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zF[Xem 内容简介 ?hc=w 2Ci Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 nAl
\9#M 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 RMT9tXe*5 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 <Z 3C&BM _BerHoQd 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 stUv! 目录 D})/2O p Preface 1 QK0]9 内容简介 2 X=)L$Kd7 目录 i ]w;t0Bk 1 引言 1 3!gz^[!?EN 2 光学薄膜基础 2 m[2[9bQ0 2.1 一般规则 2 ||pOiR5 2.2 正交入射规则 3 qp6'n&^& 2.3 斜入射规则 6 e.DN,rhqI 2.4 精确计算 7 Ea<\a1Tl43 2.5 相干性 8
=5B5 2.6 参考文献 10 $3>Rw/, 3 Essential Macleod的快速预览 10 \:1$E[3v 4 Essential Macleod的特点 32 bF_0',W 4.1 容量和局限性 33 IO"P /Q 4.2 程序在哪里? 33 T5ky:{Y( 4.3 数据文件 35 m)pHCS 4.4 设计规则 35 XdV>6<gf{
4.5 材料数据库和资料库 37 ~zac.:a8 4.5.1材料损失 38 a B MV6' 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ejkUNCKQt 4.5.2 材料库 41 =lk'[P/p` 4.5.3导出材料数据 43 R--s
u:
4.6 常用单位 43 PDA9.b<q0 4.7 插值和外推法 46 T3
ie-G@< 4.8 材料数据的平滑 50 _zM?"16I} 4.9 更多光学常数模型 54 YQd($ 4.10 文档的一般编辑规则 55 yy8BkG( 4.11 撤销和重做 56 @^ YXE, 4.12 设计文档 57 H.{Fw j4 4.10.1 公式 58 K3
BWj33 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 b' M"To@ 4.10.3 沉积密度 59 IO8 @u;& 4.10.4 平行和楔形介质 60
gvo98Id 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Y#V(CIDe 4.10.4 性能 61 _oBx:G6E 4.10.5 保存设计和性能 64 M$ieM[_T 4.10.6 默认设计 64 P}gtJ; 4.11 图表 64 ^i_v\E[QU 4.11.1 合并曲线图 67 M\CzV$\y 4.11.2 自适应绘制 68 Ar/P%$Zfq 4.11.3 动态绘图 68 pn(i18x 4.11.4 3D绘图 69 ,#,K_oz 4.12 导入和导出 73 vqf}(/.D 4.12.1 剪贴板 73 G5t7KI 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 @aUNyyVP 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 &0Y
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4.13 背景 77 (9aOET>GG 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 i{$P.i/& 4.15 生成Rugate 84 JC~sz^>p\ 4.16 参考文献 91 LA\3 ,Uv 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 CUpRtE8@[_ 5.1 Jobs 92 t-C|x)J+ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 |-\anby< 5.3 输入材料 94 iN'T^+um= 5.4 设计数据文件夹 95 L9Zz-Dr s 5.5 默认设计 95 ZR3,dW6S 6 细化和合成 97 a9NuYYr,h 6.1 优化介绍 97 ivl %%nY' 6.2 细化 (Refinement) 98 &4WA/'>R 6.3 合成 (Synthesis) 100 $X)|`$#pL# 6.4 目标和评价函数 101 |#cqxr " 6.4.1 目标输入 102 |?0MRX0'g 6.4.2 目标 103 v ,h"u 6.4.3 特殊的评价函数 104 l
7dm@S 6.5 层锁定和连接 104 i.On{nB"k 6.6 细化技术 104 !F}GSDDV* 6.6.1 单纯形 105 ]=-=D9ZS3 6.6.1.1 单纯形参数 106 ;rL1[qwk 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 X!z-J> 6.6.2.1 Optimac参数 108 xu-bn 6.6.3 模拟退火算法 109 .bp#YU,m 6.6.3.1 模拟退火参数 109 )^qXjF 6.6.4 共轭梯度 111
dI7rx+L 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ERK{smL 6.6.5 拟牛顿法 112 $RI$VyAjD 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 _8 K|2$X 6.6.6 针合成 113 Nes|4Z< 6.6.6.1 针合成参数 114 ynMYf 6.6.7 差分进化 114 PuZzl%i
P3 6.6.8非局部细化 115 JleClB(2n/ 6.6.8.1非局部细化参数 115 o?M ;f\Fy 6.7 我应该使用哪种技术? 116 #X*);cn 6.7.1 细化 116 Gy["_;+xU 6.7.2 合成 117 AdDR<IW 6.8 参考文献 117 *!`&+w 7 导纳图及其他工具 118 "\;n t5L 7.1 简介 118 rBL2A 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 & |