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|h^G $guw 内容简介 np'M4^E; Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 3IU$ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 &geOFe}R 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 -tK;RQYax 32iWYN 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 m5'__< 目录 Q?Bjq> Preface 1 )<}VP&:X 内容简介 2 =XRgT1>e 目录 i tvj'{W 1 引言 1 j-I6QUd 2 光学薄膜基础 2 xdbu|fC 2.1 一般规则 2 Ol/2%UJXL 2.2 正交入射规则 3 jziA;6uL 2.3 斜入射规则 6 5JU(@}Db 2.4 精确计算 7 R
uFu,H- 2.5 相干性 8 %Zl_{Q]h 2.6 参考文献 10 st'?3A 3 Essential Macleod的快速预览 10 654jS! 4 Essential Macleod的特点 32 e%@[d<Ta\ 4.1 容量和局限性 33 eHnei F 4.2 程序在哪里? 33 =B o4yN 4.3 数据文件 35 &t.>^7ELF 4.4 设计规则 35 3*2&Fw!B 4.5 材料数据库和资料库 37 2\z`G 4.5.1材料损失 38 VvMU) 4.5.1材料数据库和导入材料 39 <4!&iU+; 4.5.2 材料库 41 G5XnGl}Q 4.5.3导出材料数据 43 93Ci$#<y 4.6 常用单位 43 n_xQSVI0F 4.7 插值和外推法 46 [r/Seg" 4.8 材料数据的平滑 50 JI[rIL\Ey 4.9 更多光学常数模型 54 fbx;-He! 4.10 文档的一般编辑规则 55 +poIgjq0 4.11 撤销和重做 56 j_ywG{Jk 4.12 设计文档 57 ++p&
x{ 4.10.1 公式 58 %.6?\w1e 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *> &N
t 4.10.3 沉积密度 59 9^Vx*KVrU 4.10.4 平行和楔形介质 60 bbPd&7 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 BorfEv} SN 4.10.4 性能 61 u7y7 4.10.5 保存设计和性能 64 w3?t})PB& 4.10.6 默认设计 64 @=zBF'<.9 4.11 图表 64 6 peM4X 4.11.1 合并曲线图 67 4K?H-Jco 4.11.2 自适应绘制 68 g!kRa.`u1 4.11.3 动态绘图 68 4iPua"8 4.11.4 3D绘图 69 KJvJUq 4.12 导入和导出 73 Fp|rMq 4.12.1 剪贴板 73 Y;/=3T7An 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 - m x3^ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 -5-SlQu 4.13 背景 77 I3E8vi%B. 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 y3o4%K8 4.15 生成Rugate 84 CyBM4qyH 4.16 参考文献 91 nu<!2xs, 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 koWb@V] 5.1 Jobs 92 [Ey%uh
6* 5.2 创建一个新Job(工作) 93 A'AWuj\r2R 5.3 输入材料 94 . =foXN 5.4 设计数据文件夹 95 r0$9c 5.5 默认设计 95 gZ=9Y:$ 6 细化和合成 97 7!yF5+_d 6.1 优化介绍 97 ThQEQ6y 6.2 细化 (Refinement) 98 9q@YE_ji 6.3 合成 (Synthesis) 100 v=Bh
A9[ 6.4 目标和评价函数 101 ^[\53\R~ 6.4.1 目标输入 102 ?28GQyk4 6.4.2 目标 103 "?0G^zu 6.4.3 特殊的评价函数 104 O>):^$-K% 6.5 层锁定和连接 104 uu/7Ie 6.6 细化技术 104 2'^OtM, 6.6.1 单纯形 105 bg3jo1J 6.6.1.1 单纯形参数 106 (lck6v?h 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 #&8pp8wd,} 6.6.2.1 Optimac参数 108 ]A<u eM 6.6.3 模拟退火算法 109 czsoD)N 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Gt%?[ 6.6.4 共轭梯度 111 tlxjs]{0E 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 8RT0&[ 6.6.5 拟牛顿法 112 OsSiBb,W79 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 waq_ d. 6.6.6 针合成 113 x 3co? 6.6.6.1 针合成参数 114 %>:)4A 6.6.7 差分进化 114 3\l9Sf=M| 6.6.8非局部细化 115 3LnyQ 6.6.8.1非局部细化参数 115 /Ta0}Y(y 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Ecl7=-y 6.7.1 细化 116 5OqsnL_V 6.7.2 合成 117 3bL2fsn5 6.8 参考文献 117 PaI63 ! 7 导纳图及其他工具 118 TV>R(D3T/ 7.1 简介 118 a|{<#<6n( 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 (2(;u1 7.2.1 四分之一波长规则 119 ~map5@Kd 7.2.2 导纳图 120 R/FV'qy] 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >;U%~yy}qc 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 <@ex})su 7.5 斜入射导纳图 141 CbaAnm1 7.6 对称周期 141 ^
J@i7FOb 7.7 参考文献 142 90696v. 8 典型的镀膜实例 143 "1 TM 8.1 单层抗反射薄膜 145 I:)#U[tn0 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 eOO*gM= 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 WjxBNk'f 8.4 W-膜层 148 F88SV6 8.5 V-膜层 149 >h-6B= 8.6 V-膜层高折射基底 150 2Sd6b 2- 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 sWzXl~JbF 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 #Z5Wk 8.9 四层抗反射薄膜 153 _IGa8=~ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 " yl"A4p
S 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 @?AE75E{ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 7uH{UpslJ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 %31K*i/] 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 w|*G`~l09 8.15十五层宽带抗反射膜 159 'QS~<^-j" 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 (&x\,19U$ 8.17 1/4波长堆栈 162 0`zq*OQ 8.18 陷波滤波器 163 BrmFwXLP" 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ?^GsR[-x 8.20 褶皱 165 XE%6c3s 8.21 消偏振分光器1 169 Z+Zh;Ms 8.22 消偏振分光器2 171 rxA)& |