Ls`[7w 高数值
孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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OU
esL9 J6I:UML 建模任务 F1)5"7f ?Gl]O3@3
N<PDQ 概述 @ tvz9N /rIyW?& f •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
re~T,PPM •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
{sfA$ d0 *\(MG|S
B[,AR"#b SF=TG84< 光线追迹仿真 GoLK
95"] FS)"MDs •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
I`f5)iF?0 •单击go!
02_+{vk! •获得了3D光线追迹结果。
5%%e$o+ z"97AXu
yAiO._U 4_`(c1oA 光线追迹仿真 ysj5/wtO0 bp!Jjct •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
AP1&TQ,& •单击go!
V3>tW,z •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
Bd]k]v+ lrAhdi
C-@[= RR+{uSO,t 场追迹仿真
k^Q.lb
{ ", p5}}/ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
5a-x$Qb9 •单击go!
:sQ>oNnz EE^x34&=
P8(hHuO ?<`oKBn 场追迹仿真(相机探测器) o1vK2V c: r25 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
$nb.[si\ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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}v's>Ae~p OXm`n/64+ 场追迹仿真(电磁场探测器) R
RE8|%p;B •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
R_O=WmD ?j0yT@ G
?ac4GA( <PVwf`W. 场追迹仿真(电磁场探测器) -p>~z ) pI:,Lt1B •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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