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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-11-22
    Ls` [7w  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 M '#a.z%  
    \_]X+o;  
    OU esL9  
         J6I:UML  
    建模任务 F1)5"7f  
    ?Gl]O3@3  
    N<PDQ  
    概述 @tvz9N  
    /rIyW?& f  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 re~T,PPM  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 {sfA$ d0  
    *\(MG|S  
    B[,AR"#b  
    SF=TG84<  
    光线追迹仿真 GoLK 95"]  
    FS)"MDs  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 I`f5)iF?0  
    •单击go! 02_+{vk!  
    •获得了3D光线追迹结果。 5%%e$o+  
    z"97AXu  
    yAiO._U  
    4_`(c1oA  
    光线追迹仿真 ysj5/wtO0  
    bp!Jjct  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 AP1&TQ,&  
    •单击go! V3>tW,z  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 Bd]k]v+  
    lrAhdi  
    C-@[=  
    RR+{uSO,t  
    场追迹仿真  k^Q.lb {  
    ", p5}}/  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 5a-x$Qb9  
    •单击go! :sQ>oNnz  
    EE^x34&=  
    P8(hHuO  
         ?<`oKBn  
    场追迹仿真(相机探测器) o1vK2V  
    c: r25  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 $nb.[si\  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 o_1N "o%  
    Mj{w/'  
    }v's>Ae~p  
    OXm`n/64+  
    场追迹仿真(电磁场探测器) R RE8|%p;B  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 R_O=WmD  
    ?j0yT@G  
    ?ac4GA(  
         <PVwf`W.  
    场追迹仿真(电磁场探测器) -p>~z )  
    pI:,Lt1B  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ME$J42  
    b[GhI+_  
     
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