+pofN-*% 复杂
光学光栅结构被广泛用于多种应用,如
光谱仪、近眼显示
系统等。利用傅里叶模态法(FMM,或称RCWA) VirtualLab Fusion 提供了一种用于任意光栅结构严格分析的简单方法。利用图形用户界面,用户可以设置堆栈的几何形状,从而产生复杂的光栅结构。本案例主要集中于具有二维周期光栅结构的配置。
|tXA$}"L8
TlG>)Z@/ 1. 本案例主要说明:
J<)qw 如何在光栅工具箱中配置二维光栅结构,通过:
_Q V=3UWP - 基于介质的定义类型
+WX/4_STV - 基于表面的定义类型
"c^! LV 计算前如何改变高级选型并检查定义的结构。
N0`9/lr| 注意:在VirtualLab中,具有二维周期性的光栅结构称作3D光栅。因此,层状光栅(一维光栅)被称为2D光栅。
J-W9B amx 1.hWgW DP 2. 光栅工具箱初始化 @gUp9ZwtH 初始化
m</m9h8 - 开始→
{U4!sJSl1 光栅→
UwN Vvo 一般光栅光路图(3D光栅)
W4^L_p>Tm^ i'tMpS3
k"wQ9=HP7 注意:对于特殊类型的光栅,如柱状光栅,可以直接选择特定的光路图。
$vn6%M[ pR0[qsQM 3. 光栅结构配置 sp K8^sh 首先,必须先定义基底的厚度与
材料 A5l Cc
b 在VirtualLab中,光栅结构有一个所谓的堆栈进行定义
eJDZ|$ 堆栈可以附属在基底的一侧或两侧。
}=R]<`Sj.j 例如,堆栈选择附属在第一表面。
5Qgu:)}
;vx5 =^7P 基于介质的定义类型 TnW`#.f (例如:柱状光栅)
`oRyw6Sko 1. 堆栈编辑器
W4$o\yA] 在堆栈编辑器中,可以从库中增加和插入界面和介质。
kpOdyn( 为了以特殊材料定义光栅,必须添加两个平面界面作为边界。
8|&,JdT lu utyK!
_&KqmQ8$7 )u?f| D 两个平面界面间的介质可以使均匀的,也可以是调制的。
pEyZH!W 通过使用后者,可以非常有效地描述复杂的光栅结构,如柱状光栅。、
z]7 WC
zzmC[,u} {v={q1 2. 柱状光栅介质 ULx:2jz 在库目录“LightTrans Defined”中,在柱状介质库中可以找到铬柱。
'nmGHorp 这种类型的介质可以
模拟柱状结构以及衬底上的销孔。
UpoSC
B|`?hw@g+ 在本例中,由铬组成的矩形柱位于熔融石英基底上
unDW2#GX 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。
"2%z;!U1 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。
(leX` SN0u 请注意:界面的顺序总是从基板的表面开始计算。
#qRoTtMq7 选中的界面以红色高亮显示。
(P>nA3:UXB 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。
ct+F\:e
{i;,Io7W 可以在光学设置编辑器中更改此材料。
y<`5 gC7!cn
iUkUo x 堆栈周期允许控制整个配置的周期。
"M%R{pGA7 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。
#*A'<Zm
该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。
$<*) 5|6
VZ]iep 3. 柱状光栅介质参数 Z[O
hZ 9 通过以下参数定义柱状光栅:
HZrA}|:h
4KPnV+h"b 基材(凹槽的介质)
uYW4$6S3 柱状材料(脊的材料)
Omd; 柱的形状(矩形或椭圆形)
3Tr,waV x方向(水平方向)柱距
]2zM~ y方向(垂直方向)柱距
A;cA|`b 行移(允许行位移)
}G4I9Py 光栅周期在x和y方向
1UQ,V`y
g-3^</_fZ 根据柱栅的尺寸和距离自动计算柱栅的周期。
;@+|]I
因此,它不能单独设置,框显示为灰色。
14$%v;Su4
/R&`]9].s TE`5i~R* 4. 高级选项&信息 B>{%$@4 在传播菜单中有几个高级选项可用。
qI'pjTMDY propagation method选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
Iv6 lE:) 可以设置每个方向上考虑的总阶数或倏逝波阶数。
d+n2
c`i 这可能是有用的,尤其是如果考虑金属光栅。
'Oa3
6@
@&T' h}|: 相反,对于电介质光栅,默认设置就足够了。
wd:Yy Advanced Settings选项卡提供关于结构分解的信息。
nDi^s{ 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散性。默认设置适用于几乎所有光栅结构。
zC50 @S3|
, ['}9:f9 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。
hcVu`B n 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。
2V~E
<K- 定义的柱栅分解预览(俯视图)。
fY]"_P •VirtualLab建议将其离散化为2层(1层表示基底)。
B*/!s7 c. :'h$]p%
.0dGS 基于界面的定义类型 \?
/' (例如:截锥光栅)
&l6@C3N$ 1. 堆栈编辑器
z ]f(lwo{
j"Jf|Hq $ 2. 截锥光栅 $f@YQN= 在本例中,使用了“截锥光栅界面”。
9hr7+fW]t 这种类型的界面可以模拟圆形的高透射结构。
wx-\@{E 在本例中,锥体是由位于同一材料基体上的熔融二氧化硅制成的。
}u#3 hYa
f y2vAwl 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。
)\])?q61 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。
y&(#C:N 请注意:界面的顺序总是从基底的表面开始计算。
e&sH<hWR 选中的界面以红色高亮显示。
c0wLc,)G 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。
!B`z|# 这种材料可以在光学设置编辑器中更改。
#WjQ'c:
/? %V%
n 此外,锥体的材料会自动从界面之后的材料中取出。
sOqFEvzo1% 在本例中,这意味着使用基底(基块)的材料。
9!Av sC9 如果光栅结构是由不同的材料制成的,则必须添加额外的平面界面,以便将光栅结构与底座分离。
~d7t\S 然后根据需要选择截锥与平面界面之间的材料。
RUY7Y? 堆栈周期允许控制整个配置的周期。
[IHo
~ 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。
v4e4,Nt 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。
eb7UA=[Z 对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。
:2lpl%/ 3. 截锥光栅参数 `E|i8M3g 柱栅是一个可编程接口,由以下参数定义:
1$RJzHS
&~2m@X(o 锥高度
:E}y
Pcw 高度因子(例如允许反转结构)
<