*Q [%r 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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4tiCxf) S ="\ S 建模任务 F%ukT6xp
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`sdbo](76 eZpi+BRS6 入射平面波
#B$_ily) 波长 2.08 nm
#s=\ 光斑直径: 3mm
@MH/efW. 沿x方向线偏振
oXwcil kzKQ5i $G 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
gU@.IOg 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
O,&p"K&Z <UwA5X`0e. 概览 t(^Lh.<a •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
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#Yk •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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}WNgKw 光线追迹模拟 P^/e!%UgC •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
y5V]uQSD •点击Go!
Y,%G5X@S< •获得3D光线追迹结果。
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H? pWyc<, J{#C<C 光线追迹模拟 BjUz"69 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
g5~1uU$O •单击Go!
75H5{#) •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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Dmk~t="Y X@7e7 光场追迹模拟 j0K}nS\ P •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
gY@$g •单击Go!
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JMYM}G T$xY]hqr 光场追迹结果(照相机探测器) !eB&3J
^pZ\: •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
W-U[7n •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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g~=#8nJ 8:0.Pi(ln@ 光场追迹结果(电磁场探测器) -RnQ8Iuo }3mIj<I1; •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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