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uPtHCP6 内容简介 &$?i Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2 #+g4 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 1wqsGad+; 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 FrNW@ [@qUQ,Ie 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 5 ^\f[} 目录 \q8D7/q Preface 1 -;?5<>zZ 内容简介 2 t7%!~s=,M 目录 i TZ7{cekQ 1 引言 1 8 '2lc 2 光学薄膜基础 2 ~!,Q<? 2.1 一般规则 2 O_p:`h:;M 2.2 正交入射规则 3 `aS9o]t 2.3 斜入射规则 6 \c! LC4pE 2.4 精确计算 7 3}H"(5dL}z 2.5 相干性 8 _faI*OY8 2.6 参考文献 10 $UZ4,S?V 3 Essential Macleod的快速预览 10 I!)gXtJA" 4 Essential Macleod的特点 32 ezt_ct/Z 4.1 容量和局限性 33 J]f\=;z;<a 4.2 程序在哪里? 33 R;X8%' 4.3 数据文件 35 +McKyEa 4.4 设计规则 35 I
[J0r 4.5 材料数据库和资料库 37 %^l77:O 4.5.1材料损失 38 }[u 9vZL 4.5.1材料数据库和导入材料 39 |f^/((:D 4.5.2 材料库 41 0 mWfR8h0 4.5.3导出材料数据 43 m<BL/7 4.6 常用单位 43 N.q4Ar[x#p 4.7 插值和外推法 46 ]u_^~ 4.8 材料数据的平滑 50 62}bs/% 4.9 更多光学常数模型 54 v UAYYe 4.10 文档的一般编辑规则 55 #;RP ?s 4.11 撤销和重做 56 !}()mrIlP 4.12 设计文档 57 qVFz-!6b 4.10.1 公式 58 _c|>m4+X 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 _9Kdcoh 4.10.3 沉积密度 59 q4$R?q:^ 4.10.4 平行和楔形介质 60
]D7z&h 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 $}S5& 4.10.4 性能 61 }TRr*]
P<% 4.10.5 保存设计和性能 64 5FHpJlFK, 4.10.6 默认设计 64 g
S;p:: 4.11 图表 64 0>-l {4srs 4.11.1 合并曲线图 67 _tQ=ASe0 4.11.2 自适应绘制 68 Nh41o0 4.11.3 动态绘图 68 J-fU,*Bk 4.11.4 3D绘图 69 /D_8uTS>d[ 4.12 导入和导出 73 0.nS306
4.12.1 剪贴板 73 piO+K!C0n: 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Y}"|J ~ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 p;) ;Vm+8 4.13 背景 77 J1"u,H F*( 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ~?aq=T 4.15 生成Rugate 84 1+o >#8D 4.16 参考文献 91 4i[3|hv' 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 "HVwm>qEi 5.1 Jobs 92 C["^%0lj 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Z>a_vC 5.3 输入材料 94 V0L^pDLOV 5.4 设计数据文件夹 95 1,W%t\D 5.5 默认设计 95 9U58# 6 细化和合成 97 H(]lqvO 6.1 优化介绍 97 neQ2+W%oj 6.2 细化 (Refinement) 98 lw? f2_fi 6.3 合成 (Synthesis) 100 <l5{!g 6.4 目标和评价函数 101 f+s'.z% 6.4.1 目标输入 102 E[LXZh 6.4.2 目标 103 G4s!q1H 6.4.3 特殊的评价函数 104 AY0o0\6cw 6.5 层锁定和连接 104 \XMl8G 6.6 细化技术 104 YFLWkdqAY 6.6.1 单纯形 105 U%_a@&< 6.6.1.1 单纯形参数 106 1_/\{quE 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 e\.|d<N? 6.6.2.1 Optimac参数 108 kOR%<#:J 6.6.3 模拟退火算法 109 Q-}oe Q 6.6.3.1 模拟退火参数 109 t2+m7*76 6.6.4 共轭梯度 111 4ej$)AdW3 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 UNYU2ze' 6.6.5 拟牛顿法 112 h&yaug,. 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 u[ s+YGS 6.6.6 针合成 113 jzEimKDE's 6.6.6.1 针合成参数 114 \I,<G7!0 6.6.7 差分进化 114 7=T0Sa*; 6.6.8非局部细化 115 J~<:yBup} 6.6.8.1非局部细化参数 115 GFlsI-*` 6.7 我应该使用哪种技术? 116 )J (ekfM 6.7.1 细化 116 )R,* 6.7.2 合成 117 r9s1\7]x 6.8 参考文献 117 :!tQqy2 7 导纳图及其他工具 118 ?ArQ{9c 7.1 简介 118 X.Z?Ie 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ;=)CjC8) 7.2.1 四分之一波长规则 119 %DPtK)X1 7.2.2 导纳图 120 [Bpgb57En 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 sTv/;* 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 K~,,xsy,G& 7.5 斜入射导纳图 141 |EU}& |