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ajr);xd 内容简介 ~Qg:_ @@\ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 YJ6y]r
K2, 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 m!'moumL; 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 aL)}S%5o? oc|%|pmRd< 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 %R|_o<(#MJ 目录 2Ra}&ie Preface 1 *s=jKV# 内容简介 2 G`;YB 目录 i So6ZNh9 1 引言 1 DHI%R< 2 光学薄膜基础 2 +ConK>; 2.1 一般规则 2 a9f!f %9 2.2 正交入射规则 3 (ncm]W 2.3 斜入射规则 6 DfPC@`
k 2.4 精确计算 7 Xa,d"R~ 2.5 相干性 8 $Gy& 2.6 参考文献 10 {zckY 3 Essential Macleod的快速预览 10 H$@5\pP> 4 Essential Macleod的特点 32 7%MD0qm- 4.1 容量和局限性 33 9~rrN60Q 4.2 程序在哪里? 33 wI0NotC 4.3 数据文件 35 pqT+lai)# 4.4 设计规则 35 yG v7^d 4.5 材料数据库和资料库 37 fen~k#|l 4.5.1材料损失 38 6@rebe!&= 4.5.1材料数据库和导入材料 39 DqH?:`G 4.5.2 材料库 41 },]G +L;R 4.5.3导出材料数据 43 qj.>4d 4.6 常用单位 43 a1Kh 4.7 插值和外推法 46 nO\c4#ce 4.8 材料数据的平滑 50 <<SUIY@X 4.9 更多光学常数模型 54 $~;h}I 4.10 文档的一般编辑规则 55 NMy+=GZu^ 4.11 撤销和重做 56 xj!G9x<! 4.12 设计文档 57 uY_vX\;67z 4.10.1 公式 58 M+|J;caX 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Nn/f*GDvK 4.10.3 沉积密度 59 yIq.
m= 4.10.4 平行和楔形介质 60 .#OD=wkN0 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 m)1+D"z 4.10.4 性能 61 j@o
\d%.'! 4.10.5 保存设计和性能 64 :>q*#vlb 4.10.6 默认设计 64 8mc0(Z@ 4.11 图表 64 W"meH~[Cp 4.11.1 合并曲线图 67 5R%4fzr&g 4.11.2 自适应绘制 68 #Fwf]{J 4.11.3 动态绘图 68 H6oU Ne 4.11.4 3D绘图 69 NZQl#ZJH: 4.12 导入和导出 73 L,/(^0; 4.12.1 剪贴板 73 ,_iR 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ! N!A% 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 l ~C=yP(~ 4.13 背景 77 O;6am++M@ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 3UNmUDl[~ 4.15 生成Rugate 84 /QW-#K|S& 4.16 参考文献 91 \i.Yhl:O 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?= RC?K 5.1 Jobs 92 nYb{?{_ca8 5.2 创建一个新Job(工作) 93 q(XO_1W0V 5.3 输入材料 94 X+%5q =N 5.4 设计数据文件夹 95 JFOXrRR=d 5.5 默认设计 95 bm\Zp 6 细化和合成 97 sQ
aP:@ 6.1 优化介绍 97 pIhy3@bY 6.2 细化 (Refinement) 98 S)\Yc=~h 6.3 合成 (Synthesis) 100 45(n!"u65 6.4 目标和评价函数 101 (Do](C 6.4.1 目标输入 102 ls ,;ozU 6.4.2 目标 103 z#u<]] 5 6.4.3 特殊的评价函数 104 3*C|"|lJ 6.5 层锁定和连接 104 [B1h0IR 6.6 细化技术 104 Q~-M B]' 6.6.1 单纯形 105 ^V?W'~ 6.6.1.1 单纯形参数 106 ^ fqco9^; 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $v\o14v 6.6.2.1 Optimac参数 108 8`Iz%rw&(J 6.6.3 模拟退火算法 109 sMDHg 6.6.3.1 模拟退火参数 109 *1b1phh0/ 6.6.4 共轭梯度 111 40m>~I^q} 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 \(4kEB2s$ 6.6.5 拟牛顿法 112 o/\f+iz7 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 mGC! 7^_D` 6.6.6 针合成 113 I=c}6 6.6.6.1 针合成参数 114 +6;1.5Tc 6.6.7 差分进化 114 p->b Vt 6.6.8非局部细化 115 "eH.<& 6.6.8.1非局部细化参数 115 7\<}378/^ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 >mCS`D8 6.7.1 细化 116 ,1ceNF#oL 6.7.2 合成 117 +2 x|j> 6.8 参考文献 117 /DE`>eJY 7 导纳图及其他工具 118 "8*5!anu- 7.1 简介 118 E%e2$KfD 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 9~|hGo 7.2.1 四分之一波长规则 119 zcCGREe= 7.2.2 导纳图 120 ( SiwO.TZ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $/|2d4O:{ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 *U:0c
;h 7.5 斜入射导纳图 141 S&z8-D=8k 7.6 对称周期 141 TYu(;~ 7.7 参考文献 142 h/xV;oj 8 典型的镀膜实例 143 BWev(SF{Ny 8.1 单层抗反射薄膜 145 Kq&JvY^ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 }WM!e" 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 K0-AP
$ 8.4 W-膜层 148 .]y"04@] 8.5 V-膜层 149 R.)w
l 8.6 V-膜层高折射基底 150 ZB'ms[ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 mNdEn<W 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ,k+F8{Q. 8.9 四层抗反射薄膜 153 Sc,ajT 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 *'\xlsp# 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 }:xj%?ki 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 q7aH=dhw 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 2|:x_rcj 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 %WO4uOi:@ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 DEN (pA\ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 g?>V4WF 8.17 1/4波长堆栈 162 "H3DmsB 8.18 陷波滤波器 163 t(r}jU=qw 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 p#+Da\qmx 8.20 褶皱 165 _2wH4^Vb 8.21 消偏振分光器1 169 /PTk296@ 8.22 消偏振分光器2 171 Ojs^-R_ 8.23 消偏振立体分光器 172 bX'.hHR 8.24 消偏振截止滤光片 173 _eg& |