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=E8lpN' 内容简介 OA_:_%a( Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 C+cSy'VIK! 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 d3+pS\&IX? 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ^UZEdR; `)&-;CMY 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 !,+peMy 目录 ,o]"G[Jk Preface 1 m\__Fl 内容简介 2 .ZFs+8qU> 目录 i gdRwh 1 引言 1 } '. l'% 2 光学薄膜基础 2 =4"D8UaHr 2.1 一般规则 2 @|6n.'f+ 2.2 正交入射规则 3 KTD# a1W 2.3 斜入射规则 6 *T*=~Y4kE 2.4 精确计算 7 @H"~/ m_o 2.5 相干性 8 3 ~0Z.!O 2.6 参考文献 10 |Ma"B4 3 Essential Macleod的快速预览 10 Pq>r|/~_ 4 Essential Macleod的特点 32 YBN@{P$ 4.1 容量和局限性 33 u{,e8. Z 4.2 程序在哪里? 33 j8$*$| 4.3 数据文件 35 DmM<Kkg.J 4.4 设计规则 35 Vz!W(+ 4.5 材料数据库和资料库 37 znw\Dn?g 4.5.1材料损失 38 r]sv50Fy 4.5.1材料数据库和导入材料 39 SG2s!Ht 4.5.2 材料库 41 -LJbx<' 4.5.3导出材料数据 43 Ig t:M[
/ 4.6 常用单位 43 ".O+";wk 4.7 插值和外推法 46 m:59f9WXA 4.8 材料数据的平滑 50 2K'3ry)[y 4.9 更多光学常数模型 54 \C5 YVl# 4.10 文档的一般编辑规则 55 Eg-3GkC 4.11 撤销和重做 56 p [4/Nq,c 4.12 设计文档 57 o"->RC 4.10.1 公式 58 //nR=Dy{ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %<CahzYc6 4.10.3 沉积密度 59 Q>] iRx>MZ 4.10.4 平行和楔形介质 60 \Y_2Z/ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 r j#K5/df 4.10.4 性能 61 %Wkvo-rOq 4.10.5 保存设计和性能 64 8rAOs\ys 4.10.6 默认设计 64 V.vA~a 4.11 图表 64 w7cciD| 4.11.1 合并曲线图 67 MU4/arXy 4.11.2 自适应绘制 68 "G-}
wt+P 4.11.3 动态绘图 68 X}Bo[YoY$ 4.11.4 3D绘图 69 :3M2zV
cf 4.12 导入和导出 73 Fd*)1FQKT 4.12.1 剪贴板 73 U8KB@E 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 BoE;,s>]NW 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 6e3s
| 4.13 背景 77 AA"?2dF 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 3`S|I_$(T" 4.15 生成Rugate 84 K9B_o, 4.16 参考文献 91 @r]wZ~@ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 _]a8lr+_- 5.1 Jobs 92 HpSmB[WF 5.2 创建一个新Job(工作) 93 [,Q(~Qb 5.3 输入材料 94 #;sUAR?] 5.4 设计数据文件夹 95 N=^{FZ 5.5 默认设计 95 Z{s&myd 6 细化和合成 97
DvCs 5 6.1 优化介绍 97 k
#y4pF_ 6.2 细化 (Refinement) 98 ="<5+G 6.3 合成 (Synthesis) 100
]fvU}4! 6.4 目标和评价函数 101 {"$
Q'T 6.4.1 目标输入 102 :Fz;nG-G 6.4.2 目标 103 rxH*h`Xx@ 6.4.3 特殊的评价函数 104 }CnqJ@>C5 6.5 层锁定和连接 104 P9=L?t. 6.6 细化技术 104 U]tbV<m% 6.6.1 单纯形 105 2`hc0
IE 6.6.1.1 单纯形参数 106 7cV9xIe^ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 g+;)?N*j 6.6.2.1 Optimac参数 108 7\m.xWX e 6.6.3 模拟退火算法 109 /fC@T 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Oa~|a7 `o 6.6.4 共轭梯度 111 z/6/ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 PPSf8-MLW 6.6.5 拟牛顿法 112 X~ |P 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 v- M3/* 6.6.6 针合成 113 eSo/1D 6.6.6.1 针合成参数 114 ~CiVLSH= 6.6.7 差分进化 114 35I y\ 6.6.8非局部细化 115 2c`m8EaJ 6.6.8.1非局部细化参数 115 VN`T:!& 6.7 我应该使用哪种技术? 116 p?(w! O 6.7.1 细化 116 |g<1n 6.7.2 合成 117 ~nJcHJ1nb4 6.8 参考文献 117 UQ6UZd37 7 导纳图及其他工具 118 g
/D@/AU1u 7.1 简介 118
$0>>Z 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 "S#4 7.2.1 四分之一波长规则 119 ]vj4E"2; 7.2.2 导纳图 120 Z0*Lm+d9z 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 3Z=OUhn9 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ^*.S7.;2o 7.5 斜入射导纳图 141 c&r |