IrBi6 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 wRu+:<o^. 7.5 斜入射导纳图 141 lJHV c"*/ 7.6 对称周期 141 O^(ji8[l 7.7 参考文献 142 5*QNE! 8 典型的镀膜实例 143 $oKT-G 8.1 单层抗反射薄膜 145 tVJ}NI # 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ?g*#ld() 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 f4Aevh: 8.4 W-膜层 148 ;`<uo$R 8.5 V-膜层 149 g_8Bhe"ik 8.6 V-膜层高折射基底 150 -7^?40A 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 B;f\H,/59 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 P9(]9np,, 8.9 四层抗反射薄膜 153 e@[9WnxYe 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 +RLHe]9& 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 $*EK
v'g[n 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 S !Dq8 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 CSF-2lSG 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 o'nju.' 8.15十五层宽带抗反射膜 159 oJ}!qrrH 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 9 -7.4!]I 8.17 1/4波长堆栈 162 26n+v(re 8.18 陷波滤波器 163 yhF{
cK= 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 4t3Y/X 8.20 褶皱 165 -yKx"Q9F 8.21 消偏振分光器1 169 BK._cDR 8.22 消偏振分光器2 171 ,CACQhrng 8.23 消偏振立体分光器 172 (6##\}L& |