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JLoF!MK} 内容简介 {%R^8 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 l6/VJ~(}' 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $4nAb^/ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @NL cO} 8s1nE_3 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 m\6/:~qWW 目录 uuC ["Z Preface 1 .^Sglo 内容简介 2 Ie.*x'b?y 目录 i y [8;mCh 1 引言 1 4S<M9A} 2 光学薄膜基础 2 (pxH<k=Ah 2.1 一般规则 2 Eomfa:WL 2.2 正交入射规则 3 )+G"57p 2.3 斜入射规则 6 qoO`)< 2.4 精确计算 7 3p%e_? 2.5 相干性 8 ZL(
j5E 2.6 参考文献 10 hNN>Pd~; 3 Essential Macleod的快速预览 10 @J[@Pu O 4 Essential Macleod的特点 32 SqM>xm 4.1 容量和局限性 33 t'n@yX_ 4.2 程序在哪里? 33 v(1 [n]y 4.3 数据文件 35 B9maz"lJ 4.4 设计规则 35 ~g{j)"1 4.5 材料数据库和资料库 37 J:Cr.K` 4.5.1材料损失 38 M3tl4%j 4.5.1材料数据库和导入材料 39 r9[S%Def 4.5.2 材料库 41 $.PRav 4.5.3导出材料数据 43 lsz3'!%Y) 4.6 常用单位 43 YuK+N 4.7 插值和外推法 46
%?ElC 4.8 材料数据的平滑 50 G4*
LO 4.9 更多光学常数模型 54 3l{V:x!9@ 4.10 文档的一般编辑规则 55 aAg Qv* 4.11 撤销和重做 56 7Ak<e tHD 4.12 设计文档 57 (RddR{mX 4.10.1 公式 58 7he73 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Q5,zs_j 4.10.3 沉积密度 59 vqm|D&HU 4.10.4 平行和楔形介质 60 'C]w3Rh' 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 yf&g\ke 4.10.4 性能 61 #l=yD]tPU 4.10.5 保存设计和性能 64 -D`1z?zHra 4.10.6 默认设计 64 :zY4phR 4.11 图表 64 8y
LcTA$T 4.11.1 合并曲线图 67 ^O07GYF 4.11.2 自适应绘制 68 l6 G6H$ 4.11.3 动态绘图 68 rzfLp 4.11.4 3D绘图 69 U=Ps# 4.12 导入和导出 73 s<I)THC 4.12.1 剪贴板 73 PLCm\Oh$l 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 8 v/H;65 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 r w?wi}}gn 4.13 背景 77 R(1:I@<?E 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 c]6b|mHT 4.15 生成Rugate 84 c!EA>:;(< 4.16 参考文献 91 _{[6hf4p 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Y2`sL,'h 5.1 Jobs 92 wvv+~K9jq 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Y~"tL(WfJl 5.3 输入材料 94 JipNI8\r 5.4 设计数据文件夹 95 AyE*1 FD 5.5 默认设计 95 Z@bgJL83 6 细化和合成 97 Ac:`xk< 6.1 优化介绍 97 & NYaKu,} 6.2 细化 (Refinement) 98 GcV/_Y 6.3 合成 (Synthesis) 100 S\GWMB!oF 6.4 目标和评价函数 101 (?z?/4>7< 6.4.1 目标输入 102 &jDN6n3z 6.4.2 目标 103 mskG2mA 6.4.3 特殊的评价函数 104 I}`pY3 6.5 层锁定和连接 104 q[s,q3n~ 6.6 细化技术 104 LU6R"c11 6.6.1 单纯形 105 Kb; *"@LX 6.6.1.1 单纯形参数 106 8eXeb|?J 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 &~:EmLgv 6.6.2.1 Optimac参数 108 X=QX9Ux?^ 6.6.3 模拟退火算法 109 5rsz2;#p 6.6.3.1 模拟退火参数 109 9Yt|Wj 6.6.4 共轭梯度 111 kV'zAF
v 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /YJo"\7 6.6.5 拟牛顿法 112 lNX*s
E
. 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -P;3BHS$T
6.6.6 针合成 113 +XWTu! 6.6.6.1 针合成参数 114 lR?y
tIY 6.6.7 差分进化 114 "r^RfZ; 6.6.8非局部细化 115 ;\pr05 6.6.8.1非局部细化参数 115 ex>7f%\ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 um9&f~M 6.7.1 细化 116 E@ea?Sx 6.7.2 合成 117 }qWnn>h9xv 6.8 参考文献 117 FGVw=G{r 7 导纳图及其他工具 118 w%L4O;E]*{ 7.1 简介 118 *7AB0y0k 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 64'2ICf#m 7.2.1 四分之一波长规则 119 ^G!cv 7.2.2 导纳图 120 ]]|#+$ ~ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 rN1]UaT 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 gC$_yd6m
L 7.5 斜入射导纳图 141 B-
@bU@H 7.6 对称周期 141 6,q0F*q 7.7 参考文献 142 OY1bFIE 8 典型的镀膜实例 143 L?ZSfm2< 8.1 单层抗反射薄膜 145 o*K7(yUL4 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 _hY6NMw 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 sc*R:" 8.4 W-膜层 148 S)hDsf.I 8.5 V-膜层 149 d(^8#4
8.6 V-膜层高折射基底 150 []>rYZ9bv 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 q^xG%YdPz+ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 L2@:?WW[ 8.9 四层抗反射薄膜 153 #Us<#"fC 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ?s, oH 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 &$s:h5HoX 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 vjX,7NY? 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 $}vk+.!*1 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 |uy@v6 8.15十五层宽带抗反射膜 159 _|e&zr 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 O
_9r-Zt^ 8.17 1/4波长堆栈 162 Bw;isMx7 8.18 陷波滤波器 163 (Z<@dkO?) 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 b_sasZo 8.20 褶皱 165 j& |