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%)]RM/e8 内容简介 VQ`O;n6/` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 $nWmoe) 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 vi|ASA{V 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 "WL ktb.fhO 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 9rz "@LM 目录 w"J(sVy4 Preface 1 \02e
zG 内容简介 2 h~t]WN 目录 i Sj+#yct - 1 引言 1 @,.H)\a4 2 光学薄膜基础 2 #UIg<: 2.1 一般规则 2 B$j,: ^ 2.2 正交入射规则 3 iqYc&}k, 2.3 斜入射规则 6 e{/\znBS% 2.4 精确计算 7 7ac3N 2.5 相干性 8 !s:|Ddv 2.6 参考文献 10 S/aPYrk>6 3 Essential Macleod的快速预览 10 9X~^w_cdk 4 Essential Macleod的特点 32 SQK6BEjE8 4.1 容量和局限性 33 zwS'AN'A 4.2 程序在哪里? 33 iV=#'yY 4.3 数据文件 35 Zup?nP2GkT 4.4 设计规则 35 !j@ 8:j0WY 4.5 材料数据库和资料库 37 x&wUPo{ 4.5.1材料损失 38 @ck2j3J/ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 4g9VE;Gd 4.5.2 材料库 41 &gfQZxT 4.5.3导出材料数据 43 <j'#mUzd 4.6 常用单位 43 va.wdk g 4.7 插值和外推法 46 @ ri.r1 4.8 材料数据的平滑 50 w,7
GC5j\ 4.9 更多光学常数模型 54 +tF,E^ 4.10 文档的一般编辑规则 55 q ^?{6}sy 4.11 撤销和重做 56 xM,3F jF 4.12 设计文档 57 >v{m^|QqB 4.10.1 公式 58 MDpXth7 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 KN=Orx7Gy 4.10.3 沉积密度 59 -rfO"D> 4.10.4 平行和楔形介质 60 $) $sApB 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 E {MSi" 4.10.4 性能 61 <LE>WfmC 4.10.5 保存设计和性能 64 bH&H\ Mx_k 4.10.6 默认设计 64 \l~h#1|%;s 4.11 图表 64 &nYmVwi?"Q 4.11.1 合并曲线图 67 (g\'Zw5bk 4.11.2 自适应绘制 68 8V nZ@* 4.11.3 动态绘图 68 =}[V69a 4.11.4 3D绘图 69 tg:x}n 4.12 导入和导出 73 <t Nx*ce5 4.12.1 剪贴板 73 aw`mB,5U 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 sC
j3 h 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 q b'ka+X 4.13 背景 77 ]pt @ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Onl:eG;@ 4.15 生成Rugate 84 Q.
>"@c[ 4.16 参考文献 91 @S}'_g 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 'D
bHXS7N 5.1 Jobs 92 L2N/DB'{ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 PHoW|K_e 5.3 输入材料 94 p0/I}n4<5n 5.4 设计数据文件夹 95 lk}x;4]Z 5.5 默认设计 95 @ 9uwcM1F 6 细化和合成 97 2yNlQP8% 6.1 优化介绍 97 lL?;?V~ 6.2 细化 (Refinement) 98 t|//oEY 6.3 合成 (Synthesis) 100 &lD4-_2J 6.4 目标和评价函数 101 O/-xkzR* 6.4.1 目标输入 102 ;Wr$hDt^ 6.4.2 目标 103 C$_H)I 6.4.3 特殊的评价函数 104 .R1)i-^ 6.5 层锁定和连接 104 zr,jaR; 6.6 细化技术 104 ]ba<4:[Go 6.6.1 单纯形 105 W[YtNL; 6.6.1.1 单纯形参数 106 |Q{ l]D 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 0-@waK 6.6.2.1 Optimac参数 108 49CMRO,T 6.6.3 模拟退火算法 109 r6A7}v 6.6.3.1 模拟退火参数 109 kys?%Y1 6.6.4 共轭梯度 111 kn!J`"b 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 PiN3t]2 6.6.5 拟牛顿法 112 4CDmq[AVS[ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |YH1q1l 6.6.6 针合成 113 sbRg=k&Ns 6.6.6.1 针合成参数 114 Yd@9P2C 6.6.7 差分进化 114 <1"6`24 6.6.8非局部细化 115 P~~RK&+i 6.6.8.1非局部细化参数 115 Ys\l[$_`* 6.7 我应该使用哪种技术? 116 'h:4 Fzo< 6.7.1 细化 116 5K8\hoW{ 6.7.2 合成 117 i'a M#4V 6.8 参考文献 117 CxO)d7c 7 导纳图及其他工具 118 XOxm<3gXn 7.1 简介 118 I%%$O'S 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 [ML4<Eb+x 7.2.1 四分之一波长规则 119 XVY^m}pMe 7.2.2 导纳图 120 i22R3&C
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Ouj5NL 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ct/I85c@P 7.5 斜入射导纳图 141 __zsrIUJ 7.6 对称周期 141 R (6Jvub"I 7.7 参考文献 142 #0weN% 8 典型的镀膜实例 143 7UMsKE- 8.1 单层抗反射薄膜 145 p.zU9rID 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ?g9CeeH* 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 &v |